Устройство для распыления жидкости Советский патент 1983 года по МПК B05B1/14 

Изобретение относится к устройствам для распыления жидкости, используемым преимущественно в полупроводниковом производстве для распыления проявляющего раствора при фотолитографической обработке полупроводниковых пластин и фотошаблонов. По основному авт. св. № 835501, известно устройство для распыления жидкости, содержащее полый цилиндр с отверстиями, равномерно расположенными в его стенке, причем на наружной поверхности цилиндра по его образующей выполнен паз, сообщающийся с отверстиями, при атом щирина паза равна диаметру отверстий, а глубина - двум диаметрам отверстий 1. Недостатком устройства является то, что при изменении давления в магистрали подачи жидкости плотность факела распыла изменяется. Однако в ряде технологических процессов, например при появлении полупроводниковых пластин и фотошаблонов в процессе их фотолитографической обработки, необходимо подавать проявляющий раствор в виде сплошной и равномерной по плотности завесы. МалейШее изменение плотности факела распыла приводит к изменению скорости проявления, в результате чего часть полупроводниковых пластин или фотошаблонов отходит в брак по причине недопроявления (если плотность факела распыла уменьшается) или перепроявления (если плотность факела распыла увеличивается). Целью изобретения является повыщение равномерности плотности факела распила. Поставленная цель достигается тем, что устройство для распыления жидкости снабжено размещенным внутри полого цилиндра по его оси подпружиненным поршнем. На фиг. 1 изображено устройство для распыления жидкости, общий вид; на фиг. 2 - разрез А-А на фиг. 1. Устройство содержит полый цилиндр 1 с отверстиями 2, равномерно расположенными в его стенке. На наружной поверхности цилиндра I по его образующей выполнен паз 3, сообщающийся с отверстиями 2. Ширина паза 3 равна диаметру d отверстий, а глубина - двум диаметрам d отверстий. Кроме того, устройство для распыления жидкости снабжено размещенным внутри полого цилиндра по его оси подпружиненным с помощью пружины 4 поршнем 5. Устройство работает следующим образом. Жидкость, например проявляюший раствор, под определенным давлением подается в полость цилиндра 1 и через отверстия 2 распыляется наружу в виде струй. Благодаря наличию паза 3 в результате взаимодействия всех струй образуется линейная струя равномерной плотности, ширина которой равна ширине паза 3. Размеры паза 3 были подобраны экспериментальным путем. При этом было установлено, что при всех других соотношениях размеров паза 3 и отверстий 2 ламинарность потока, а следовательно, и его равномерность нарушались. При увеличении давления в магистрали подачи жидкости, а следовательно, и в полом цилиндре 1 поршень 5, сжимая пружину 4, перемещается влево (фиг. 1). При этом открывается несколько дополнительных отверстий 2 и увеличение плотности факела распыла не происходит. При уменьшении давления жидкости поршень 5 под действием пружины 4 перемещается вправо (фиг. 1). Вследствие этого несколько отверстий 2 перекрываются поршнем 5 и расход жидкости уменьшается, а плотность факела распыла остается практически постоянной. Таким образом, изобретение обеспечивает создание равномерной струи распыляемой жидкости, плотность которой практически не изменяется при изменении давления жидкости внутри полого цилиндра. Проявление полупроводниковых пластин и заготовок фотошаблонов струей проявителя постоянной плотности обеспечивает повышение качества проявления и повышение выхода годных изделий на 0,8-1,5/о

Фиг.1

УСТРОЙСТВО ДЛЯ РАСПЫЛЕНИЯ ЖИДКОСТИ по авт. св. № 835501, отличающееся тем, что, с целью повышения равномерности плотности факела распыла, оно снабжено размещенным внутри полого цилиндра по его оси подпружиненным поршнем. i (Л ел QD Оо 4