Изобретение относится к технике дозирования количества диффузанта в его парах, получаемых в процессе его диффузии из жидкого диффузанта, в частности в полупроводниковой промышленности.
Известны способы дозирования диффузанта при диффузии, например, бора и фосфора из жидких источников ВВгз, РС1з и РОС1з путем регулирования расхода газоносителя, проходящего через объем с жидким диффузантом, или дозирование ордоранта, путем регулирования температуры его насыщенных паров, полученных пропусканием газоносителя через объем жидкого ордоранта при повыщенной температуре. Эти способы не позволяют достаточно просто осуществить точное дозирование диффузанта.
Ло предлагаемому способу для упрощения процесса при сохранении точности дозирования регулируют количество диффузанта изменением площади поверхности испарения и подбирают расход газоносителя из условия полного захвата им диффузанта из испарителя.
Предмет изобретения
Способ дозирования диффузанта, основанный на переносе его паров газоносителем, проходящим через испаритель, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса при сохранении точности дозирования, регулируют
количество диффузанта изменением площади поверхности испарения и подбирают расход газоносителя из условия полного захвата им диффузанта из испарителя.
