Полевой транзистор Советский патент 1979 года по МПК H01L29/812 

Описание патента на изобретение SU646391A1

(54) ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР

Похожие патенты SU646391A1

название год авторы номер документа
Интегральный инвертор 1975
  • Кремлев В.Я.
  • Ержанов Р.Ж.
  • Лебедев В.В.
SU519102A1
БИПОЛЯРНО-ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР С КОМБИНИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ 2002
  • Воробьева Т.А.
  • Гурин Н.Т.
  • Гордеев А.И.
  • Обмайкин Ю.Д.
  • Андреева Е.Е.
RU2230394C1
Интегральный логический элемент 1977
  • Назарьян А.Р.
  • Кремлев В.Я.
  • Кокив В.Н.
SU602055A1
ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР 1993
  • Альберт В.Винал
RU2120155C1
МАГНИТОУПРАВЛЯЕМАЯ ЛОГИЧЕСКАЯ ЯЧЕЙКА 1994
  • Бараночников М.Л.
  • Красников Г.Я.
  • Михайлов В.А.
  • Мордкович В.Н.
  • Приходько П.С.
RU2072590C1
СТРУКТУРА КРИСТАЛЛА ВЫСОКОВОЛЬТНОГО ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО ПРИБОРА, ВЫСОКОВОЛЬТНОЙ ИНТЕГРАЛЬНОЙ МИКРОСХЕМЫ (ВАРИАНТЫ) 2016
  • Володин Виталий Александрович
  • Володин Алексей Витальевич
  • Христьяновский Анатолий Григорьевич
RU2650814C1
ВЫСОКОВОЛЬТНЫЙ БИПОЛЯРНЫЙ ТРАНЗИСТОР СО СТАТИЧЕСКОЙ ИНДУКЦИЕЙ 2023
  • Гордеев Александр Иванович
  • Войтович Виктор Евгеньевич
  • Еремьянов Олег Геннадьевич
  • Максименко Юрий Николаевич
RU2805777C1
Ячейка оперативной памяти 2024
  • Гордеев Александр Иванович
  • Войтович Виктор Евгеньевич
RU2826859C1
ОПТОЭЛЕКТРОННЫЕ УСТРОЙСТВА 2009
  • Зиррингхаус Хеннинг
  • Гвиннер Майкл К.
  • Гайссен Харальд
  • Швайцер Хайнц
RU2532896C2
ФОТОТРАНЗИСТОР 1980
  • Костенко В.Л.
  • Клименко В.А.
SU862753A1

Иллюстрации к изобретению SU 646 391 A1

Реферат патента 1979 года Полевой транзистор

Формула изобретения SU 646 391 A1

1

Изобретение относится к полупроводниковым приборам, и частности к интеграЛьным схемам. Наиболее эффективно оно может быть использовано при построении больших интегральных схем, логических и запоминающих устройств.

Известен полевой транзистор с затвором в виде выпрямляющего перехода металлполупроводник (1)..

Наиболее близким к изобретению по технической сущности является полевой транзистор с затворными областями, расположенными на поверхности подложки и выполненными в виде перехода металл-полупроводник, со стоковой областью, расположенной между затворными областями, и с истоком 2.

Известные конструкции полевых транзисторов имеют существенный недостаток, заключающийся в относительно малой щирине стоковой области и большом сопротивлении растекания тока стока, что ограничи-. вает величины коммутируемых приборам токов и в результате ограничивает быстродействие прибора. Кроме того, реализация прибора обуславливает повышение требований к минимальным размерам окон на фотошаблоне и к разрешающей способности фотолитографических операций.

Цель изобретения - увеличение быстродействия полевого транзистора.

Эта цель достигается тем, что в подложке на расстоянии .введения в область стока от пойерхности, не превЬ1шающем толщины слоя объемного заряда выпрямляющего контакта затвор-исток, расположена дополнительная область противоположного подложке типа проводимости таким . образом, что ее проекция полностью перекрывает контакт стоковой области г подложке.

На чертеже изображен полевой транзистор, имеющий область истока 1, омический контакт 2 области стока, затворные области .3, дополнительную область 4 противоположного истоку типа проводимости и область канала 5.

В предложенной конструкции (6ласть канала 5 перекрывается слоем объемного заряда затвор-исток перехода, выполненного в виде диода Шоттки, когда на затворе .имеет место отрицательный или нул.евой (по отношению к области 1) потенциал. Когда

в области 3 приложен продолжительный потенциал, то область объемного заряда уменьшается и между истоком 1 и стоком 2 имеет место гальваническая связь.

Уменьшение длины канала в предложенном транзисторе достигается посредством расположения краев области 4 и области 3 в одном вертикальном сечении.

В , данной структуре ширина области 2 может быть выбрана достаточно большой и, следовательно, транзистор имеет малое последовательное сопротивление между истоком и стоком. Это позволяет истгользовать прибор для коммутации токов относительно больших величин и, следовательно, уменьшить время переходных процессов паразитных емкостей.

Транзистор может быть изготовлен по рбычной технологии, принятой при производстве пoлyп Jвoдниkoвыx приборов и интегральных схем.

Формула изобретения

Полевой транзистор с затворными областями, расположенными на поверхности подложки и выполненными в виде перехода металл-полупроводник, со становой областью, расположенной между затворными областями, и с истоком, отличающийся тем, что, с целью повышения быстродействия, в подложке на расстоянии от поверхности, не превышающем толшины слоя объемного заряда выпрямляющего контакта затвор-исток, расположена - дополнительная область противоположного подложке типа проводимости таким образом, что ее проекция полностью перекрывает контакт стоковой Области в подложке.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1,Патент США № 3804681, кл. 148-188, 1974.

2.Авторское свидетельство СССР № 602055,-кл. Н 01 L 27/04, 06.01.77.

SU 646 391 A1

Авторы

Назарьян Арташес Рубенович

Кремлев Вячеслав Яковлевич

Лавров Вадим Валерьевич

Даты

1979-02-05Публикация

1977-11-01Подача