Устройство для изготовления диэлектрических пленок Советский патент 1982 года по МПК G01N1/00 

Изобретение относится к области .технологии изготовления диэлектрических пленок и может быть использовано для получения монолитных слоев диэлектрических материалов на подложках.

Наиболее близким по технической сущности к изобретению является устройство для изготовления диэлектрических пленок, состоящее из вакуумной KaiviepH с откачными средствами, в которой размещена емкость с формой для заливки диэлектрика в виде горизонтальных подложек, размещенных на вращающемся столе, и вакуумный привод с упорами tl.

Недостатком этого устройства является невозможность изготовления тонких однородных по всей рабочей поверхности пленок, что обусловливает низкое качество.

Цель изобретения - повышение ка.чества -диэлектрических плейок.

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для изготовления диэлектрических пленок, содержащем вакуумную камеру с откачными средствами, в которой -размещена емкость с формой для заливки диэлектрика, выполненной в виде подложки, и вйкуумный привод с упорами, подложки размещены между рамочными прокладками и помещены между упорами вакуумного привода, причем одна из поверхностей подложек снабжена сеткой канавок, расширякадихся внутрь по толщине.

На фиг,1 представлена схема устройства; на фиг.2 - сечение А-А на

10 фиг.1.

Устройство содержит вакуумнуй камеру 1, емкость 2.с отверстием для заливки диэлектрика, вакуумный при-, вод 3 с двумя упорами 4, подложки S, 5 рамочные прокладаи 6, откачные средства - насос 7, соединенный с камерой 1 через клапан 8, иатекатель 9 и манометр 10.

Устройство работает следуню(ИМ об20раз ом с-:

В емкости 2 на расстоянии примерно в 1-2 мм в ряд подвешивают за выступы на борту емкости 2 подложки 5 поверхностью с канавками в одну

25 сторону. За каждс подложкой помещают рамочные прокладки 6. Емкость 2 ставят в камеру 1 горизонтально в фиксирование .положении, перемещают упор 4 привода 3 в нужное полот

30 жение и закрывают крышку камеры 1, Шйи этом ряд подложек 5 и прокладок 6 должны оказаться между. Упорами привода 3. Через клапан 8 осуществляют насосом 7 откачку кемера. до давления остаточного газа в ней порядка 0,1-1,3 кПа. После этого за полняют емкость 2 диэлектриком. При достиженни равного слоя диэлектрика над подложками 5 толщиной около 23 мм прекращают заливку диэлектрика |Перемеща)1 вращением упора 4 привода 3, производят прессование. Все подложки 5 и рамочное прокладки 6 при этом собираются в одну стопку, а . канавки пьдложки S и пространство, ограниченное приемом рамочной прокладки 6, остаются заполненными диэлектриком. Закрытием клапана 8 прекращают откачку каме1Ж1 1. Через натекатель 9 в камеру 1 напускают атмосферу. Поднимают крышку так, чтобы вся-.стопка подложек 5 и прокладок б с заключенным между кими диэлектриком оказались выше емкости 2. Если не требуется изготовления следующей партии пленок или отверждение диэлектрика происходит при но мальных условиях и не занимает много времени, крышку Ьамеры 1 оставляют открытой до оЛерждения диэлектрика до нужного состояния. в случае необходимости изготоВ ления следующей партии пленок или когда для отверждения диэлектрика требуются особые условия (высокая температура, длительный срок отверж дения и др.} подложки 5 отделяют от упора 4 и привода 3 и подвергают их дальнейшей обработке . отверждения диэлектрика, заключённого в канавках одной из поверхностей подложек 5 и проемах рамочных прокладок 6, разбирают стопку по подложкам 5 и отделяют о ййх прокладки б.На подложке 5 со стороны поверхностей с канавками отстается тонкий слой диэлектрика, толщина которого равна толщине рамочной прокладки б. . Материал для подложек 5, прокладок б и упоров 4 выбирают иэ материалов со слабой адгезией к данному диэлектрику или перед заливкой поверхности этих деталей обрабатывают тонким слоем вещества, уменьшающего адгезию. Технико-экономическая эффективность от применения изобретения определяется улучшением качества диэлектрических пленок - отсутствия неоднородностей по толщине и плотности и неплотностей,.. ; что обусловливает улучшение их Электрофизических СВОЙСТВ. . , Формула изобретения Устройство для изготовления ди--; электрических пленок, содержащее ва1 уумную камеру с откачными средствами, в которой размещена емкость с формой для заливки диэлектрика, выполненной в виде ПОДЛ9ЖКИ, и вакуумный привод с упорами,, о т л и ч а ю щ е е с я тем,что, с целью првышения качества диэлектрических пленок, подложки размечены между рамочныкш прокладками и помещены, между упорами вакуулшого привода, причем одна .из поверхностей подложек снабжена сеткой канавок, расши ряющихся внутрь по толщине. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Фридман Е.Н. Герметизация радиоэлектронной аппаратуры. М., Энергия, 1978, с. 220 (прототип) .