Катодно-лучевая трубка с теневой маской Советский патент 1985 года по МПК H01J29/07 

Изобретение относится к электрон ной технике, в частности к технике j;Be. катодно-лучевых трубок, снабженных теневыми масками. Целью изобретения является повышение прочности и жесткости маски за счет искривления ее поверхности. На чертеже представлена конструк тивная схема экранно-масочного узла катодно-лучевой трубки. Представленньй узел содержит фронтальную плоскую панель 1 экрана и теневую маску 2, связанную с панелью 1 с помощью элементов 3 крепления и поддерживающих планок 4. Маска 2 выполнена со множеством щелевидных отверстий 5, расположенных параллельными колонками. По направлению расположения колонок отверстий 5 маска 2 выполнена с гоф рами, имеющими вид плавной волны. 7 Ограничение снизу на расстояние между смежными пиками гофров соответствует максимальной частоте волны гофров, а ограничение сверху соответствует нали ию по крайней мере одному периоду волны гофрировки. Элементы 3 крепления маски целесообразно выполнять эластичными, а поддерживающую планку 4 располагать по центральной линии профиля гофрированной маски. Возможны и другие схемы крепления. Теневая маска, выполненная с гофрами и соответствующим образом закрепленная, деформируется при нагреве таким образом, что незначительно смещаются к панели или от нее пики гофров, причем это смещение значительно меньше, чем в масках с плоской или слабо изогнутой поверхностью.

КАТОДНО-ЛУЧЕВАЯ ТРУБКА С ТЕНЕВОЙ МАСКОЙ, содержащая катод, фокусирзтоще-отклоняющую систему, экран и теневую маску с множеством щелевых отверстий, расположенных паралпельными колонками, вьшолненную с периодическими изгибами в направлении колонок и прикрепленную к трубке при помощи удерживающих устройств во множестве точек вдоль изогнутых сторон, отличающаяся тем, что, с целью повышения прочности и жесткости маски, периодические изгибы образованы плавными гофрами, рассто5гние мел(ду смежными пиками которьк по крайней мере в два раза больше расстояния между колонками отверстий i и не превьшает произведения числа колонок отверстий на расстояние W между колонками, измеренное по контуру маски.