Блок откачки вакуумной камеры электрофизической установки Советский патент 1990 года по МПК H01J41/20 

Изобретение относится к технике получения вакуума преимущественно в ускорителе заряженных частиц,

Целью изобретения является увеличение производительности н надежности блока откачки вакуумной камерьз электрофизической установки.

Па фиг. 1 изображена схема предлагаемого блока; на фиг. 2 представлен катод - источник геттерных пленок.

Вакуумная камера 1 электрофизической установки содержит встроенный блок 2 откачки вакуумной камеры, источник 3 заряженных частиц, систему гА фокусировки нучка, мишень 5, В блоке 2 откачки вакуумной камеры установлены катоды 6 электродуговог О источника геттерных пленок, снабженные защитными экранами 7, На каждой на торцовых поверхностей каждого катода 6 выполнено углубление в котором расположена магнитная система 8, состоящая из постоянных магнитов 95 установленных асимметрично разноименными полюсами навстречу друг другу, 1 Каждый катод 6 снабжен поджигающим устройством 10,

Блок работает следующим образом. При возбуждении вакуумной дуги при помощи поджигающего электрода 10 меж- ду катодом 6- и стенками блока 2 откачки, служащими анодом, загорается вакуумный дуговой разряд. При зтом на торце катода 6 возникают катодные пятна. В магнитном ноле движение ка- kaтoдньгx пя/ген является направленным и описывается

движения катодных пятен. Движение в направлении острого угла возникает

Ю- Тл

при индукции магнитного поля и более, В данной конфигурации магнитного поля единственно возможным является противоамперово движение катодных пятен, направленное к центру катода. Катодные пятна, возник10

15

шие на торце катода, выталкиваются с него и локализую ся на рабочей поверхности катода, хаотически перемещаясь по ней. Ширина- рабочей поверхности зависит от неличины индукций магнитного поля на торцах катода. При индукции она занимает весь катод за.исключением небольших областей (5 см) на торцах„ При увеличении индукции можно сузить рабочую область распыления, возможно также управлять ею при изменении величин индукции магнитного поля на торцах.

При горении вакуумной дуги катодные пятна распьшяют рабочую поверх- 25 ность катода, при этом пленка геттера напыляется на свободные поверхности блока откачки и сорбирует актив- кые газы.

30 Формула изобретения

20

принципом максимума

Блок откачки вакуумной камеры электрофизической установки, преимущественно ускорителя заряженных час- 2g тиц, содержащий корпус, герметично соединенной с камерой, в котором размещен источник геттерных пленок с цилиндрическими катодами и защитные экраны j о. тличающийся магнитного поля, согласно которому это 40 тем, что, с целью повьгаения произво- движение можно разложить на составля- дительности и надежности, на каждой ющие: прртивоамПерошэ движение в из торцовьгх поверхностей каждого ка- направлении вектора х В и движе- тода выполнено углубление, в котором ние в направлении острого угла, об- осесимметрично расположено не менее разованного при пересечении магнит- двух магнитов разноименными полюса- ных силовьк линий с поверхности като- ми навстречу один другому,, вектор

намагниченности которых находится в плоскости, перпендикулярной ocjj катода, а вектор - | х В, где I - ток разряда, В - индукция магнитного поля, на боковой поверхности направлен к его центру.

да (правило Острого угла)„ Противоамперово движение является определяющим иовозникает уже в очень слабык магнитных полях ( 5 1 О Тл) . При увеличении индукции магнитного поля возрастает скорость направленного

13368452

движения катодных пятен. Движение в направлении острого угла возникает

Ю- Тл

при индукции магнитного поля и более, В данной конфигурации магнитного поля единственно возможным является противоамперово движение катодных пятен, направленное к центру катода. Катодные пятна, возник

шие на торце катода, выталкиваются с него и локализую ся на рабочей поверхности катода, хаотически перемещаясь по ней. Ширина- рабочей поверхности зависит от неличины индукций магнитного поля на торцах катода. При индукции она занимает весь катод за.исключением небольших областей (5 см) на торцах„ При увеличении индукции можно сузить рабочую область распыления, возможно также управлять ею при изменении величин индукции магнитного поля на торцах.

При горении вакуумной дуги катодные пятна распьшяют рабочую поверх- ность катода, при этом пленка геттера напыляется на свободные поверхности блока откачки и сорбирует актив- кые газы.

Формула изобретения

-ll--

Составитель О, Дикова Редактор Т Юрчикова Техред И.Попович Корректор М. Пожо

501

Тираж 391 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР

по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная,