электроды 2 от источника 3 подается знакопеременное поле определенной частоты.
Из фиг. 2 и 3 видно, что, сохраняя амплитуду знакопеременного ноля U неизменной(интервал tz-О на фиг. 2 и 3) расход материала можно регулировать путем изменения частоты. В интервале времени ti-О на электроды 2 (фиг. 1) подается знакопеременное поле с частотой /i, которому соответствует определенный расход Q2 (интервал I на фиг. 3). В интервале времени /2-ti на электроды подается знакопеременное поле с частотой 1/2. В момент ti амплитуда знакопеременного поля остается неизменной, но увеличивается частота (фнг. 2). С момента ti расход материала увеличивается (интервал II фиг. 3) вследствие уменьшения степени ориентации частиц. При этом равномерность истечения в зоне I и II различна (фиг. 4).
При частоте /з и амплитуде знакопеременного ноля (/3 (интервал з-4 фиг. 2) истечение заданного расхода Qs (фиг. 3) происходит наиболее равномерно (интервал на фиг. 4). Поэтому для обеспечения наилучшей равномерности истечения заданного расхода Qi (интервал фиг. 3) на электроде 2 подают напряжение с частотой /4 и амплитудой f/i (интервал фиг. 2). Таким образом для достижения наилучшей равномерности истечения при заданном расходе необходимо одновременно изменять и амплитуду и частоту знакопеременного поля.
Предложенный способ позволяет обеспечи ь заданный расход с равномерностью ±0,8% во всем диапазоне дозирования, в то время как для способа по авт. св. № 607110 этот показатель составляет ±1,3%.
Формула изобретения
Способ дозирования сыпучих материалов но авт. св. № 607110, отличаюшийся тем, что, с целью повышения точности дозирования за счет обеспечения равномерности истечения материала, одновременно с амплитудой изменяют частоту электрического поля.
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Авторское свидетельство СССР № 607110, кл. G 01F 13/00, 1974 (прототип).
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ГЕОЭЛЕКТРОРАЗВЕДКИ | 1991 |
|
SU1799512A3 |
Способ управления дозированием диэлектрических сыпучих материалов | 1976 |
|
SU661517A1 |
Дозатор сыпучих материалов | 1978 |
|
SU717546A1 |
Устройство для автоматического управления процессом сварки-пайки | 1975 |
|
SU519301A2 |
Способ управления процессом дозирования сыпучих материалов и суспензий | 1983 |
|
SU1156015A1 |
Устройство для управления дозатором | 1976 |
|
SU657261A1 |
Способ дозирования сыпучего материала | 1976 |
|
SU591702A1 |
Питатель сыпучих материалов | 1984 |
|
SU1235800A2 |
ПАССИВНО-МАТРИЧНЫЙ ЖИДКОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ ЭКРАН И СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ДАННЫМ ЭКРАНОМ | 2001 |
|
RU2206914C2 |
Способ управления процессом дозирования сыпучих материалов | 1977 |
|
SU664037A2 |
и
Л
Фиг. 4
Авторы
Даты
1980-04-30—Публикация
1978-09-04—Подача