Электрофотографическая пластина для многократного использования Советский патент 1982 года по МПК G03G5/08 

(54) ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКЛЯ ПЛАСТИНА ДЛЯ МНОГОКРАТНОГО ИСПОЛЬЗОВАНИЯ

Изобретение относится к электрофо тографическнм материалам, в частности к фотополупроводниковому слйю, который является составной частью электрофотографической пластины для многократного использования. Она может применяться в плоскостных, ленточных и ротационных электрофотограф ческих аппаратах. Известна электрофотографическая пластина на основе окиси цинка для многократного использования, в которой в качестве связующего применяется смесь силиконовой смолы и полиакрилата. Фотополупроводниковый слой наносится на гибкукт подлояку, предварительно покрытую промежуточным сл ем из сополимера стирола и малеинового ангидрида 1. При многократ ном использовании эле трофотографической пластины она циклически подвер1-ается воздействию излучения, высоких электрических полей, сезона, HTOMOpiioro кислорода и механическим нагрузкам, что ведет к необратимым изменениям ее свойств. Во время зарядки электрофотографи- ческого слоя коронным разрядом коронный ток концентрируется в микроканавках фотополупроводникового слоя. Это ухудшает равномерность осаждения заряда на поверхности слоя, а на про-г явленном изображении создает пятна. Озон и атомарный кислород через микроканавки проникает вглубь слоя и ускоряет разрушение полимерного связующего. Кроме того, в процессе проявления и очистки поверхности электрофотографического слоя подвергается механическому воздействию проявителя и чистящего устройства. На поверхности слоя образуются микроборозды, которые, заполняясь тонером, ухудшают качество изображения. Влияние вышеуказанных факторов можно значительно снизить, улучшая фотополупроводниковый слой электрофотографической пластины. Цель изобретения - повьшение срок службы и качества пластины. Поставленная цель достигается тем что электрофотографическая пластина для многократного использования соетоит из электропроводной подложки с нанесенным на нее фотополупроводнйковым слоем, содержащим окись цинка, сенсибилизатор и связующее, включающее акриловые сополимеры и силиконовые смо яы, фотополупроводниковый слой дополнительно содержит динитрил азоизомас- ляной кислоты в количестве 0,1-1% от ве са сухого связу снцего, а акриловые сополимеры и силиконовые смолы содержатся в количестве 50-100% от веса сухо го связующего. Экспериментально установленное ко личество динитрила азоизомасляной ки слоты составляет 0,1-1%, а количеств силиконовой смолы и акрилового сополимера - 50-100% от общего веса сухо го вещества связующего, причем процентное соотношение силиконовой смол и акрилового сополимера составляет от 75:25 до 50:50, а соотношение оки си цинка и общего количества сухого вещества связующего - от 80:20 до 87,5:12,5. Оптимальное соотношение компонентов фотополупроводникового слоя (вес.% сухого вещества): Окись цинка83,31 Силиконовая смола 8,33 Акриловьш сополимер 8.33 Динитрил азоизомасляной кислоты0,03 Динитрил азоизомасляной кислоты способствует лучшему пленкообразованию фотополупроводникового слоя. Рол инициирующих количеств ДАК сводится к возможному образованию свободных радикалов, способных в условиях изготовления фотопроводящего состава и формования пленки инициировать пол меризационный процесс..В результате возрастания молекулярной массы (что подтверждают вискозиметрические исследования силиконовых смол и акрило вых сополимеров) и других структурных изменений образующаяся пленка ст новится более равномерной, гладкой (гладкость фотополупроводникового сло увеличивается на 40%), твердой (твер дость - на 35%) , что улучшает электрическую прочность электрофотографи ческой Пластины (тиражеус ойчивость увеличивается па 50%). Для увеличения светочувствительсти фотополупроводникового слоя желательной величины возможно исьзование известных красителей, их, как бромфеноловый синий, флуесцеин, эритрозин, бенгальский ровый. Соотношения компонентов в приах даются в вес.%. Пример. Окись цинка 57,0 Силиконовая смола 5,7 Акриловый сополимер 5,7 Динитрил азоизомасляной кислоты 0,017 Бромфеноловьй синий 0,191 Бенгальский розовый (Б)0,092 Толуол27,7 Этиловьш спирт 3,6 П р и м е р 2. Окись цинка 57,0 Силиконовая смола 8,0 Акриловый сополимер 2,3 Этилцеллюлоза 1,I Динитрил азоизомасляной кислоты 0,017 Бромфеноловый синий 0,043 Эритрозин0,02 Флуоресцеин 0,02 Толуол27,8 Этиловый спирт 3, 7 Примерз. Окись цинка 57,0 Силиконовая смола 5,7 Алкидная смола, модифицированная акрилатами5,7 Динитрил азоизомасляной кислоты 0,017 Бромфеноловый синий 0,106 Флуоресцеин0,077 Толуол27,8 Этиловый спирт 3,6 Б качестве силиконовых смол возожно использование кремнийорганиеских лаков КО-85, КО-08, КО-049, -039 и др., лучше КО-85 - раствосмеси полифеш1лсилоксановой смои смолы БМК-5 в оргащ1Ческих ратворителях. В качестве акрилоных соолимеров возможно использование смол Н, БМК-5, АС, лучше АСП- сополимеа амида метакриловой кислоты, бутиового эфира метакриловой KHCjjxrii.i с рилнитрилом. В качестве подложки электрофоторафической пластины возможно испольование гладкого электропроноднс)го териала с желаемой электропроподностью от 10 0м-м например, алюминиевая фольга с нанесенны слоем стиромаля, казеина, модифици рованного крахмала, виниловых сополимеров и др. Формула изобретения Электрофотографическая пластина для многократного использования, со тоящая из электропроводной подложки с нанесенным на нее фотополупровод- никовым слоем, содержащим окись цин ка, сенсибилизатор и связующее, 26 включающее акриловые сополимеры и силиконовые смолы, отличающаяся тем, что, с целью повышения срока службы и качества пластины, фотополупроводниковьп слой дополнительно содержит динитрил азоизомасляной кислоты в количестве 0,1-1% от веса сухого связующего, а акриловые сополимеры и силиконовые смолы содержатся в количестве 50100% от веса сухого связующего. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Авторское свидетельство СССР № 614415, кл. G 03 G 5/08, 1976.