Изобретение относится к пищевой промышленности, в частности к способам регулирования процесса получения кристаллических продуктов, например, пищевой соли. Известен способ автоматического регулирования процесса получения кристаллических продуктов, например, в многокорпусных вакуум-выпарных установках с внещним пароотбором, заключающийся в поддержании температуры греющего пара первого корпуса, вакуума в конденсаторе и регулировании подачи свежего раствора. С целью увеличения выхода кристаллического продукта и уменьшения удельного расхода пара по предлагаемому способу подачу свежего раствора в каждый корпус выпарной установки регулируют в зависимости от расхода вторичного пара и концентрации раствора соответствующего корпуса, поддерживая содержание кристаллов в пульпе на верхнем допустимом пределе. В основу способа положена взаимосвязь величины расхода свежего раствора, поступающего в t-й корпус, с производительностью корпуса, которая выражается формулой с IK/ (1 - д)кр + а J ,. ° (1-а) где SQ - расход подаваемого в г-й корпус свежего раствора; Vi - весовая производительность 1-го корпуса по пару; а - верхний допустимый предел отнощения веса кристаллов, содержащихся в пульпе, к весу пульпы; Ьо - концентрация исходного раствора; ЬКР - концентрация раствора, при которой происходит процесс кристаллизации. рмула I выводится из следующих урав:+ 6кр5„ +5 - 6, кр5,, (П) р -(/-I) (i-i) , s,. + s,,,+ s,,,,,-w,-s, - весовой расход свежего раствора, поступающего в г-й корпус; - весовой расход маточного раствора (жидкой фазы), выходящего из i-ro корпуса; - весовой расход кристаллического продукта, содержащегося в выходящей из i-ro корпуса пульпе; i - весовая производительность 1-го корпуса по пару; Ьо-концентрация исходного раствора; &ICP - концентрация раствора, при которой происходит процесс кристаллизации.
Верхний допустимый предел содержания кристаллов в пульпе равен
ф- «(IV)
-
и подставляя формулу (III) в формулу (II) после несложных преобразований получаемформулу (I).
Величина; &кр для каждого корпуса является практически постоянной величиной, поэтому из уравнения (I) видно, что требуемый расход подаваемого в корпус свежего раствора может быть рассчитан, если известна производительность корпуса по выпаренной воде и концентрация свежего раствора.
Предлагаемый способ регулирования оказывается наиболее целесообразным в том случае, когда отсутствуют Н1адежные приборы автоматического контроля содержания кристаллов в пульпе.
На чертеже представлена блок-схема системы автоматического регулирования, поясняющая сущность предложенного способа (известные контуры регулирования температуры греющего пара, вакуума в конденсаторе на чертеже не показаны).
На чертеже представлен только один корпус многокорпусной вакуумно-выпарной установки. Для остальных корпусов схема аналогичная.
Блок-схема содержит датчик / расхода вторичного пара, регулирующий орган 2 подачи свежего раствора в корпус, датчик 3 расхода свежего раствора, датчик 4 концентрации свежего раствора, вычислительное устройство 5, регулятор 6 расхода свежего раствора и корпус 7 многокорпусной вакуумно-выпарной установки.
Производительность по выпаренной воде каждого вдр/iyca измеряется датчиком 1, сигнал которого подается на вход вычислительного устройства, 5.
Кроме этого, на вход вычислительного устройства подается сигна(П; от датчика 4, измеряющего кондант-рацию исходного раствора. Вычислетельное устройство осуществляет расчет необходимой добавки свежего раствора и
выдает соответствующее задание регулирующему органу 2 подачи раствора.
Когда при постоянном положении регулирующего органа расход свежего раствора не изменяется (отсутствуют возмущения по расходу раствора), то необходимость в регуляторе отпадает, nipH этом команда с вычислительного устройства 5 подается непосредственно на регулирующий орган 2. .
Предмет изобретения
Способ автоматического регулирования процесса получения кристаллических продуктов,
например, в многокорпусных вакуум-выпарных установках с внешним пароотбором, заключающийся в поддержании температуры греющего пара первого корпуса, вакуум в конденсаторе и регулировании подачи свежего
раствора, отличающийся тем, что, с целью увеличения выхйда кристаллического продукта и уменьшения удельного расхода пара, подачу свежего раствора в каждый корпус выпарной установки регулируют в зависимости от расхода вторичного пара и концентрации свежего раствора соответствующего корпуса, поддерживая содержание кристаллов в пульпе на верхнем допустимом пределе.
Вгпоричный1
)L
rm
Сбежии раствор
