ОЧИСТИТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО ЭЛЕКТРОГРАФИЧЕСКОГО Советский патент 1973 года по МПК G03G15/95 

1

Известный электрографический аппарат имеет движущийся фотополупроводннковый материал, покрывающий цилиддр, или гибкую бесконечную ленту с расположенными вокруг электрографического слоя технологическимл устройствами эле(ктропра|фичею,кого п роцесса (зарядки, экспозиции, проявления, переноса изображения на несущую поверхность, например бумагу, и очистки материала от остатков порошкового проявителя). Для очистки материала от остаточного порошкового изображения служит очистительное устройство, которое содержит гибкое очищающее лезвие с угловатым острием, установленное под углом к контактируемому с ним движущемуся фотополупроводниковому материалу с остатками проявителя. При этом лезвие здаляет проявитель путем срезания его с материала, для чего острый угол, образуемый между лезвием и поверхностью, несущей скрытое электростатическое изображение, направлен в сторону, противоположную движению материала. При таком действии лезвия очистительного устройства возможен быстрый износ очищаемого материала при неоднократном его использовании.

В предлагаемом очистительном устройстве электрографического аппарата лезвие имеет соскабливающее действие и образует угол от 20 до 90° с очищаемой поверхностью. При этом

угол своей верщииой направлен в сторону движения материала. По мере накопления проявителя на лезвии при очистке оно периодически может быть отведено от очищаемого материала. В зоне очистки предусмотрены средства для подачи на фотополупроводниковый слой сухого твердого смазочного материала. Очищающее лезвие может состоять из нескольких лезвенных сегментов или может быть применено несколько гибких очищающих лезвий. Для саморегулирования положения лезвие установлено шарнирно относительно фотополупроводннкового слоя.

Кроме того, фотополупроводниковый материал, покрывающий цилиндр, может иметь одну или несколько параллельных канавок, проходящих аксиально вдоль материала, а очищающее лезвие 1может иметь средство для ограничения его перемещения, не долускающее

попадание лезвия в канавку. При этом длина каждой из канавок должна быть меньще ширины фотополупроводникового материала и длины каждого из гибких очищающих лезвий. На фиг. 1 схематическ и изображен электрографический аппарат с одним из вариантов очист;ительного устройства согласно изобретению, поперечный разрез, на фиг. 2 - то же, но с другим вариантом исполнения очищающего лезвия и канавками на поверхность материала; на фиг. 3-5 различные варианты

расположения-очищающего лезвия относительно поверхности фотополупроводникового материала; на фиг. 6-7 - схема крепления очищающего лезвия; на фиг. 8 - очищающее лезвие, состоящее из нескольких сегментов; на фиг. 9-И - расположение очищающих лезвий и аксиальных канавок относительно фотополупроводникового .материала; на фиг. 12- вариант исполнения электрографического аппарата.

Электрографяческий аппарат содержит вращающийся цилиндр /, покрытый фотополупроводняковым слоем 2, однородно заряженным при помощи генерирующего корану устройства 3. Вокруг вращающегося цилиндра в технологической последовательности :размещены устройство 4 для экспонирования изображения на фотополупроводниковый материал, проявляющее устройство 5, в корпусе которого помещен порошок проявителя, наносимый |На поверхность светочувствительного слоя цилиндра для получения ксерографического порощкового изображения, которое переносится на движущееся бумажное полотно 6, закрепляемое затем, например, при помощи нагревателя 7.

Для очистки поверхности материала от остатка проявителя служит очистительное устройство 8, под которым может быть установлен лоток 9 для сбора проявителя.

Очистительное устройство содержит гибкое очищающее лезвие W, например, прямоугольного сечения, которое для самоустановки подвижно закреплено в поворотном держателе 11 на оси 12. Лезвие контактирует с очищаемой поверхност ью и установлено под углом к ией, (угол а). При нормальной работе устройства угол а составляет 20-90°. Верщина угла лезвия должна быть направлена в сторону движения материала для обеспечения соскабливающего действия лезвия, iKOTOipoe усиливается под действием веса лезвия и его держателя.

Лезвие может быть установлено с наклоном верщены в сторону движения накапливаемого проявителя (фиг. 3 и 4) и с наклоном в противоположную сторону движению материала (фиг. 5). При этом верщина угла должна быть направлена в сторону движения материала.

По мере накопления проявителя на лезвии последнее отводится от материала при помощи кулачкового механизма, содержащего кулачок 13, укрепленный иа держателе лезвия и периодически взаимодействующий при повороте цилигндра со вторым кулачком 14, неподвижно зафиксированным на цилиндре. При повороте последнего кулачки контактируют один с другим, причем кулачок 14 перемещается по криволинейной поверхности кулачка IS, в результате чего держатель с лезвием приподнимается над поверхностью цилиндра, обеспечивая свободное движение цилиндра. Остатки порощка проявителя при этом перемещаются вместе с цили,ндром и поступают в резервуар

проявляющего устройства 5 для повторного использования.

Давление, оказываемое на поверхность материала в результате совместного действия 5 лезвия с держателем и веса кулачка, уравновешивается пружиной 15.

В качестве варианта исполнения очищающее лезвие может состоять из нескольких гибких лезвенных сегментов 16, которые закреплены в пластинах 17 и 18 прсн помощи заклепок. Каждый из сегментов лезвия может перемещаться через любую неровность поверхности очищаемого материала (фиг. 8).

Для саморегулирования положения лезвия держатель 19 его может быть щарнирно установлен относительно поверхности цилиндра / в сочленениях 20 и 21, свободно поворачивающихся относительно один другого (фиг. 7).

Очистительное устройство может иметь не0 сколько гибких лезвий 22-24, распределенных по всей, длине очищаемой поверхности материала. Лезвия в этом случае могут быть закреплены в общем держателе 25.

Длина очищающих лезвий может быть меньще щирины очищаемого материала (фиг. 11), при этом лезвия 26-28 закреплены в держателях 29-31 и длина каждого из них меньще щирины цилиндра 1.

Для сбора остатков проявляющего порощ ка .на поверхности фотопроводникового материала может быть выполнено одна или несколько параллельных канавок 32-34, расположенных аксиально вдоль оси цилиндра. Пр1И этом длина каждой из канавок может быть меньще ширины фотополупроводникового материала и меньще, чем длина каждого очищающего лезвия (фиг. 11). По этому варианту исполнения гибкое очищающее лезвие 35 также подвижно укреплено под углом к очищаемому материалу в поворотном держателе 36 (фиг. 2).

Лезвие находится под действием пружины 37, прижимающей его к поверхности материа5 ла. Винт 38, установленный в кронщтейне 39, ограничивает нижнее положение лез&ия.

Взаимное расположение канавок и лезвий предотвращает попадание лезвий в канавки во время движения цилиндра и обеспечивает 0 только сбор проявителя.

При вращении цилиндра остатки порошкового проявителя соскабливаются с пове:рхности материала и перемещаются лезвием вдоль поверхности до попадания остаточного порощка 5 в каиавки, где скапливаются и при повороте цилиндра сбрасываются в резервуар проявляющего устройства 5.

В зоне очистки поверхности фотополупроводникового материала предусмотрено средство для подачи на материал сухого твердого 0 смазочного материала. В частном случае твердый смазочный материал смешивают с порошковым проявителем в резервуаре проявляющего устройства 5 и подают на поверхность 5 фотополупроводникового материала вместе с проявителем.,, .

В другом случае сухой, смазочный материал содержится в распылителе 40 и выпускается из него на поверхность материала через отверстие 41.

По следующему варианту исполнения (фиг. 12) электрофотографический аппарат имеет в качестве многократно используемого фотополупроводникового материала гибкую бесконечную ленту 42, перемещаемую вдоль технологических устройств электрофотографического процесса. В этом .варианте заряженная, экспонированная в зоне 43, а затем проявленная при помощи устройства 44 поверхность пропускается через порошковое облако сухого твердого смазочного материала в камере 45, откуда подается в зону 46 переноса изображения на движущуюся бумажную полосу 47.

Остатки проявителя обрабатываются коронирующим электродом 48 для снятия заряда, а затем счищаются с поверхности материала очистительным устройством 49 и собираются в лоток. Очищаются остатки проявителя лезвием, закрепленным в подвижном держателе.

Предмет изобретения

1. Очистите л вное уст роЙ1ст1во электрографического аппарата, содержащее гибкое очищающее лезвие с угловатым острием, установленное под углом к контактируемому с ним перемещающемуся фотополупроводниковому материалу с остатками проявителя, отличающееся тем, что, с целью обеспечения соскаблива ющего действия лезвия и меньшего износа очищаемого материала, лезв:ие установлено так, что образует угол 20-90° с очищаемым материалом, направленный своей вершиной в

сторону движения материала, причем по мере накопления проявителя на лезвии, ано может быть отведено от очищаемого материала, а в зоне очистки предусмотрены средства для подачи на фотополупроводниковый материал сухого твердого смазочного материала.

2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что очищающее лезвие состоит из .нескольких лезвенных сегментов.

3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что предусмотрено несколько гибких очищающих лезвий.

4.Устройство по п. 1, отличающееся тем, что длина каждого из гибких очищающих лезВИЙ меньше ширины очищаемого материала.

5.Устройство по п. 1, отличающееся тем, что фотополупроводниковый материал, покрывающий цилиндр, имеет, по крайней мере, одну канавку, проходящую аксиально вдоль матернала, а очищающее лезвие снабжено средством для ограничения его перемещения, не допускающим попадания лезвия в канавку.

6.Устройство по п. 1, отличающееся тем, что аксиально вдоль фотополупроводиикового

материала предусмотрено несколько параллельных канавок.

7.Устройство по п. 1, отличающееся тем, что длина каждой из канавок меньше ширины фотополупроводникового материала.

8. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что длина каждой из канавок меньше, чем длина каждого из гибких очищающих лезвий.

9. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что, с целью саморегулирования лезвия, оно установлено шарнирно относительно фотопслупроводниковой поверхности.

S

,3

5

- .Л / 1 /

.3

,

4Фиг 5

а it

(i/z-B

Фиг.7

г //

3

/2