ИЗЛУЧАТЕЛЬНАЯ МНОГОПРОХОДНАЯ ГЕТЕРОСТРУКТУРА Советский патент 2012 года по МПК H01L33/00 

Похожие патенты SU1387821A1

название год авторы номер документа
ИЗЛУЧАЮЩАЯ ГЕТЕРОСТРУКТУРА С ВНУТРЕННИМ УСИЛЕНИЕМ ИНЖЕКЦИИ 2012
  • Бекирев Увеналий Афанасьевич
  • Потапов Борис Геннадьевич
RU2576345C2
ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ ИЗЛУЧАТЕЛЬНАЯ МНОГОПРОХОДНАЯ ГЕТЕРОСТРУКТУРА 1983
  • Бекирев У.А.
SU1157994A1
ИЗЛУЧАТЕЛЬНАЯ МНОГОПРОХОДНАЯ ГЕТЕРОСТРУКТУРА 1982
  • Бекирев У.А.
  • Инкин В.Н.
  • Степанищева Г.В.
SU1111645A1
ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ ИЗЛУЧАТЕЛЬНАЯ МНОГОПРОХОДНАЯ ГЕТЕРОСТРУКТУРА 1982
  • Бекирев У.А.
SU1165211A1
Полупроводниковая гетероструктура для импульсного излучателя света 1990
  • Галченков Дмитрий Владимирович
  • Образцов Андрей Александрович
  • Стрельченко Станислав Сергеевич
SU1837369A1
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ИНЖЕКЦИОННЫЙ ЛАЗЕР 2004
  • Бекирев Увиналий Афанасьевич
RU2301486C2
МНОГОКАСКАДНЫЙ ЛАВИННЫЙ ФОТОДЕТЕКТОР 2008
  • Патрашин Александр Иванович
RU2386192C1
МАТРИЦА ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ 2014
  • Патрашин Александр Иванович
  • Бурлаков Игорь Дмитриевич
  • Яковлева Наталья Ивановна
RU2571434C1
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ИСТОЧНИК ИНФРАКРАСНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ 2001
  • Матвеев Б.А.
RU2261501C2
Инжекционный лазер 1969
  • Алферов Ж.И.
  • Андреев В.М.
  • Корольков В.И.
  • Портной Е.Л.
  • Третьяков Д.Н.
SU300126A1

Реферат патента 2012 года ИЗЛУЧАТЕЛЬНАЯ МНОГОПРОХОДНАЯ ГЕТЕРОСТРУКТУРА

Излучательная многопроходная гетероструктура, содержащая излучающий слой, к которому с одной стороны примыкает широкозонный слой, а со стороны, противоположной широкозонному слою, - дополнительный узкозонный слой с шириной запрещенной зоны меньше, чем в излучающем слое, минимальная толщина которого - порядка или больше обратной величины коэффициента поглощения излучения, возникающего в излучающем слое, при этом разница Δ ширин запрещенных зон между дополнительным и излучающим слоями связана с параметрами слоев соотношением

где А - параметр с размерностью длины;

p и τ - концентрация основных носителей и время жизни неосновных носителей, относящиеся к излучающему слою;

P0 и τ0 - те же параметры для дополнительного слоя;

Lэф - эффективная диффузионная длина неосновных носителей в излучающем слое;

К - постоянная Больцмана;

Т - абсолютная температура,

отличающаяся тем, что, с целью увеличения внешнего квантового выхода, дополнительный слой выполнен из компенсированного материала со степенью компенсации примесей не менее 90% и концентрацией их в пределах 1017 - 1019 см-3, толщина его и излучающего слоя больше диффузионной длины L0 неосновных носителей в дополнительном слое и равна параметру А в указанном соотношении.

SU 1 387 821 A1

Авторы

Бекирев У.А.

Инкин В.Н.

Степанищева Г.В.

Даты

2012-07-20Публикация

1984-12-10Подача