1
Известны интерференционные светофильтры, содержащие нодложку с нанесенным на ней интерференционным нокрытием из чередующихся слоев с высоким и низким показателями преломления и оптической толщиной последнего слоя, в два раза меньшей предыдущих.
В предлагаемом светофильтре между подложкой и первым слоем с высоким показателем преломления введен дополнительный слой с тем же показателем преломления и оптической толщиной в два раза больщей.
Такое выполнение обеснечивает нолучение высокого пропускапия светофильтра для заданной длины волны.
На фиг. 1 и 2 изображены спектральные кривые пронускапия светофильтров из чередующихся слоев серпистого цинка, имеющего высокий показатель преломления (В), и криолита с низким показателем преломления (Н) на подложке П из стекла К-8. По оси абписс отложена длина волны л в относительных едипн.цах /V/AO, где Яо соответствует середине зоны низкого пронускапия, по оси ординат показан кО|Эффициент пропускания Т.
На фиг. 1 цифрой / обозначена теоретическая кривая 16-тислойного отрезающего фильтра известной конструкции 16ПВНВНВ НВПВНВНВНВО, 5Н; 2- теоретическая кривая фильтра, выполненного по данному изобретению.
Па фиг. 2 цифрой 3 обозначена кривая покрытия 16ПВНВ . ... ПВО, 5П, полученная с
учетом погрешности изготовления; 4 - кривая предлагаемого фильтра, полученная для таких же погрещностей, что и кривая 3.
Светофильтр представляет собой подложку, на которой расположено интерференционное
оптическое покрытие. Подложка выполнена из материала прозрачного в спектральной зоне высокого пропускания фильтра. Покрытие состоит из чередующихся слоев с высоким пв и низким /IH ноказателями преломления. Непосредственно к подложке нримыкает слой с показателем преломления, равным «в. Его оптическая толщина в три раза больще толщины всех носледующпх слоев, кроме последнего. Фильтр можно изготовить, например, путем
термического испарения в вакууме сернистого цинка {п. пв) и криолита (), либо селенида цинка (п пъ) Б фторИ|Стого стронция (), либо другой нары веществ. Дополнительный слой на подложке, имеющий по
сравнению с прилегающими слоями двойную толщину, позволяет на 25-45% уменьшить глубину провала, расположенного на спектральной кривой пропускания фильтра между двумя ближайшими к зоне отрезания коротковолнопыми максимумами пропускания.
Предмет изобретения
Интерференционный светофишьтр, содержащий подложку с нанесенным на ней интерференционным Покрытием из чередующихся слоев с высоким и низким показателями преломления и оптической толщиной последнего слоя,
в два раза меньшей предыдущих, отличающийся тем, что, с целью получения высокого пропускания для заданной длины волны, между подложкой и первым слоем с высоким показателем преломления введен дополаительиый слой с тем же показателем преломления и оптической толщиной, в два раза больщей.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Диэлектрический узкополосный интерференционный фильтр | 1989 |
|
SU1748111A1 |
ПОЛОСОВОЙ СВЕТОФИЛЬТР | 1993 |
|
RU2079861C1 |
Широкополосное зеркало | 1985 |
|
SU1254398A1 |
О n И С А Н1ГЁ ИЗОБРЕТЕНИЯ | 1973 |
|
SU384090A1 |
Просветляющее покрытие для двух длин волн | 1988 |
|
SU1645921A1 |
Интерференционный отрезающий фильтр | 1983 |
|
SU1103179A1 |
Оптический интерференционныйОТРЕзАющий фильТР | 1979 |
|
SU847243A1 |
Оптический интерференционный блокирующий фильтр | 2022 |
|
RU2799894C1 |
Коротковолновый оптический отрезающий фильтр | 1973 |
|
SU514259A1 |
Интерференционный фильтр | 1976 |
|
SU573107A1 |
0,75 0,8 0,85 0,9 U.95 1,0
0,75 ив 0,85 0,9 0,95 1,0
- А в
ц. Фиг.} Фиг. 2
Авторы
Даты
1973-01-01—Публикация