Подпорная стена на слабом основании Советский патент 1987 года по МПК E02D29/02 

Изобретение относится к строитель- етву и касается возведения подпорных стен на слабом основании.

Цель изобретения - снижение материалоемкости подпорной стены.

На чертеже показана подпорная стена, поперечньй разрез.

Подпорная стена включает в себя лицевую 1 и фундаментную 2 плиты, жестко соединенные друг с другом и образугадие уголковьй профиль, сваи 3 и установленные мезвду головами свай и фундаментной гшитой прокладки 4 из двух слоев пластика с низким коэффициентом трения.

Подпорную стену возводят следующим образом.

Забивают в грунт ряд свай 3 с размещением их вдоль подпорной стены. .На головах свай 3 устанавливают прокладки 4, после чего планируют основание под фундаментную плиту 2 и устанавливают секции подпорной стены, .образуемые лицевой 1 и фундаментной 2 плитами. Затем планируют основание перед подпорной стеной и производят обратную засьшку за стеной.

В процессе смещения подпорной стены по горизонтали от действия активного давления происходит мобилизация сил трения фундаментной ; штиты по грунту и пассивного давления грунта на нижнюю часть лицевой плиты.

Редактор М. Петрова

Составитель Г, Гаврищук

Техред В.Кадар Корректор М. Демчик

Заказ 3548/32

Тираж 606Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР

по делам изобретений и открытий 113035, Москва, ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г, Ужгород, ул. Проектная, 4

При этом благодаря прокладкам с низким коэффициентом трения на сваи передается незначительная горизонтапь- ная нагрузка, что исключает возможность их излома.

При жестком соединении голов свай с фундаментной плитой на сваи передаются большие горизонтальные нагрузки,

что вызывает необходимость увеличения числа свай.

Путем изменения длины свай можно регулировать величину реакции основания за счет различной осадки свай,

что позволяет получать выгодное с точки зрения несущей способности грунта очертание эпюры реакции основания.

Использование изобретения позволяет сократить количество -рядов свай с четырех-пяти до одного.

Формула изобретения

Подпорная стена на слабом основании, включающая лицевую и фундамент- ную плиты, жестко соединенные между собой с образованием уголкового профиля, и сваи,размещенные под фундаментной плитой, отличающая-. с я тем, чт.о, с целью снижения материалоемкости подпорной стены, она снабжена антифрикционными прокладками, размещенными между головами свай

и фундаментной плитой.

Изобретение касается возведения подпорных стен на слабом основании и позволяет снизить материалоемкость стены. Подпорная стена включает лицевую 1 и фундаментную 2 плиты, жестко соединенные друг с другом и образующие уголковьй профиль. Фундаментная шшта стены опирается на ряд свай 3, размещенный вдоль-подпорной стены, При этом между фундаментной плитой 2 и.головами свай 3 установлены прокладки 4 из двух слоев пластика с низким коэффициентом трения. Благода ря прокладкам на сваи передается незначительная горизонтальная нагрузка от горизонтального давления грунта, что исключает возможность их излома. 1 ил. § (Л //у //у //у /У/ /У у///