4
ю
4;ь О 1C
Изобрртение относится к электротехнической и электронной технике, а именно к полупроводниковой технологии, а также к ряду смежных областей, где предъявляются высокие требования к чистоте поверхности основных и вспомогательных материалов.
Цель изобретения - повышение степени очистки поверхности за счет уменьшения содержания на ней органических и неорганических загрязнений.
Диапазон рН применяемого аммиачного раствора: при рН меньше 9 реакции комплексообразования ионных при- месей адсорбированных на поверхности пластин протекают в недостаточной мере из-за малой концентрации ионов аммония в реакционной среде, что не позволяет достигнуть соответствующей очистки поверхности; при рН больше 1 происходит травление поверхности пластин, что недопустимо для их дальнейшего использования при производстве интегральных схем.
Температура проведения процесса отмывки. При температуре меньше не наблюдается необходимой степени очистки поверхности, что, очевидно, связано с кинетическими факторами. При температуре больше 90 С идет раст трав поверхности за счет взаимодействия поверхности с щелочным раствором
Концентрация О, и 0 в озонкисло- родной смеси. При концентрации озона меньше 1% и соответственно кислорода больше 99% количество молекул окислителя в реакционной смеси недостаточно для полного окисления органических примесей, бактерий и пироге
АО°С
нов, а также молекулярных неоргани
ческих примесей до ионных,концентрацию газообразного озона в современных озонаторах вьш1е 10% получить практически невозможно.
Время отмывки определяетс я кинетическими особенностями взаимодействия кремния и окисной пленки с реационной смесью: отмывка менее 5 мин недостаточна для очистки поверхности от примесей, при отмывке более 20 мин наблюдается локальное растравление поверхности пластин.
Пример 1. В ванну наливают 5%-ный раствор NH40Н в деионизованно воде. Раствор нагревают до ДЗ-ЗЗ С, помещают пластины кремния и подают окислитель - озонкислородную смесь через устройство, вьшолненное из фто
Q
5
0
5
0
40
45
55
50
ропласта с размером отверстий 0,1- 0,5 мм, с количеством отверстий не менее 500, со скоростью 6-8 л/мин в течение 5-10 мин. При этом значение рН раствора поддерживается близким к 10,5, а концентрация озона в окислительной смеси 6%. Затем пластины отмывают в деионизованнойводе барбо- тируемой озонкислородной смесью при параметрах технологического процесса,
Пример2. В ванну наливают деионизованную воду и нагревают до 45- 55 С. Помещают пластины кремния в воду и начинают процесс перемешивания посредством барботирования аммиак- азотной смеси со скоростью 3-5 л/мин (рН раствора 11,0) и окислительной озонкислородной смеси со скоростью 7-9 л/мин с концентрацией озона 6-8% через устройство, выполненное из фторопласта с размерами отверстий 0,1- 0,5 мм, с количеством отверстий не менее 500 в течение 5-10 мин. Затем пластины отмывают в деионизованной воде барботируемой озонкислородной смесью при параметрах, соответствующих технологическому процессу,
ПримерЗ. В ванну наливают деионизованную воду и нагревают до 50 С. Помещают пластины кремния в воду и начинают процесс перемешивания .посредством барботирования газообразного аммиака со скоростью 8 л/мин (рН раствора 11,0-11,5) и окислительной озонкислородной смеси с концентрацией озона 6% со скоростью 8 л/мин через устройство, выполненное из фторопласта с размерами отверстий 0,1- 0,5 мм,с количеством отверстий не менее 500 в течение 7-10 мин. Затем отключают барботаж газообразным аммиаком, подключают к ванной проточную деионизованную воду и производят отмывку изделий в соответствии с технологическим режимом.
ПримерА. В ванну наливают 2,5% раствор воде. Раствор
помещают пластины кремния и подают окислитель - озонкислородную смесь через устройство, выполненное из фторопласта с размером отверстий 0,1- 0,5 мм, с количеством отверстий не менее 500, со скоростью 6-8 л/мин в течение 5-10 мин. При этом значение рН раствора поддерживается близким к 10, концентрация озона в окислительной смеси 4-6%. Затем пластины
в деионизованной нагревают до 45-55 С,
отмывают в деионнзованной воде при параметрах технологического процесса.
Пример 5.
В ванну наливают
деионизованную воду и нагревают до 45-55 С. Помещают пластины кремния в воду и начинают процесс перемешивания посредством барботирования аммиак-азотной смеси со скоростью 8- 10 л/мин (рН раствора ) и окислительной озонкислородной смеси со скоростью 6-8 л/мин с концентрацией озона 4-6% через устройство, выполненное из фторопласта с размером отверстий 0,1-0,5 мм, с количеством отверстий не менее 500 в течение 5- 10 мин. Затем пластины отмывают в де онизованной воде при параметрах, сооветствующих технологическому процесс
Количество светящихся точек на очищенной поверхности под микроскопом (200) 1-3.
Формула изобретения
1 . Способ очистки поверхности кремния, включающий обработку в нагретом щелочном аммиачном растворе в присутствии окислителя с финишной отмывкой в деионизованной воде, отличающийся тем, что, с целью повышения степени очистки поверхности за счет уменьшения содержания на ней органических и неорганических загрязнений, обработку производят в аммиачном растворе с рН 9-13 при температуре 40-90°С, в качестве окис- лителя используют газообразную озон- кислородную смесь с концентрацией озона 1-10% и кислорода 90-99%, которую барботируют через аммиачный раствор в течение 5-20 мин.
2. Способ ПОП.1, отличающийся тем, что для финишной от- .мывки используют деионизованную воду, барботируемую озонкислородной оме.СЬЮ.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПЛАСТИН КРЕМНИЯ | 2001 |
|
RU2228563C2 |
СПОСОБ ОЧИСТКИ ИЗДЕЛИЙ, ПРЕИМУЩЕСТВЕННО ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН | 2003 |
|
RU2249882C1 |
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ВОД (ВАРИАНТЫ) | 2003 |
|
RU2247078C1 |
СПОСОБ ОЧИСТКИ ИЗДЕЛИЙ, ПРЕИМУЩЕСТВЕННО ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН | 1992 |
|
RU2024993C1 |
СПОСОБ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН | 2011 |
|
RU2495512C2 |
СПОСОБ ОЧИСТКИ ДЕТОНАЦИОННЫХ НАНОДИСПЕРСНЫХ АЛМАЗОВ | 2013 |
|
RU2599665C2 |
СПОСОБ НЕПРЕРЫВНОЙ ЖИДКОСТНОЙ ХИМИЧЕСКОЙ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ, ПРЕИМУЩЕСТВЕННО ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН | 1997 |
|
RU2118013C1 |
СПОСОБ ОЧИСТКИ АЛМАЗОВ ДИНАМИЧЕСКОГО СИНТЕЗА | 2016 |
|
RU2632838C1 |
СПОСОБ ОЧИСТКИ И ПОЛУЧЕНИЯ ПОРИСТОЙ ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН | 2012 |
|
RU2507630C1 |
СПОСОБ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ САПФИРОВЫХ ПОДЛОЖЕК | 2009 |
|
RU2395135C1 |
Изобретение относится к электротехнической и электронной технике, а именно к полупроводниковой технологии, а также к ряду смежных областей. Цель - повышение степени очистки по- верхности за счет уменьшения содержания на ней органических и неорганических загрязнений. Отмывку поверхности кремния осуществляют в аммиачном растворе с ,5 при температуре 40-90 С, причем в процессе от-; мывки его перемешивают окислительной газообразной смесью озона с кислородом с концентрацией озона 1 - 10%, кислород - остальное до 100%. Финишная отмывка осуществляется в деиони- зованной воде, барботируемой озонкис- с лородной смесью. На очищенной поверхности в микроскоп (увеличение х 200) наблюдаются 1-3 светящихся точки. 1 3.п. ф-лы. $ (Л
Авторское свидетельство СССР № 757049, кл | |||
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
W.Kern., D.Puotinen | |||
Cleaning solutions based on hydrogen peroxide for use in silicon semiconductor technology | |||
RCA Rev., 1970, v | |||
Способ очистки нефти и нефтяных продуктов и уничтожения их флюоресценции | 1921 |
|
SU31A1 |
Индукционная катушка | 1920 |
|
SU187A1 |
Авторы
Даты
1988-09-15—Публикация
1986-10-31—Подача