Изобретение относится к электронной отрасли промышленности и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов.
Известны устройства для травления, имеющие камеру, в которой смонтирован улавливатель продуктов травления [1]
В известном устройстве улавливатель обеспечивает очистку газа лишь от твердых частиц.
Известны установки для травления, содержащие рабочую камеру, резервуар с травителем, трубопроводы и очистные фильтры [2]
Недостатком известных установок является то, что отработанный газ (фреон) ионизируется частично, остальное неотработанный фреон выбрасывается в атмосферу (в лучшем случае частично утилизируется).
Цель изобретения предотвращение загрязнения атмосферного воздуха за счет нейтрализации продуктов реакции.
Цель достигается тем, что очистное устройство выполнено в виде блока нейтрализации фреона, состоящего из реакционной камеры, расположенной между двумя ВЧ-генераторами, один из которых соединен с выходом вакуумной системы, а другой источником кислорода. Благодаря наличию блока нейтрализации фреона происходит полная ионизация фреона в закрытой камере.
На фиг.1 и 2 изображена установка для травления.
Установка для плазмохимического травления содержит реакционную камеру 1, в которой осуществляется травление пластин 2, смеситель 3, СВЧ генератор 4, вакуумный агрегат 5, дроссельную заслонку 6 и блок нейтрализации фреона 7, который включает в себя ВЧ-генератор 8, ВЧ-генератор 9 и реакционную камеру 10. Генератор 8 соединен с выходом вакуумного агрегата 5, а генератор 9 с источником кислорода 11.
Установка работает следующим образом.
В реакционной камере 1 размещают обрабатываемые пластины 2, закрепляя их на одном из электродов (заземленном). С помощью вакуумного агрегата 5 производят откачку воздуха из камеры 1 до необходимого остаточного давления (0,1-1 Па). После чего через смеситель 3 в камеру 1 подается газовая смесь, необходимая для процесса и состоящая в основном из фреона и газообразного азота, процентное соотношение их задается параметрами техпроцесса и зависит, в основном, от скорости, глубины травления, селективности и анизотропии процесса.
Дроссельной заслонкой 6 регулируют и поддерживают необходимое рабочее давление в камере 1. При достижении в камере рабочего давления включают СВЧ-генератор 4. Происходит процесс травления. После процесса травления образуются продукты реакции, которые при определенных условиях разрушают озоновый слой атмосферы. Чтобы избежать этого в установку включен блок нейтрализации фреона 7, который работает одновременно с другими узлами установки травления. Продукты реакции, проходящие через ВЧ-генератор 8, ионизируются и поступают в реакционную камеру-2 10, в которую подается ионизированный ВЧ-генератором кислород. В реакционной камере-2 10 осуществляется принудительное соединение ионизированного кислорода (озона) с продуктами реакции травления. Вследствие этого происходит их нейтрализации. На выходе улавливаются продукты реакции, не взаимодействующие с озоном. Далее отработанный газ может быть подвергнут утилизации или обработке в зависимости от его состава.
При использовании хлорсодержащих фреонов необходимо увеличивать количество подаваемого кислорода и мощность ВЧ-генератора. При использовании фторсодержащих газов на выходе ставятся фильтры с активированным углем.
Установка для плазмохимического травления нейтрализует продукты реакции фреонов, что предупреждает загрязнение атмосферного воздуха.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ плазмохимической обработки полупроводниковых пластин | 1982 |
|
SU1088589A1 |
СОСТАВ ГАЗОВОЙ СМЕСИ ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ НИТРИД ТАНТАЛОВОГО МЕТАЛЛИЧЕСКОГО ЗАТВОРА МЕТОДОМ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ | 2010 |
|
RU2450385C1 |
Способ травления карбида кремния | 2023 |
|
RU2814510C1 |
Способ обработки поверхности пластин карбида кремния в низкотемпературной индуктивно-связанной плазме | 2019 |
|
RU2708812C1 |
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОЧИСТКИ ГАЗОВ ОТ ОРГАНИЧЕСКИХ ЗАГРЯЗНЕНИЙ | 2012 |
|
RU2508933C1 |
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ХАЛЬКОГЕНИДНЫХ СТЕКОЛ СИСТЕМЫ As-S И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ | 2015 |
|
RU2585479C1 |
ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК ЭНЕРГИИ | 2011 |
|
RU2485727C2 |
Способ очистки подложек из ситалла в струе высокочастотной плазмы пониженного давления | 2017 |
|
RU2649695C1 |
СПОСОБ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ ГЕТЕРОСТРУКТУР НА ОСНОВЕ InP | 2019 |
|
RU2734845C1 |
СПОСОБ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ | 1991 |
|
RU2031480C1 |
Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов. Сущность изобретения: установка содержит рабочую камеру, смеситель травителя, вакуумную систему и очистное устройство. Очистное устройство состоит из реакционной камеры, расположенной между длумя ВЧ-генераторами, один из которых соединен с выходом вакуумной системы, а другой с источником кислорода. 2 ил.
УСТАНОВКА ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ, содержащая рабочую камеру, смеситель травителя, вакуумную систему и очистное устройство, отличающаяся тем, что, с целью предотвращения загрязнения атмосферного воздуха за счет нейтрализации продуктов реакции, очистное устройство выполнено в виде блока нейтрализации фреона, состоящего из реакционной камеры, расположенной между двумя ВЧ-генераторами, один из которых соединен с выходом вакуумной системы, а другой с источником кислорода.
Аппарат для очищения воды при помощи химических реактивов | 1917 |
|
SU2A1 |
Патент США N 3776800, кл | |||
Кипятильник для воды | 1921 |
|
SU5A1 |
Авторы
Даты
1995-12-27—Публикация
1991-03-26—Подача