СХР
:о
со
со со
; Изобретение относится к иэготов- Iлению полимерных пленочных материа- I лов и может быть использовано в про- цессе изготовления полимерных пленок методом экструзии в бумажно-тарной, химической промьшшенности, машиною строении и других отраслях
Цель изобретения - повышение качества обработки пленок за счет ста- билизации окисленности их поверхности.
На чертеже схематично показана предлагаемая установка для поверхно- стной обработки полимерных пленок. Установка содержит обогреваемую камеру Ij озонаторы 2, установленные в обогреваемой камере 1, окислительную ванну Sj датчик 4 окисленности поверхности полимерной пленки регулятор 5 скорости движения пленки 6, управляющий элемент 7, датчик 8 концентрации окислителя 9 в окислительной ванне 3, датчик 10 концентрации
ванну 3, где обрабатывается окислителем и далее - к узлу намотки (не показан)„ Датчик А окисленности г полимерной пленки контролирует качество обработки пленки 6, Датчик 8 контролирует концентрацию окислителя 9 в ванне 3, датчик 10 ко нтролирует концентрацию озона в обогреваемой
10 камере 1, а датчик 12 измеряет толщину полимерной пленки 6, Сигналы с датчиков 4,8,10 и 12 заводятся в управляющий элемент 7, где осуществи ляется их сравнение с заданными зна-
5 чениями контролируемых параметров и вырабатывается управляющее воздействие, которое поступает в задающие цепи озонаторов 2, регулятора 5 скорости движения пленки 6 и регулятора
20 11 концентрации окислителя 9 в ванне 3,.
В случае уменьшения степени окис-., ленности пленки 6 сигнал отрицатель-. озона в обогреваемой камере 1, регуля-25 ого отклонения с датчика 4 поступает
в управляющий элемент 7, который через задающие цепи озонаторов 2 и регулятора 11 увеличивает в обогреваемой камере 1 концентрацию озона за счет увеличения мощности излучения озонаторов 2 и повышает процентное содержание окислителя в окислительной ванне 3 при поступлении высококонцентрированного раствора окислителя из питающей емкости 13 регулятора 11 в окислительную ванну 3 таким обра- -. ; зом, чтобы степень окисленности пленки поверхности 6 поднялась до задан- ног о значения. При этом количество концентрата, поступающего из питающей емкости }3 в окислительную ванну 3, регулируется регулятором 14 расхода концентрата в соответствии с устав- -У ками управляющего элемента 7. При отклонении толщины пленки от заданного значения, связанном с изменением вязкостных характеристик перерабатываемого полимера и вызванном колебаниями производительности экструдера, соответствующий сигнал с датчика 12 поступает в управляющий элемент 7, который и вырабатывает задание на р.е- гулятор 5 скорости движения пленки 6 и изменяет скорость отбора пленки таким образом, чтобы толщина пленки приняла заданное значение Одновремен но с этим вырабатываются управляющие воздействия на регулятор 11 и озонаторы 2.
.
тор И концентрации окислителя, дат чик 12 тошдины полимерной пленки 6, Регулятор 11 состоит из питающей емкости 13, соединенной с окислительной ванной 3 посредством регулятора 14 расхода концентрата из емкости 13, Установка содержит также щелевую головку 15 экструдера, истекающая из которой полимерная пленка 6 отводится посредством направляющих роликов 16о Датчик 4 окнсленности поверх кости пленки соедютен с первым входом управляющего элемента. 7) датчик 8 концентрации окислителя соединен с . вторым входом управляющего элемента 7, датчик 10 концентрации озона со-, единен с третьим входом управляющего элемента 7, а датчик 12 толщины пленки соединен с четвертым входом управляющего элемента 7. Регулятор 11 концентрации окислителя соединен с первым выходом управляющего элемента 7, второй выход которого соединен с озонаторами 2, а третий выход - с per гулятором 5 скорости движения пленки.
Установка работает следующим образом.
Полимерная пленка 6, истекая из щелевой головки 15 экструдераj протягивается роликами 16 через обогреваемую камеру 1 с установленными в ней озонаторами 2, где ее поверхность подвергается воздействию озтзна. Затем пленка 6 поступает в окислительную
ванну 3, где обрабатывается окислителем и далее - к узлу намотки (не показан)„ Датчик А окисленности полимерной пленки контролирует качество обработки пленки 6, Датчик 8 контролирует концентрацию окислителя 9 в ванне 3, датчик 10 ко нтролирует концентрацию озона в обогреваемой
камере 1, а датчик 12 измеряет толщину полимерной пленки 6, Сигналы с датчиков 4,8,10 и 12 заводятся в управляющий элемент 7, где осуществи ляется их сравнение с заданными зна-
чениями контролируемых параметров и вырабатывается управляющее воздействие, которое поступает в задающие цепи озонаторов 2, регулятора 5 скорости движения пленки 6 и регулятора
11 концентрации окислителя 9 в ванне 3,.
В случае уменьшения степени окис-., ленности пленки 6 сигнал отрицатель-. -25 ого отклонения с датчика 4 поступает
35
40
. о r.
м
45
50
55
в управляющий элемент 7, который через задающие цепи озонаторов 2 и регулятора 11 увеличивает в обогреваемой камере 1 концентрацию озона за счет увеличения мощности излучения озонаторов 2 и повышает процентное содержание окислителя в окислительной ванне 3 при поступлении высококонцентрированного раствора окислителя из питающей емкости 13 регулятора 11 в окислительную ванну 3 таким обра- -. ; зом, чтобы степень окисленности пленки поверхности 6 поднялась до задан- ног о значения. При этом количество концентрата, поступающего из питающей емкости }3 в окислительную ванну 3, регулируется регулятором 14 расхода концентрата в соответствии с устав- -У ками управляющего элемента 7. При отклонении толщины пленки от заданного значения, связанном с изменением вязкостных характеристик перерабатываемого полимера и вызванном колебаниями производительности экструдера, соответствующий сигнал с датчика 12 поступает в управляющий элемент 7, который и вырабатывает задание на р.е- гулятор 5 скорости движения пленки 6 и изменяет скорость отбора пленки таким образом, чтобы толщина пленки приняла заданное значение Одновременно с этим вырабатываются управляющие воздействия на регулятор 11 и озонаторы 2.
При увеличении тогачины пленки 6 управляюпдай элемент 7 в соответствии с сигналом датчика 12 увеличивает скорость отбора пленки 6 посредством регулятора 5 и увеличивает концентрацию озона в обогреваемой камере 1 и окислителя в окислительной ванне 3, вырабатывая уставки на озонаторы Я регулятор 11.
При уменьшении толщины пленки 6 ниже нормы, управляющий элемент 7 посредством регулятора 5 уменьшает скорость движения пленки 6, а для
и окислителя не примет заданное значение, обеспечивающее необходимое качество обработки пленки 6,
Поскольку время прохождения пленки 6 через обогреваемую камеру 1 и окислительную ванну 3 исчисляется дог лями секунды, то строгое поддержание концентрации озона в обогреваемой камере окислителя в окислительной ванне 3 на уровне способствует качественной обработке пленки 6.
Отклонение регулируемых параметров от заданных значений в предлагаемой
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ОКИСЛЕНИЯ СУЛЬФИДНЫХ МИНЕРАЛОВ | 2008 |
|
RU2385954C2 |
СТАНЦИЯ ПРИГОТОВЛЕНИЯ ПИТЬЕВОЙ ВОДЫ | 2007 |
|
RU2355648C1 |
СПОСОБ УДАЛЕНИЯ ПРИМЕСИ НЕАЛМАЗНОГО УГЛЕРОДА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1991 |
|
RU2019502C1 |
СПОСОБ ПРИГОТОВЛЕНИЯ ПИТЬЕВОЙ ВОДЫ | 1992 |
|
RU2051128C1 |
УСТАНОВКА ДЛЯ ОБЕЗЗАРАЖИВАНИЯ ЖИДКОСТИ | 1994 |
|
RU2057548C1 |
Высокотемпературная факельная установка для обезвреживания свалочного газа | 2023 |
|
RU2811237C1 |
СПОСОБ ОБЕСПЕЧЕНИЯ КАЧЕСТВА ВОДЫ АВТОМАТИЧЕСКОЙ РЕГУЛИРОВКОЙ МИНИМАЛЬНО НЕОБХОДИМОЙ ДОЗЫ ОЗОНА | 1998 |
|
RU2162060C2 |
Способ очистки поверхности кремния | 1986 |
|
SU1424072A1 |
Способ дезактивации оборудования первого контура системы охлаждения реактора | 2022 |
|
RU2804283C2 |
УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ ВОДЫ В ПЛАВАТЕЛЬНОМ БАССЕЙНЕ | 2004 |
|
RU2257355C1 |
снижения энергоемкости процесса вьфа- 15 установке, относящейся к системам
батьгеает управляющее воздействие, направленное на уменьшение интенсивное ти работы озонаторов 2.
В слзгчае уменьшения при заданной скорости движения пленки 6, концент. рации озона в обогреваемой камере 1 вследствие утечек и концентрации окислителя в окислительной ванне 3 вследствие уноса части окислителя с пленкой 6 ниже минимально допустимой нормы. Сигналы отрицательного откло-ч нения концентрации с датчиков 10 и 8, поступающие в управляющий элемент 7, начинают увеличивать уставки концентрации озона в обогреваемой камере зо ботки при нестабильности вязкостных 1 и окислителя в окислительной ванне свойств сырья, а также при переходе 3 до тех пор, пока концентрация озона на сырье других партий и марок.
0
5
замкнутого регулирования, в установившемся режиме равно с-...статической ошибке и может регулироваться величиной коэффициента усиления управляющего элемента 7,
Использование предлагаемого изобретения позволит повысить качество пленочных материалов, получаемых методом экструзниз за счет улучшения качества поверхностной обработки пленок путем стабилизации окисленности поверхности пленки и : т еньшнть энерго емкость процесса обработки за счет автоматического выбора рехима обраРедактор Юо Середа Техред Л.Сердюкова
Заказ 1854/22 Тираж 559Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР
по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4
Корректор М.Шароши
Устройство для управления процессом формования целлофановой пленки | 1973 |
|
SU517006A1 |
Солесос | 1922 |
|
SU29A1 |
Поверхностная обработка пластмасс | |||
Перевод с чешского | |||
Л.: Химия, с.53, р.16. |
Авторы
Даты
1988-04-30—Публикация
1985-09-03—Подача