СПОСОБ КОРРЕКЦИИ ОПТИЧЕСКОЙ СИСТЕМЫ Российский патент 1997 года по МПК G02B3/02 C23C14/04 

Способ коррекции оптической системы, заключающийся в том, что рассчитывают оптическую систему со сферическими поверхностями при небольших остаточных аберрациях, вводят в систему асферические поверхности для получения допустимых значений остаточных аберраций, подбирают ближайшие к асферическим поверхностям сферы, вычисляют толщины слоев, подлежащих нанесению или съему с этих сфер в вакууме, рассчитывают и изготавливают маски для асферизации и изготавливают оптические элементы с заданными асферическими поверхностями, отличающийся тем, что проводят коррекционный перерасчет оптической системы, снижая толщину наносимого или снимаемого слоя материала до технологически освоенных величин на каждой асферической поверхности за счет увеличения общего количества вводимых в систему асферических поверхностей, определяют группу поверхностей, подлежащих асферизации в едином технологическом процессе, рассчитывают и изготавливают для каждой поверхности соответствующую ей маску, выбирая при этом значение максимального угла раскрытия выреза для каждой из масок по следующей математической зависимости:

где - максимальный угол раскрытия вырезов маски для асферизации i-того оптического элемента, угл. град;
- максимальная асферичность (максимальное отступление асферики от ближайшей сферы) i-го элемента, мкм;
- максимальная асферичность опорной поверхности, т.е. поверхности с наибольшей асферичностью из всей группы элементов, подлежащих асферизации, мкм;
- максимальный угол раскрытия вырезов маски для асферизации опорной поверхности, угл. град;
проводят процесс асферизации с помощью масок одновременно всей группы оптических элементов, а прекращают процесс в момент достижения на опорной асферизуемой поверхности толщины наносимого или снимаемого слоя, равной расчетному значению ю