Изобретеине относится к оптическому приборостроению и может найти примененне для изготовления отражающих фильтров, используемых в инфракрасных приборах, космической технике и т. п. Известны способы изготовления фильтров, основанные на фотометрическом методе контроля толщин наносимых пленок п смене контрольных образцов. Цель изобретения - увеличение крутизны спектральной характеристики. Для этого по предлагаемому способу после нанесения каждой пары слоев металла и диэлектрика, начиная со второй, меняют контрольный образец с двухслойным покрытием, параметры слоев которого идентичны параметрам одноименных слоев первой пары, причем нанесение слоя металла прекращают после прохождения минимума отражения и достижения коэффициента отражения, равного 5-20%, на длине волны, расположенной в зоне меньщего отражения, а осаждение диэлектрика прерывают в момент достижения наибольшей крутизны спектральной характеристики. Сущность предлагаемого способа заключается в следующем. Изготовляют четырехслойный фильтр и контрольные образцы, содержащие по одному слою металла с диэлектриком. Иараметры образцов идентичны параметрам одноименных слоев первой пары четырехслойного фильтра / т , в количестве, равном2, где т - чис 2/ ло слоев в изготовляемом фильтре. Затем наносят два последующих слоя металла и диэлектрика, для этого используют Г13ГОТОВ.Г енный ранее контрольный образец. Металл напыляют до тех пор, пока коэффициент отражения, пройдя через минимум, не достигнет величины 5-20%, а диэлектрик - до достиженпя максимальной крутизны фронта спектральной характеристики. После этого операция нанесения последующих двух слоев повторяется каждый раз с новым контрольным образцом до нанесения требуемого числа слоев. Предлагаемый способ позволяет наносить чередующиеся пленки металла и диэлектрика заданной оптической толщины и изготовлять отражающие фильтры с высокой крутизной спектральной характеристики. Предмет изобретения Способ изготовления оптического отражающего фильтра, заключающийся в нанесении чередующихся слоев металла и диэлектрика, с фотоэлектрическим контролем толщин слоев и последовательной сменой копт3рольных образцов, отличающийся тем, что, с целью увеличения крутизны спектраль- . ной характеристики, после нанесения каждои пары слоев металла и диэлектрика, начиная со второй, меняют контрольный обра-5 зец с двухслойным покрытием, параметры слоев которого идентичны параметрам одноименных слоев первой пары, причем нанесе4ние слоя металла прекращают после прохождения минимума отражения и достижения коэффициента отражения, равного 5- 20%, на длине волны, расположенной в зоне меныиего отражения, а осаждение диэлектрика прерывают в момент достижения наибольшей крутизны спектральпой характеристики.
