Способ изготовления растровых фотоформ Советский патент 1975 года по МПК G03B27/02 

1

Изобретение относится к технике изготовления растровых фотоформ, например, в полиграфической промышленности для использования в репродукционном процессе.

Известен способ изготовления растровых фотоформ, заключающийся в комплектовке элелзентов копируемого блока, например, в такой последовательности: трафаретка, корректирующее изображение, основное тоновое изображение, контактный растр и фототехническая пленка, укладка его на рабочую поверхность, создание вакуума между поверхностями блока, экспонирование и последующая фотохимическая обработка. Известный способ характеризуется пятнообразоваиием уже при линиатурах 40-48 лин/см, а при достаточно распространенных иллюстрационных линиатурах - порядка 54-60 лип/см представляет серьезную техпологическую трудность. Попытка устранить эффект пятиообразовапия увеличелием степени разрежения, подбором дополнительных эластичных прокладок и прочими малоэффективна.

Для повышения качества получаемых растровых изображений предлагается в процессе комллектовки на поверхностях элементов копируемого блока нейтрализовать электростатические заряды и производить иылеочистку, а укладку блока осуществлять на рабочей поверхности с антистатическим покрытием.

Элементы копируемого блока, особенно контактный растр (или первичиое растровое изображение) и фототехническую пленку перед комплектовкой в блок подвергают нейтрализации и пылеочистке. Сам копируемый блок подбирают на рабочей поверхности, характеризующейся полупроводящимп свойствами (например, материал типа полупроводящей резины с удельным объемным сопротивлением 10 5-Юом.м).

Возможно и использование в качестве стола для подборки блоков зеркального стекла контактно-копировального станка с антистатическим нокрытием.

Полупроводящие материалы или поверхностный антистатик облегчают условия комплектовки копируемого блока без повторного иаведеиия зарядов в процессе этой операции.

В дальнейнлем технологические операции осуществляют известным способом.

Предмет изобретения

Способ изготовления растровых фотоформ, заключающийся в комплектовке копируемого блока, укладке его на рабочую поверхность, создании вакуума между контактирующими поверхностями блока, экспонировании и последующей фотохимической обработке, отли