Отражатель квантрона твердотельного лазера Советский патент 1990 года по МПК H01S3/02 

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использопа- но в кваитропах с безжидкостным ох- лажде П ем полости накач.хн.

Цель изобретения - увеличение К1ТД и надетогости отражателя.

Сущность изобретенип поясняется чертежом.

Отражатель, квантрона содержит под-IQ ложку 1J сквантывающую акткаиый элемент 2, ycтaнoDЛJeнньiй внутри сапфиро вого теплоотвода, вьтолнениогр в виде коак.сиального цилинд1)а 3, В отра- жателе также расположены две лампы 15 накачки 4 , установленные сш-тметртгно по разные cTopoia активного злемен- та, парал-пвльно его оптической,оси. Онтически ё оси ламп накачки и активного элемента лежат в одной плоское- 20 ти. На подложку нанесено многослойное покрытие,

Подложка выполнена из термообра- ботанного стекла марки СО-1 15 системы Ы О-А12 Оз-5107, а покрытие - из 25 смеси окиси циркония с размерами частиц 2-80 мкм и жидкого калиевого стекла с плотностью 1,П-1,15 г/см npij соотношении компонентов 1:1, причем число слоев покрытия выбрано от 30

2 до Д. ; .

Термообработка стекла позволяет увеличить е.го коэффициент отражения. После термообработки коэффициент отражения стекла системы 35 увеличивается до 90%. Высокий коэф{1)ициент отражения позволяет наносить небольшое количество слоев покрытия, увеличивает механическую прочность последнего,40

Окись циркония, как показали эксперименты, . является стойкой к воздействию излучения лампы накачки и обеспечивает увеличение коэффициента отражения отражателя квантрона не 45 менее чем до 94%, Жидкое калиевое стекло сочетает прозрачнйстъ и прочность к механо-климатичаским воздействиям. При .меньших размерах частиц

окиси цирко тя коэффициент отражения уменьшается, так как размер частиц становится сравнимым с длиной волны излучения накачки. При больших размерах частиц покрытие станопйтся рыхлым II осыпается при механических воздействиях.

Соблюдение ограничений по плотности жидкого калиевого стекла и величине отношеиия массы окиси циркония к массе жидкого калиевого стекла необходимо для получения механически прочного покрытия.При использовании ЖИДКОГО раствора для нанесения покрытия необходимо для -обеспече 1ия высокого коэффициеита отражения наносить большое количество слоев, что уменьшает механическую прочность покрытия. При густом растворе покрытие получается рыхлым. Механический прочность покрытия уменьшается также, если число слоев покрытия бо- дее 4, При одном слое уменьшается коэффициент отражения отражателя.

Нанесение указанного покрытия на подложку отралсателя позврлило увеличить КПД отражателя до 15-30% при накачке активного элемента из алюмо- иттриевого граиата с иеодимом энергией от 4 до 40 Дж) и повысить наработку отражателя до 10 импульсов.

Формула изобретения

Отражатель квантрона твердотельного лазера, включающий подложку с. нанесенными иа нее слоями покрытия, отличающий ся тем, что, с целью увеличения КПД и надежности отражателя, подлозжа выполнена из термообработанного стекла структуры

Li O-AljO j-SiO s а покрытие - из смеси окиси, циркония с размерами чаеТиц 2-80 мкм и лсидкого калиевого стекла плотностью 1,,15 г/см при соотношении компонент 1:, причём покрытие содержит от двух до четырех слоев,. .

//

Изобретение относится к кваитоBofl электро1тке и может быть использовано в квантронах с безжидкостным охлаждением. Цель - повышение КПД и падежзюсти отражателя. Подложка отражателя выполнена из термоойработанно- го стекла структуры Li O-A Oj-FSiO. На подложку нанесено покрытие из смеси окиси циркония с размерами частиц 2-80 мкм и жидкого калиевого стекла с плотностью 1,11-1,15 г/см при соотношении компонент Isl, прнчем число, слоев покрытия выбрано от 2 до 4. Это позволило повысить кпд отражателя до 30% и увеличить надежность отража- теля до 10 импульсов наработки. I ил. с S