Устройство для дозирования жидкого металла Советский патент 1980 года по МПК B22D39/00 

1

Изобретение относится к технике дозирования жидкого металла и может быть использовано в качестве дозатора жидких металлов в энергетических, литейных и других специальных установках, работающих с высокотектературными и агрессивными жидкими металлами, преимущественно в диапазоне малых расходов и микрорасходов.

.Известно устройство регулирования массы потока жидкого металла 1. Устройство содержит систему подачи, состоящую из источников опорного и регулирующего давления, причем последний вьшолнен в виде злектромагнитного насоса кондукционного типа, задатчик, элемент сравнения и измерительное устройство в виде датчика массового расхода. Задатчик , и измерительное устройство электрически соединёнь через элемент сравнения с усилителемрегулятором. Принцип действия устройства заключается в регулировании давления и, соответственно, расхода жидкого металла путем изменения величины управляющего воздействия в регулирующем электромагнитном насосе с помощью усилителя-регулятора в зависимости

от абсолютной разницы сигналов с задатчика и измерительного расходомернбго устройства. При этом номинальный расход жящсого металла в устройстве уста} лнвается с помощью источника опорного Давлеши при йулёвом регулирующем воздействии на электромагнитном насосе.

Устройство имеет ряд существенных недостатков:

в качестве источника опорного давления используется автономная система, например газОвая, неоднородйая по сравнению систочником регулирующего давления, что усложняет в целом конструктивную схему устройства для дозирования;

в качестве измерительного устройства используется система измерения массового расхода, что ограничивает область применения устройства для дозирования при работе с высоко- , температурными и агрессивными средами из-за отсутствия надежных и стабильных первичных датчиков массового расхода, особенно в областях малых расходов и микрорасходов. .J.-. ...o 1, S. „ , -V, ift . 37 Целью изобретения является упрощение конструктивной схемы и рас1иирение шсти применения агрессиьных и высокотемпературных жидких металлов, преймУщес1Йе но в области малых расходов и микрорасходов. Цель дбстягается тем, что в устройстве для дозирования сйдких металлов источйнк1« опорного и регуЯйрующего давленйя с6вмеш нй и вьшолнены в виде электромагнитного насоса с двумя управляющими входами, один из коЬ:орб1Х, регулирующий/Соединен с выходом усиййтеля-регулятора, другой, задающий,- с автономным источником элekтpoпитaшш, а изме рйтельное устройство изготовлено в ВД йерепадомера, гидравлически свя занного с входом и выходом системы подачи. . Ч - -лле a«.ia,s™.i,«,,«i При постоянстве давления на входе или выходе системы подачи перепадомер выполнен --.гг -,.5,,.a,,.,,.jjj ,, В виде датчика давления, установленного, со-- .;.;..;яе&,( отсетствеино, до или после системы подачи, причем датчик давления сделан по колтенсационной схеме и содержит электррмагнитшй насос, вторичный электронный блок и нуль орган. Электромагнитные насосы системы ттрдачи и датчика давления вьтолнены ъ виде кондукИИО1ШЫХ винтовых (спиральных ifacocoB с независимым возбуждением, управляемых по то куна канале, причем регулирующнй вход электромагнитного насоса системы подачи и шшПШоса ftSfftrKa Давления соеданены злек рйчески последов тельно и подключены к вторичному блоку последнего, а передаточньк козффициенты обоих шсос( по напору равны. На чертеже; схематично изображено устройШо Шй ййШйвШйЩщсЩмШШ: ; ; .; .-- 1, ,-СТ. - - ..-- --:i:.. , : :УстроиШо дам:1гШроВ|йр( себя технологический трубопровод Г, в кото{)йм устано влен электромагнитный насос 2 системы 1юда«аГ, перепадомер ЭТТййрЖ Шё скй подсоединенный к йходу и выходу насоса 2, элемент 4 сравнения усилитель-регулятор 5, задатчик 6 и автономный источник 7 зИбхтрошташя. Номинальиьш перепад уетанавлйЬа тся с пот10щьЪ задатшка 6, ненного с элементом 4 сравнешяГа электтрический сигнал с перепадомера 3 после суммирования в элементе 4 сравнения с опорташ с налом задатчика 6 поступает на вход усилите ля-регулятора 5, к выходу которого подсоеди нен регулирующий вход 8 насоса 2. Задающи вход 9 насоса 2 подключен к aBtoHoMHOMy и точнику 7 электропитания. Конструктивйая 5Гема элёктрбШГШШОго HacociTc двумя управляющими входами може -,-«i rt« w«a psWtf & , б& т1Гвыпоянена в различных вариатах, что не меняет при пшпиальной сущности предлага емого устройства. ee « « SSiia« S5fcal I.u-A il -j 4T-jrЗаданный расход в устройстве для дозироания при нйминальном перепаде давления а насосе 2 устанавливается величиной заданого тока, подаваемого на задающий вход лектромагштного насоса. Жидкий металл, потуиающийГ в сйШйу поДа1т,с давлением на ходе, проходя через электромагнит1п 1й насос, удет иметь йаййеШ вШода, причем разность тих давлений пропорциональна объемурасхоа ЖИДКОГО1 металла. Таким образом, измеряя с помощью перепаомера 3 вёлйодйу перепада дайлёния и сравниая ее в элементе 4 сравнения с задаваемой задатщг1кр{и 6, получаем уйравляю1ций сигнал, одступающий era ЖйД усилителя-регулятора 5, Свь1(;ода к Ьтерегв на регулирующий вход элейтройагнйгтйого йасоса подается управляющее воздействие. В результате величина установившегося расхода яШдкого металла будет всегда сбОтветствЗМть Номинальному значению независимо от давлення на выхоДе или входе дозирующего устройства. При ПоСтоянстве давления на входе или выходе системы подачи устройство для дозирования может быть существенно упрощено. В качестве датчика давления в устройстве используётся компенсационный датчик давления на основё электромагнитного насоса. ПршЩип действия устройства при перемеННбМ давлении на входе и постоянномдавлении на выходе аналогичен у14аз1ЙйЬ ау,з исключением того, что регулирующее воздействие (ток канала насоса) должно быть обратным по знаку задающему току канала Haboda системы подачи. Таким образом, предлагаемое устройство йШ дЪзировашя о металла имеет Достаточно П ростую Конструктивную схему, посйШькуЙбШШШй опорного и регулирующего дМйёния внё1Й гбвмеще1ш в оШ19м электриWSKK уй|ЙШйёШйГдргане - электромагнитном насосе. Кроме того, устройство имеет расишренную области, применения для дозирования агрессйгоньТХ и высокотемпературных жидких металлов в сторону диапазона малых расхоДРв и миКрбрасходов за счет использования в1сач№Ш Ш1р§йчИь1Г измёрйтельнЫх датчиков .ёпадШё ра йШ Да1гчика давления, которые (например, компенсадионный датчик давления йрй тяжелых условиях эксплуатации) более надежны и обеспечивают требуемую точность дозирования. Ф о р м ула изобретения 1. Устройство дл;я дозирования жидкого йётаитяаТ ШдёрЖЩее систему подачи, состоящую 1Гз ИетШИШ 01 опЬрноГО и регулирующего давления, задатЧик и измерительное устрой