Фотополимеризующаяся композиция Советский патент 1979 года по МПК G03C1/68 

Изобретение относится к фотополи меризующимся композициям, которые используются для изготовления фотополимерных печатных форм в полиграфии . Известна фотополимеризующаяся ко позици.я для изготовления печатных ФОрм, включающая пленкообразующий. компонент - полиамидный лак, акрило вый мономер (какой именно - не указано) , инициатор - динитрил азидоизомасляной кислоты и ингибитор - хинон 1. Но изготовленные из известной композиции печатные формы обладают неудовлетворительными упру го-эластичными свойствами, а также сравнительно большим временем их изготовления (экспонирование 20 мин и время вы ывания пробельных участков формы 5-8 мин). Целью изобретения является улучшение упруго-эластичных свойств печатных форм и сокращение времени их изготовления. Поставленная цель достигается тем, что фотополимеризующаяся композиция для изготовления печатных форм, включающая плёнкообразующий компонент акриловый мономер, инициатор и ингибитор, в качестве пленкообразующего компонента содержит ацетоновый раствор ацетального полиуретана структурной формулы I

Метиловый эфир

бензоина . 0,3-0,5

Нигрозин . 0,015-0,03.

Ацетальный полиуретан структурно формулы I является продуктом каталитического взаимодействия низкомолекулярных изоцианатов с диэтиловым эфиром диэтиленгликоля (ТУ-38403290-77). В настоящее время осваивается его промышленное производство на предприятиях Миннефтехимпрома.

Пример 1. При комнатной температуре и нормальном давлении путе тщательного перемешивания в течение .1 ч получают 25%-ный раствор, ацеталного полиуретана в ацетоне. Затем в полученный раствор полимера вводят .ингредиентыкомпозиции в следующем количестве, вес.ч. :

Ацетальный полиуретан 80

Мономер - пентаэритриттетраакрилат10

Инициатор - метиловый

эфир бензоина0,3

. Ингибитор - нигрозин 0,015.

Смесь перемешивают в термостате в течение 20 мин при , затем раствор подвергают дезаэрации в течение 20 мин. Из приготовленной композиции на специальном устройстве ракельного типа формируют фотополимёризующиеся слои на металлической подложке с подслоем путем пятикратного полива при величине зазора между кромкой ракеля (ножа) и прецыдущим слоем 0,3 мм. Температура сушки слоев , температура композиции , время сушки каждого слоя 30 ми

Из полученных светочувствительных слоев изготавливают рельефные фотополимерные формы путем экспонирования под негативом в специальной раме с пленочным покрытием лампами ЛУФ-80 на расстоянии 70 мм в течение 15 мин и вымывания пробельных участков фотополимерных копий в спирто-ацетоновой смеси в соотношении 1:1 при 25°с

П р и м е р 2. Приемы те же, что и в примере 1, но состав композиции следующий ,вес.ч.:

Ацетальный полиуретан 87 Мономер - пентаэритриттетраакрилат20

Инициатор - метиловый эфир бензоина0,4

Ингибитор - нигрозин 0,02. Примерз. Приемы аналогичны примеру 1, но состав композиции следующий, вес.ч.: .

Ацетальный полиуретан 95 Мономер - пентаэритриттетраакрилат30

Инициатор - метиловый эфир бензоина0,5

Ингибитор - нигрозин 0,03 Свойства предложенной фотополимеризующейся композиции, полученной по примерам 1-3, а также печатных форм, изготовленных из нее и из известной Композиции, сведены в таблицу.