Устройство для нанесения пленок в вакууме Советский патент 1988 года по МПК C23C14/36 

777777777,

d

4 СО

4;

ГО

Из обр етеиие ст1 ;)снтс г покрытий в яакуу К:, а И;ч, ройстпам для г OHtK .: о,; териалов., и бы : ь к; для яанесеньтя /ип;; трон1юйз onTii tCKcu я ji:n; леиностях ..

Цель и:зоиретения - ii .-i изЕодите-пьносги устройст ,-: --т ва пленок за счет увепч- л; кя коо( циента использования расг; - : 1й(;г:сг1 териала н равномерности ;:f:cu: fijia ння его по поверхности nouJiojKK H,

На чертеже; приве;:;ена ринцяп ;, яак схема устройства д/ Я плекпл в Р1акз уме

Устройство СОС7 ОИТ И -;

камеры 1 с ра зияд};ой сие тоящей из соссно распо- ю: ; дри - скогс ано;1й 2 и раз . его торцовых повер}а;остт :.: н 4, зьтол ;енньйс кз рас ri териала. Като,-; 3 имеет ф) рабочая поверхность IVOTOJ быть плоской или вогнуто фокусировки расгтьцтяемьпс г гоков на подло ккодер;лател г, 5,

Катод ко/гьи- - on iie стие которого выполнено J-. виде уса- 4eH;ioro конуса. МенъУ1и;ч .сиамзтром х нус обрашек к аноду 2, от ,)Стр или больи1е .гаиччстр; а.1:о,да /, Bo;ihUiHH ,r;Hc NieTD конуса oripaii-pfi D Рону поддоккоп,ержатег1я 5 соз/д ния продольного марнятногс riOiTj рядной CHCTeN e с,:7ула1Т сслгенои :; 6., г iicxntо/квгшый вне накуумнс;й -гамерь; 1 i-; охватывающий анод 2 д ка: одь 3 и - . Кольцевой катод 4 н лодло;«ко; :, зржате 5 заземлены, а дисковый ;:с;тод 3 i ая 2 подключены к П1/ло) Ь: ой (слемме источника пита;;ия (не . мох ностью подачи на чих i потенциалов различного з;

Устройство г:эботает cj; разом,

Е вакуумнуго камеру 1 п хдазтсн инертный газ - арг от; до ;---.ия ,33 1и Mia, Ка ано,д 2 :о ;;:аз- Сй а; лохдатапьньп потендиз ncvi-:;:;:.::. ческо ких киловольт , На KOJ:;o ;cao;; х, : cj; подается юлолсктельный nt. :;;1 | -;Лл: ,;:; 1 кВ, С по1 ;01цт,ю солеиииги н; .- кой системе создс;ет я мД:-- ое ::(я порядка ; кЭ, гТослс ia);:; ;д:ин разр; у поверхноС 1 Р; анода 2 обр,: ;уе ся с; заряженной ильзмьд в j O rr;roi ; ч;иер:

РУЮТСЯ и УСКОРЯ ОТС; h.Ol b i

1

:) рапи /су и после много - гньт (и гуг ;: .дио1 о слоя Р, ;;. .ip;;; - Д)ды, 1-аспь ;яемь Й -татериал ка - : - оселщается па подло(ке. Л слс;е заряженной гшаз:чы образуются злпкть С ны oHOMaj-bHO большой энер- , которые боглбардирук Т катоды 3 и : . -;аг 7И1Д10го Г 0 1Я , Для того, чтобы предо - 1 р&:: кть бомбард;- ровку по зтнми эда.;: : рона: Ш, на дисковый З - тод 3 н одается положительньп ; потек axaj,. откоситепоно кольде17ого катода 4 . г одложг одержатсля 5. В результате ,;мго доч . я .с; е электроны а;- омально б1л1;ь:ао| .; И Е,ь;саживаютск на цис- i;.;i-sohf ;хатод.с 3 Ч: ;чЗсаетсг ио;-)ов,, ; они бомбардируют катоды 3 и J , В р с/л лb l p j e т ;одл: 1;ка ае но;1:вергается бомбардировке ни эле:строна Ф1, ни йогами, что улудияет качество напыля- е.:,ой тпенки.

Таким образзг: устройство ноззоля- ст О беспеч ИБа I 3 высокую производи- Tt tbHOCTb за счет большой скорости 5аспь ления при низких рабочих давле- 31ЧЯХ- получить качественные пленки за счет работы устройства при низком .лении с пред1отвра;цением перегрева подложки элек чюнамк наносить р-ав- но ер;;ые по тс;лшине пленки на неподвижные Г1он, благодаря использо- }5йнию конргчэсг; зй кщиени в комбинагдаи с г|, ;ос: ой использовать его для ионного травления подложки для чгг о магни глюе поле уменьшается на- столзко движение ионов стало 1греимущестт::гнно пг сдольньм и они начали бо1«1бардировать подложку,

Ф о р м у л а и 3 о б р е т е и и я

Устройство ;,Лн : 1анесения тигенок в вакууме, содергкацее цилиндрический чолый дисковы} и кольцевой ка) зды из распыляемого материала, за- ко снл etiHjjje р-га : 01:;цовых лс5верхностях а ;С;да,; цилиндрический электромагнит, охватываюи-кй анод и катоды, подложко дг р«атеить; закреудтенный со стороны ьцево.го ка7 (::дг „ и источник н ита- аи:а, о т Г: н ч а ю п.; е е с я тем, -то с нелыо повышения производитель:..)сти и качества пленок за счет уве- ч ( - i;: ни :: к о ) ГлИ е н та у- сн ол ь з о я а ни я оас::ь;де}1ног а мзтерийла и равномернос .;/ распрс;дел;:мГ)Я его по поверхности ::iv: ;io ;;:ai. отверстие кольиевого като::; ь ио тнено в виде усеченнот о кону31437А12

са, обращенного большим диаметром ккольцевой катод и подложкодержатепь

подложкодержателю, причем меньшийзаземлены, а дисковый катод подклюдиаметр отверстия больше или равенчан к положительной клемме источника

внутреннему диаметру анода, при этомпитания.

Изобретение может быть использовано для нанесения тонких пленок в электронной, оптической и других отраслях промышленности. Цель изобретения - повышение производительности устройства и качества пленок за счет увеличения коэффициента использования распьпяемого материала и равномерности распределения его по поверхности подложки. На торцах цилиндрического анода 2 размещены катоды (К) 3 и 4 из распьшяемого материала. К 3 имеет форму диска, а К 4 - форму кольца, отверстие которого вьшолнено в виде усеченного конуса, причем ieньший диаметр конуса обращен к аноду 2. Для предотвращения бомбардировки подложки элeктpoнa и на К 3 подается положительный потенциал относительно К 4 и подложкодержателя 5. 1 ил.