Установка для лазерной обработки материалов Советский патент 1992 года по МПК B23K26/04 

квантового генератора 1 было направлено в отверстие 10, получают дополнительный третий возврат зеркально отраженного излучения. В этом случае зеркально отражаемое деталью 11 излучение проходит путь: отверстие 10 - линза 5 - зеркала 7,8- линза 6 - отверстие 9 - обрабатываемая деталь 11

-полусферическое зеркало 3 (в направлении ОА) - обрабатываемая деталь 11 - отверстие 9 - линза 6 - зеркала 8, 7 - линза 5

-отверстие 10 - обрабатываемая деталь 11

-отверстие 4 - линза 2 и уходит в направлении генератора 1. Таким образом, установка позволяет осуществить два или три возврата зеркально отраженного излучения и многократный возврат излучения, отраженного диффузно, стабилизирует энерговложение, что повышает качество обработки.

Установка позволяет обеспечить повышение стабильности энерговложения, избежать выплесков и испарений материала, например, при лазерной сварке деталей, что приведет к повышению качества и надежности соединений.

УСТАНОВКА ДЛЯ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ, содержащая оптический квантовый генератор, фокусирующий линзу и полусферическое отИзобретение относится к оборудованию для лазерной обработки материалов. Целью изобретения является повышение качества обработки путем стабилизации энерговложения. На чертеже изображена схема установки. Установка содержит оптический квантовый генератор 1, фокусирующую линзу 2 и полусферическое отражающее зеркало 3 с отверстием 4 для прохода луча. Установка также снабжена по крайней мере двумя дополнительными фокусирующими линзами 5 ибо отражающими зеркалами 7 и 8. В полусферическом зеркале 3 выполнены по крайней мере два дополнительных отверстия 90 и 10, Дополнительные линзы 5 и 6 установлены с выпуклой стороны пблусферического отражающего зеркала 3 соосно дополнительным отверстиям 9 и 10, Отражающие зеркала 7 и 8 наклонены к осям дополнительных отверстий 9 и 10 навстречу друг Другу. ражающее зеркало с отверстием для прохода луча, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества обработки путем стабилизации энерговложения, она снабжена по крайней мере двумя дополнительными фокусирующими линзами с отражающими зеркалами, в полусферическом зеркале вы.полнены по крайней мере два дополнительных отверстия, дополнительные линзы установлены с выпуклой стороны полусферического отражающего зеркала соосно дополнительным отверстиям, а отражающие зеркала наклонены к осям дополнительных отверстий навстречу одно другому. СО с Установка работает следующим образом. Излучение оптического квантового генератора 1 фокусируется линзой 2 и через о отверстие 4 в отражающем зеркале 3 нач правляется на обрабатываемую деталь 11. 00 1 00 СлЭ Зеркально отраженное излучение проходит через отверстие 9, линзу и зеркалами 8, 7 направляется на линзу 5, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 10 на обрабатываемую деталь 11, которую устанавливают обрабатываемой поверхностью нормально к оси линзы 5. Зеркальная составляющая вторично отраженного излучения проходит отверстие 10, линзу 5 и зеркалами 7, 8 направляется на линзу 6, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 9 на обрабатываемую деталь 11. Далее зеркально отраженное излучение через отверстие 4 уходит в направлении оптического квантового генератора 1. Поворачивая деталь 11 таким образом, чтобы первоначально зеркальное отражение излучения оптического

а

С-2йСч

р Печ/,