Способ электронно-лучевого гравирования Советский патент 1984 года по МПК B41C1/04 H01J37/00 

Изобретение относится к технике гравирования, в частности к области изготовления печатных форм. Известен способ электронно-лучевого гравирования преимущественно при изготовлении печатных форм, вклю чающий формирование на обрабатываемо поверхности воздействием н нее электронным лучом ячеек различной глубины и отключение обрабатывающего воздействия луча на обрабатываемую поверхность при относительном переводе его от одной зоны обработки к другой 1 . Недостатком известного способа является недостаточно высокое качест во гравирования, вызванное влиянием пространственного заряда на электронный луч. Цель изобретения - повышение качества гравирования. Цель достигается тем, что согласно способу электронно-лучевого гравирования преимущественно при изготовлении печатных форм, включающему формирование на обрабатываемой поверхности воздействием на нее электронным лучом ячеек различной глубины и отключение обрабатывающего воздействия луча на обрабатываемую поверхность при относительном переводе его от одной зоны обработки к другой, осуществляется отключение обрабатывающего воздействия луча при.его относительном переводе от одной зоны обработки к другой путем расфокусирования луча или дискретным многократным его прерыванием с интервалам воздействия на обрабатываемую поверх ность длительностью, при которой отсутствует эффект обработки. Электронный гравированный орган осуществляет относительное по отношению к обрабатываемой поверхности перемещение над поверхностью подлежащей гравировке формы. Под воздействием электронного луча в местах, необходимых для формирования растровых точек, происходит электронная обработка металла. В результате этого формируются чашеобразные углубления, величина и глубина которых зависит от интенсивности луча, длительности его воздействия и места, расположения его фокальной плоскости.. В процессе перемещения гравировального органа в очередную точку гравирования производится расфокусировка луча. Это приводит к тому, что электронный луч не влияет на обрабатываемую поверхность. При достижении очередной точки гравирования луч снова фокусируется и процесс обработки поверхности возобновляется. Из-за того, что положение луча, его интенсивность в самом гравировальном органе не изменялись, остается стабильным и пространственный заряд внутри объема источника лучей. Стабильность пространственного заряда влияет на стабильность положения электронного луча и тем самым на качество гравируемых ячеек. Эффекта стабильности пространственного заряда можно добиться также если вместо расфокусировки луча осуществляется дискретное многократное его прерывание, Длительность импульсов воздействия луча на обрабатываемую поверхность при этом выбирается исходя из условия отсутствия эффекта обработки.

СПОСОБ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ГРАВИРОВАНИЯ преиь|ущественно при изготовлении печатных форм, включающий формирование на обрабатываемой поверхности воздействием на нее электронным лучом ячеек различной глубины и отключение обрабатывающего воздействия луча на обрабатываемую поверхность при относительном переводе его от одной зоны обработки к другой, отличающийся тем, что, с целью повышения качества гравирования, отключение обрабатывающего воздействия луча при его относительном переводе от одной зоны обработки к другой осуществляют или расфокусировкой луча, или путем дискретного многократного его прерывания с интервалами воздействия на обрабатываемую поверхность длительностью, при которой отсутствует эффект обработки. СО