СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ АЛМАЗОПОДОБНЫХ ПЛЕНОК ИЗ УГЛЕВОДОРОДНЫХ СОЕДИНЕНИЙ Российский патент 2001 года по МПК C23C16/26 

Описание патента на изобретение RU2171859C1

Изобретение относится к области получения однородных по всему объему алмазоподобных пленок на изделиях различного назначения с целью улучшения служебных характеристик этих изделий за счет улучшения теплоотвода из зон повышенного нагрева, повышения стойкости к абразивному износу и повышения химической стойкости и может быть применено в электронной промышленности при производстве транзисторов и интегральных схем, при производстве полупроводниковых элементов, в приборостроении, машиностроении, в геологии, в строительстве, а также при изготовлении износостойких изделий и инструментов.

Известен способ получения алмазоподобных пленок на изделиях из композиционного материала путем химического осаждения из газовой фазы слоя углерода из газообразной смеси углеводорода и водяного пара при температуре 1500-2500oC в вакуумной камере (патент DЕ N 3522583, кл. C 23 C 16/26, 1986).

Наиболее близким к предложенному изобретению по технической сущности и достигаемому результату является способ получения алмазоподобных пленок в низкотемпературной плазме тлеющего разряда из смеси углеводородов CH4 и C2H2 путем химического осаждения из газовой фазы. Подложку устанавливают в вакуумной камере, нагревают до 300-900oC, повышают давление, вводят реакционный газ. Магнитное поле и микроволновое излучение мощностью 300-600 Вт, генерирующее плазму, передают через волновод к вакуумной камере. В результате реакции на подложке вырастает тонкая пленка алмаза со скоростью ≥ 5 мкм/ч, имеющая твердость по Викерсу ≥ 4000 кгс/мм2 и электрическое сопротивление ≥ 109 Ом•см (заявка Японии 63185893, кл. С 30 В 29/04, 1988).

Недостатком известных способов получения алмазоподобных пленок является недостаточно высокое качество получаемой пленки.

Технической задачей изобретения является повышение качества алмазоподобной пленки.

Поставленная техническая задача достигается за счет того, что в способе получения алмазоподобных пленок из углеводородных соединений путем химического осаждения из газовой фазы на нагретую подложку слоя углерода в низкотемпературной плазме тлеющего разряда в качестве углеводородного соединения используют диадамантан или его изомеры с общей формулой C14H2O, осаждение слоя углерода осуществляют при напряжении плазматока 3000-6000 В, силе тока разряда 200-500 мА, фокусирующем магнитном поле в реальном зазоре 0,1-0,5 Тл, причем температура нагрева подложки составляет 120-400oC, а напряжение смещения на подложке ±100 В.

В оптимальном варианте описываемого способа возможно использование системы перемещения подложки в зоне тлеющего разряда, причем подложку подвергают воздействию электронов и ионов за счет ускоряющей конфигурации магнитного поля, а также использования фокусирующей конфигурации магнитного поля.

Температура катода может составлять (2000 ± 200)oC, а температура испарителя - 250-350oC.

В качестве углеводородного соединения в данном изобретении используют диадамантан или его изомеры с общей формулой C14H2O. Адамантан - это трицикло [3, 3,1,13,7] декан, с температурой плавления 269oC. Указанный материал представляет собой фрагмент структуры алмаза. Адамантан и его гомологи содержатся в нефти, в воде не растворяются. Диадамантан получают и вводят в область тлеющего разряда методом испарения (сублимации) при температуре испарителя 250-350oC.

Подложка, на которую наносят алмазоподобное покрытие, может быть выполнена из керамики, металла или сплава, композиционного материала.

На фиг. 1 представлена схематически напылительная установка (плазматрон) для нанесения пленок с использованием описываемого способа.

На фиг. 1а изображен вид сверху фокусирующей и ускоряющей магнитных систем.

На фиг. 1в изображен вид спереди плазматрона, где М - магнит.

Ниже приведен конкретный пример выполнения описываемого способа.

В напылительную установку вводят диадамантан и помещают на испаритель, температура которого 300oC. Диадамантан испаряется. Пары поступают в область низкотемпературной плазмы, создаваемой тлеющим разрядом. Напряжение плазматрона составляет 5000 В, сила тока разряда - 300 мА. Реальный зазор фокусирующего магнитного поля - 0,25 Тл. Подложку, изготовленную из высокоглиноземной керамики, нагревали до 200oC, напряжение смещения подложки составляло ± 100 В. Температура катода составляла 2000oC. В результате проведения указанного способа диадамантан разлагается, и на подложке осаждается тонкая алмазоподобная пленка толщиной 0,05 мкм, которая прочно сцепляется с поверхностью подложки.

Полученная алмазоподобная пленка имела следующие характеристики:
твердость по Викерсу ≈ 5500 кгс/мм2,
электрическое сопротивление ≥ 109 Ом•см.

Изделия с полученной алмазоподобной пленкой обладают высокой стойкостью к абразивному износу и химстойкостью. Преимуществом способа также является быстрота процесса и экономия энергии.

Похожие патенты RU2171859C1

название год авторы номер документа
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОРЕЛЬЕФА НА ПОВЕРХНОСТИ ПЛЕНОК 2002
  • Смирнов В.К.
  • Кибалов Д.С.
RU2204179C1
УСТАНОВКА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ РИСУНКА НА ПОВЕРХНОСТИ ПЛАСТИН 2001
  • Смирнов В.К.
  • Кибалов Д.С.
RU2180885C1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СИНТЕТИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА СО СТРУКТУРОЙ БЛАГОРОДНОГО ОПАЛА 2000
  • Самойлович М.И.
  • Самойлович С.М.
RU2162456C1
Способ нанесения антиэмиссионного покрытия из пиролитического углерода на сеточные электроды мощных электровакуумных приборов 2020
  • Кузнецов Вячеслав Геннадьевич
  • Кострин Дмитрий Константинович
  • Логвиненко Андрей Сергеевич
  • Сабуров Игорь Викторович
RU2759822C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛЕВОГО ТРАНЗИСТОРА С ПЕРИОДИЧЕСКИ ЛЕГИРОВАННЫМ КАНАЛОМ 2001
  • Смирнов В.К.
  • Кибалов Д.С.
  • Гергель В.А.
RU2191444C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РИСУНКА НА ПОВЕРХНОСТИ ПЛАСТИНЫ 2001
  • Смирнов В.К.
  • Кибалов Д.С.
RU2181086C1
УСТАНОВКА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОСТРУКТУР НА ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН ИОННЫМИ ПУЧКАМИ 2000
  • Смирнов В.К.
  • Кибалов Д.С.
RU2164718C1
УСТАНОВКА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ РИСУНКА НА ПОВЕРХНОСТИ ПЛАСТИН 2001
  • Смирнов В.К.
  • Кибалов Д.С.
RU2181085C1
МАТЕРИАЛ ДЛЯ КАТОДА 1995
  • Конов В.И.
  • Леонтьев И.А.
  • Нунупаров М.С.
  • Пименов С.М.
  • Прохоров А.М.
  • Углов С.А.
  • Фролов В.Д.
RU2094891C1
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ИЗНОСОСТОЙКОГО ПОКРЫТИЯ 2016
  • Еленкин Валерий Аверкиевич
  • Кочаков Валерий Данилович
  • Сироткин Вадим Леонидович
RU2617189C1

Реферат патента 2001 года СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ АЛМАЗОПОДОБНЫХ ПЛЕНОК ИЗ УГЛЕВОДОРОДНЫХ СОЕДИНЕНИЙ

Способ получения алмазоподобных пленок из углеводородных соединений для повышения качества пленок заключается в том, что осаждение слоя углерода осуществляют при напряжении плазмотрона 3000-6000 В и силе тока разряда - 200-500 мА. 4 з.п. ф-лы, 1 ил.

Формула изобретения RU 2 171 859 C1

1. Способ получения алмазоподобных пленок из углеводородных соединений путем химического осаждения из газовой фазы на нагретую подложку слоя углерода в низкотемпературной плазме тлеющего разряда, отличающийся тем, что в качестве углеводородного соединения используют диадамантан или его изомеры общей формулы С14Н2О, осаждение слоя углерода осуществляют при напряжении плазматрона 3000-6000 В, силе тока разряда 200-500 мА, фокусирующем магнитном поле в реальном зазоре 0,1-0,5 Тл, причем температура нагрева подложки составляет 120-400oС, а напряжение смещения - ±100 В. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используется система перемещения подложки в зоне тлеющего разряда, причем подложка подвергается воздействию электронов и ионов за счет ускоряющей конфигурации магнитного поля. 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что используется магнитное поле с фокусирующей конфигурацией. 4. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что температура катода составляет (2000±200)oС. 5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что температура испарителя составляет 250-350oС.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 2001 года RU2171859C1

JP 63185893 A, 01.08.1988
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНФОРМНОГО АЛМАЗОПОДОБНОГО УГЛЕРОДНОГО ПОКРЫТИЯ 1996
RU2099282C1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЕРЕНОСА НА ПОДЛОЖКУ НАНЕСЕННОГО В ФОРМЕ ПЛЕНКИ НА НЕСУЩУЮ ЛЕНТУ МАТЕРИАЛА 2001
  • Бебензее Инго
  • Херрманнсен Вульф
  • Бартлинг Оливер
RU2247692C2
US 4752504 A, 21.06.1988
ТЕЛО ВАКУУМНОЙ ИЗОЛЯЦИИ 2017
  • Винклер, Андреас
  • Химейер, Йохен
RU2727433C1
DE 3522583 A1, 06.02.1986.

RU 2 171 859 C1

Авторы

Самойлович М.И.

Самойлович С.М.

Даты

2001-08-10Публикация

2000-12-27Подача