Способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с полупрозрачным или непрозрачным катодом на стекле Советский патент 1959 года по МПК H01J9/12 H01J40/16 

Предлагается способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с полупрозрачным пли непрозрачным катодом на стекле, в которых очувствляющее вещество (например, цезий) распыляют на стенки прибора или ампулы с последующим нанесением его на катод, и устройство для осуществления этого способа, позволяющее производить этот процесс на многопозиционном откачном полуавтомате.

Известен способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с сурьмяно-цезиевым катодом на стекле, при котором цезий получают нагревом одной таблетки его солей, заключенный в припаянной к прибору стеклянной ампуле, а толщину слоя сурьмы при ее напылении контролируют по исчезновению свечения нити лампы накаливания, за которой наблюдают через напыляемый слоГ; нли на глаз по цвету напыляемого слоя. Такая технология не обеспечивает точной дозировки цезия, так как выход цезия из различных таблеток различен и приводит к значительной неравномерности толщины слоя сурьмы. Поэтому обработку сурьмы цезием (формирование катода) приходится вести в течение врел1ени, различного для приборов одного и того же типа. Повышение чувствительности катода осуществляется пуском в прибор кислорода через систему порционных кранов или капилляров. Все эти операции выполняются на стационарных откачных постах, так как известные откачные полуавтоматы не обеспечивают получение необходимого давления, а известные способы вакуумной обработки фотоэлектронных приборов не позволяют мехапизировать этот процесс.

По предлагаемому способу вакуумная обработка фотоэлектронных приборов с полу ирозрачным или непрозрачным катодом на стекле производится следующим образом. Очувствляющее вещество (например) цезий) получают нагревом нескольких таблеток солей этого вещества.

X 122821

заключенных в обойме, находящейся в стеклянной ампуле или в приборе, а напыление вещества катода (например, сурьмы) производят при непрерывном контроле толщины наныляемого слоя электронным прибором. При этом достигается необходимая стабильность выхода цезия и строго онределенная толщина слоя сурьмы, что позволяет обработку сурьмы цезием (формирование катода) осуществлять прогревом в нечи в течение времени, постоянного для всех приборов данного типа и выбранного так, чтобы световая чувствительность катода достигала наибольшей величины. Чувствительность катода повыщают впуском в прибор через клапан-дозатор определенной порции воздуха.

Описываемый способ вакуумной обработки осуществляется на многопозиционном откачном полуавтомате с подвижными пароструйными насосами, отличающимся от известных тем, что на каждой нозиции полуавтомата между пароструйным насосом и гнездом карусели внутри соединяющего их трубопровода устаповлены охлаждаемая ловущка, наполненная жидким азотом, и клапап-дозатор.

На фиг. 1 изображена схема одной ячейки полуавтомата; на фиг. 2 - конструкция устройства для пуска доз воздуха.

Гнездо / соединено через вакуумные уплотнения 2 с насосом о, трубопроводом 4, служащим одновременно корпусом ловушки, в котором укреплен клапан-дозатор о. Жидкий азот заливается в стакан 6 через трубку 7. Клапан-дозатор состоит из корпуса 8, закрытого крыщкой 9, укрепленной в корпусе ловушки 10. При нормальном положении клапана 1} пружина 12 нрижимает его к верхней резиновой прокладке /.:, и воздух не попадает в корпус ловушки. При нажатии на ручку 14 клапана он прижимается к нижней прокладке 15, и воздух, проходя между крышкой и стержнем клапана, заполняет зазор между корпусом и клапаном. Когда клапан, возвращаясь в нормальное положение, вновь п)кжимается к верхней прокладке, порция воздуха, находившаяся между клапаном и корпусом, входит в откачную систему.

Электронный прибор д.чя непрерывного контроля толщины напь ляемого слоя сурьмы устанавливается на той позиции полуавтомата, где должно быть закончено распыление сурьмы. Прибор состоит из газонаполненной стробоскопической лампы, посылающей с частотой 50 гц световые импульсы длительностью около 100 мк сек. и энергией около 0,5 дж, фотоэлемента и усилителя. Световые импульсы проходят через напыляемый слой и попадают на фотоэлемент, ток которого уменьшается по мере увеличения толщины слоя, что приводит к срабатыванию нспол 1И7ельного устройства и прекращению напыления по достижении заданной величины слоя. Изобретение может быть использовано для механизации вакуумной обработки фотоэлектронных приборов.

Пред м е т н з о б р е т е п и я

1. Способ вакуумной обработки фотоэлегсгронпых приборов с полупрозрачным или непрозрачным катодом на стекле, в которых очувствляющее вещество (например, цезий) распыляют на стенки прибора или ампулы с последующим нанесением его на катод, о т л и ч а ю nj. и йс я тем, что, с целью стабилизации выхода очувствляющего вещества и механизации процесса вакЗумной обработки приборов, очувствляющее вещество получают нагревом заключенных в обойме нескольких таблеток солей этого вещества, вещество катода (например, сурьму) напыляют на стенки колбы при непрерывном контроле толщины напыляемого слоя электронным прибором, катод формируют прогревом в печи в течение времени, постоянного для всех приборов данного тина, и чувствительность катода првыщают впуском в .прибор через клапан-дозатор определенной порции воздуха.