ИЗМЕРИТЕЛЬНЫЙ МЕХАНИЗМ Советский патент 1973 года по МПК G01D5/36 

1

Изобретение относится к области измерительной техники и может быть применено для автоматического регулирования, контроля и управления производственными процессами.

Известны измерительные механизмы, выполненные на основе оптикатора или в виде фотоэлектрического датчика, в которых регистрируется величина отклонения светового луча. Однако эти устройства имеют большие габариты, определяемые диаметром цилиндрического зеркала и суммарной высотой подвижной части и фотоэлемента, оси которых совпадают. Обработка выходного сигнала фотоэлемента ведется с использованием быстродействующих пересчетных схем, что существенно усложняет и удорожает электронную часть прибора.

В предлагаемом устройстве многощелевая диафрагма выполнена в виде кодирующей маски, различным разрядам которой соответствуют различные фотоэлементы, объединенные в набор, а оптическая ось цилиндрического зеркала смещена относительно оси вращения поворотного зеркала так, что геометрическая ось набора фотоэлементов и поворотное зеркало размещены симметрично относительно центра кривизны цилиндрического зеркала на равном расстоянии от него. Кроме того, с целью уменьшения габаритов набор фотоэлементов разделен на два ряда, размещенных

симметричную поворотному зеркалу, а под утлом относительно первого цилиндрического зеркала установлено аналогичным образом второе цилиндрическое зеркало.

На чертеже изображена схема измерительного механизма. Он содержит многощелевую диафрагму / выполненную в виде кодирующей маски в двоично-десятичном циклическом

коде или коде Грея. На рамке магнитоэлектрического измерительного механизма укреплено подвижное зеркало 2. Под некоторым углом к нему укреплено неподвижное зеркало 3. Луч света, сформированный конденсором 4,

диафрагмой 5 и объективом 6, претерпевает от подвижного зеркала двукратное отражение, благодаря чему при повороте зеркала на угол а луч поворачивается на угол 4а, что существенно повышает чувствительность всего устройства.

При отклонении подвижной системы одна часть луча света, перемещаясь вдоль цилиндрических зеркал, претерпевает отражание от

участков, расположенных против вырезов многощелевой диафрагмы и направляется к фотоэлементам 7, укрепленным в специальных держателях, а другая часть, отражаясь от неподвижного зеркала 8, проектируется на полупрозрачную шкалу 9.