Изобретение относится к области полупроводниковой техники.
Известны полупроводниковые переключатели , содержащие выемку в области узкой базы и в ней дополнительную h -область, смыкающуюся с широкой базой. Соотношение концентраций примесей на две-выемки и на поверхности дополнительной области определяет у этих приборов величину напряжения включения.
Однако известные приборы имеют высокое значение температурного коэффициента напряжения (ТКН) включения, обусловленное наличием значительного сопротивления .растекания в цепи тока включения из-за низкой концентрации примесей на дне выемки и, как следствие зтого, низкую температурную стабильность и значительный разброс по напряжению переключения от прибора к прибору.
Для снижения величины ТКН включения и повышения стабильности переключателя в предлагаемом приборе в выемку, расположенную в узкой базе, вводят дополнительную область того же типа проводимости, что и узкая база с концентрацией примеси на поверхнос.ти, по крайней мере, на порядок превышающей значение концентрации примеси на дне выемки. Указанная область может иметь,|Концентрацию примеси порядка. 10 см . Область может иметь на поверхности слой металла.
На чертеже представлена схема предлагаемого полупроводникового переключающего прибора.
Прибор содержит р-эмиттер 1, контакт к нему (злектрод) 2, широкую П-базу 3, узкую р-базу 4,М -эмиттер
5,контакт кп -эмиттеру (электрод)
6,дополнительную область 7 р -типа, выемку 8, локальную область 9 П -типа, защитное покрытие 10.
Прибор работает следующим образом.
Рабочее напряжение подается между электродами 2 и 6 полупроводникового переключателя и при его значении, меньшем напряжения перек.таочения, прибор находится в закрытом состоянии. При превышении величины напряжения на электродах 2 и 6, большей значения напряжения пробоя p-h-перехода, образованного базой 4 и областью 9 по цепи 2-1-3-9-4-7-5-6 начинает протекать ток, являющийся током управления четырехслойной структуры по узкой р-базе, под действием которого полупроводниковый переключающий прибор переходит в проводящее состоя ние. Наличие дополнительной области 7 на дне выемки и поверхности узкой р-базы с поверхностной концентрацией примеси по крайней мере, на порядо : превьшающей значение концентрации примеси на дне выемки, обеспечивает малые значения динамического сопротивления вопьтамперной характеристики в области пробоя, что и обуславли вает малое значение ТКН включения прибора и малый разброс по напряжени переключения от прибора к прибору в технологической партии. Минимальный разброс указанного параметра получается у приборов с предельно высокой (порядка ) концентрацией примеси на дюверхности дополнительне области 7 р-типа при условии, что эта область частично перекрывает И-экмиттер прибора и ее расстояние до геометрической границы p-h-перехода, образованного базой 4 и областью 9, не менее ширины обедненной области зтого р-п- перехода. Формула изобретения 1.Полупроводниковый переключающий прибор, содержащий многослойную структуру из чередующихся слоев противоположного типа проводимости, выемку в области узкой базы и область типа проводимости, противоположного узкой базе, смыкающуюся с широкой базой, отличающийся тем, что, с целью снижения температурного коэффициента напряжения включения прибора, в узкой базе между эмиттерным р-п- переходом и областью типа проводимости, противоположного узкой базе, создана приповерхностная область того же типа проводимости, что и узкая база, с концентрацией примеси, по крайней мере, на порядок больше чем в базе. 2.Прибор по п.,, о т л и ч а ющ и и с я тем, что, указанная об- ласть имеет концентрацию примеси порядка 10 см . 3.Прибор по п,1, о т л и ч а ющ и и с я тем, что область имеет на поверхности слой металла.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Полупроводниковый переключающий прибор | 1972 |
|
SU405473A1 |
Тиристорный ключ | 1976 |
|
SU744988A1 |
Полупроводниковый многослойный переключающий прибор | 1971 |
|
SU380222A1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ПРИБОР С СИММЕТРИЧНОЙ ВОЛЬТАМПЕРНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКОЙ | 1993 |
|
RU2064716C1 |
ВЫСОКОВОЛЬТНЫЙ ПЛАНАРНЫЙ P -N-ПЕРЕХОД | 1991 |
|
RU2019894C1 |
СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ И СТАБИЛИЗАЦИИ СКОРОСТИ ПОСЛЕДИФФУЗИОННОГО (ДИФФУЗИЯ МЫШЬЯКА) ОХЛАЖДЕНИЯ НИЗКОВОЛЬТНЫХ (~6В) КРЕМНИЕВЫХ ПЛАНАРНЫХ СТРУКТУР ПРЕЦИЗИОННЫХ СТАБИЛИТРОНОВ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2012 |
|
RU2538027C2 |
Высоковольтный биполярный транзистор | 1982 |
|
SU1039413A1 |
КОНСТРУКЦИЯ КВАРЦЕВОЙ АМПУЛЫ ДЛЯ ДИФФУЗИИ ЛЕГИРУЮЩИХ ПРИМЕСЕЙ В КРЕМНИЙ (ДИФФУЗИИ МЫШЬЯКА) С ВСТРОЕННЫМ ПРИСПОСОБЛЕНИЕМ ДЛЯ УПРАВЛЕНИЯ СКОРОСТЬЮ ПОСЛЕДИФФУЗИОННОГО ОХЛАЖДЕНИЯ КРЕМНИЕВЫХ Р-П-СТРУКТУР | 2012 |
|
RU2522786C2 |
ЗАПИРАЕМЫЙ ТИРИСТОР И СПОСОБ ЕГО РАБОТЫ | 2007 |
|
RU2335824C1 |
Способ повышения радиационной стойкости термокомпенсированных стабилитронов | 2017 |
|
RU2660317C1 |
Авторы
Даты
1978-10-05—Публикация
1973-05-29—Подача