1
Изоб))С1-енни относится к технологчш изготовденпя электровакуумных приборов.
Изиестен снособ очистка внутренних иоьерхностей электровакуумных приборов в собранном виде путем возбуждения газово- го разряда в меисдуэлектродном пространстве.
Недостатком этого способа очистки являются трудность Ооздания газового разряда, равномерно заполняющего междуэлектродное пространство собранного очи- щаемог(з прибора, а также нарушение свойсач электродов, в частности катодов.
Предложенный способ оч 1стки внутрен- .них поверхностей электровакуумных приборов свободен от указанных недостатков. Он отличается тем, что разряд возбуждают }га частоте электромагнитного резонанса очищаемого междуэлект{юдного пространства.
На чертеже показано устройство для реализации предложенного способа очистки I электровакуумных приборов.
j Выход вспомох ательпого СВЧ-источииi ка мощности 1 через волноводный трои- 1П1К 2, в Е..-плечо которого включен ко 1откозамыкатель 3, соединен с аттенюатоjpOM 4 и далее через измерительный прибор 5, измеряющий проходящую мощность, С СВЧ-вводом 6 очищаемого прибора 7. Штенг-ель 8 прибора соединен с натекат.;лем 9 и вакуумной откачпой системой 1О.
10
Электромад нитпую энергию СВЧ-источника 1 через волноводный тракт, состоящий из элементов 2-3-4-5-6, вводят во внутреннюю полость очищаемого прибора 7, штенгель 8 которого соединен с натека-ie- лем 9 и вакуукшой откачной системой 10.
С помощью короткозамыкателя 3 подстраивается частота сиг-нала, г-еперируемого источником 1, и при подаче рабочогчэ газа через щтeнгeJJЬ 8 в полости очищаемого прибора 7 возникает равномерней I I разряд на частоте электромагнитного резонанса. Для удаления продуктов очистки из внутреннего объема прибора рабочий газ в очищаемую полость вводится нед - «- - прерывно. Вид разряда определяется измерительным прибором 6 по уровню мощности, требуемой для поддержания разряда. При СВЧ-разряде ионная бомбардировка поверхностей незначительна, в результате чего свойства катода сохраняются. Параметры режима очистки: мощность импульсного СВЧ-источника 8-1О квт импульсе при скважности lOOO, давление рабочего газа в очищаемой полости (2i3)« 10 мм рт. ст., время очистки 6-8 мин После проведения цикла очистки приборы размонтировали, и их внутренние поверхности подвергли анализу на наличие гидрофобных аагрязнений, уровень которых измеренный методом конденсации, состаилЛ/0,01 мкг/см при начальном уров е загрязнения перед сборкой ОД мкг/см . Операция очистки собранного электроакуумного прибора может производиться J Jf 1VJ.-/ v .- - ., л., п fi J« важды: перед активировкой катода и пеед отпайкой прибора. изобретения Предмет Способ очистки внутренних поверхнос- ; тей электровакуумных приборов путем возбуждения газового разряда, отличающийся тем, что, с целью создания газового раз1.|яда, равномерно заполняющего междуэлектродное пространство и не нарушающего сьюйства электродов, разряд возбуждают на частоте электромагнитного резонанса очищаемого междуэлектродного пространства.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ (ВАРИАНТЫ) | 2006 |
|
RU2332268C2 |
Способ очистки электродов электровакуумных приборов | 1979 |
|
SU855784A1 |
СПОСОБ ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ВНУТРЕННЕЙ ПОВЕРХНОСТИ РЕЗОНАТОРА ГАЗОВОГО ЛАЗЕРА | 2014 |
|
RU2562615C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ МИКРОВОЛНОВОЙ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННОЙ С ЭЛЕКТРОННО-ЦИКЛОТРОННЫМ РЕЗОНАНСОМ ОБРАБОТКИ КОНДЕНСИРОВАННЫХ СРЕД | 1996 |
|
RU2120681C1 |
СПОСОБ РЕАЛИЗАЦИИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОГО ТОПЛИВНОГО ЭЛЕМЕНТА С ПРОТОННОЙ ПЛАЗМОЙ И ВНУТРЕННИМ РИФОРМИНГОМ | 2012 |
|
RU2533555C2 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ МИКРОВОЛНОВОЙ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННОЙ С ЭЛЕКТРОННЫМ ЦИКЛОТРОННЫМ РЕЗОНАНСОМ ОБРАБОТКИ КОНДЕНСИРОВАННЫХ СРЕД НА ЛЕНТОЧНЫХ НОСИТЕЛЯХ | 1999 |
|
RU2153733C1 |
СВЧ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР | 2004 |
|
RU2270536C9 |
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ПОЛУЧЕНИЯ СТАЦИОНАРНОГО КОМБИНИРОВАННОГО РАЗРЯДА НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ | 2004 |
|
RU2277763C2 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ МИКРОВОЛНОВОЙ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ КОНДЕНСИРОВАННЫХ СРЕД НА ЛЕНТОЧНЫХ НОСИТЕЛЯХ | 2008 |
|
RU2419915C2 |
СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ОБЪЕМНОЙ ПЛАЗМЫ | 2007 |
|
RU2361376C2 |
-О
Авторы
Даты
1974-12-05—Публикация
1972-06-07—Подача