Прибор для определения кристаллографической направленности монокристаллов Советский патент 1962 года по МПК G01N21/17 

Известны приборы для определения кристаллографической направленности монокристаллов, в которых определение ориентации монокристаллов производится по способу световых фигур. Предлагаемый прибор отличается от известных тем, что, с целью увеличения точности определения, на пути светового луча смонтирована группа зеркал для многократного отражения. Кроме того, прибор универсален, так как позволяет изменять измерительную базу «образец-экран. Это достигается тем, что предметный столик смонтирован на шариковых направляющих.

На чертеже показана схема прибора, иллюстрирующая его действие. В качестве источника света используют лампу накаливания / (8 в, 30 вт) с нитью накала, имеющей точечную проекцию на плоскость, перпендикулярную оптической оси. Свет, пройдя конденсатор 2, фокусируется на сменной диафрагме 5 величина которой ступенчато регулируется от 0,2 до 2 мм. Далее луч света, отразивщись от зеркала 4, направляется в длиннофокусный объектив 5 (типа Юпитер-11 фр. 135 мм), после чего суживающийся пучок света, последовательно отражаясь от зеркал 6, 7 и образца 8, попадает на матовый экран 9. Объектив фокусируется таким образом, чтобы изображение отверстия диафрагмы 5 совпало с плоскостью экрана 9. Юстировка установки производится с помощью эталонного образца (например, зеркала), устанавливаемого на базировочную плоскость вместо образца 8. При этом изображение в виде светящейся точки поворотом зеркала 7 выводится в центр экрана. Изображение на матовом экране рассматривается на просвет с помощью зеркала 0 в смотровое окно.

Зеркала б и // и образец 8 укреплены на перемещающейся по стрелке платформе. На чертеже она .изображена в переднем крайнем положении. При этом расстояние «образец-экран равно 114,5 мм, а одно деление щкалы, равное 1 мм, соответствует отклонению 15. В

№ 148927- 2 крайнем заднем ноложении нлатформы образец 8 занимает место зеркала 6, а место образца - зеркало П. При этом расстояние «образец- экран по ходу луча равно 523 мм, а одно деление шкалы в этом случае соответствует отклонению кристаллографической оси на 3 мин.

Шкала экрава имеет боковой подсвет, что делает ее отчетливо различимой при наблюдении.

В установке базировочная площадка под образец расположена горизонтально, в связи с этим возрастает точность базировки слитков и упрощается базировка пластин и кристаллов, которые могут просто накладываться на предметное стекло. В этом случае слабая точка, отра женная от поверхности стекла, является указателем базовой плоскости, а расположение этой точки относительно световой фигуры, получающейся в результате рассеяния света образцом, немедленно указывает на совпадение или несовпадение базовой и определяемой кристаллографической плоскостей.

Предлагаемый прибор компактен и удобен в обращении.

Из-за удобного горизонтального расположения базовой плоскости в установке отказалось возможным применить известную ранее приклейку слитков на предметный столик для разрезки на станках абразивной резки полотнами.

Прибор может быть использован в лабораторной практике и в цехах механической обработки полупроводниковых материалов.

Предмет изобретения

1.Прибор для определения кристаллографической направленности монокристаллов по способу световых фигур, смонтированный в светозащищенном корпусе, снабженный источником освещения, длиннофокусным объективом, матовым экраном и предметным столиком для крепления измеряемых образцов, отличающийся тем, что, с целью повыщения точности определения, на пути луча смонтирована система зеркал, многократно отражающая луч.

2.Форма выполнения устройства по п. 1, отличающаяся тем, что, с целью изменения измерительной базы «образец-экран, платформа с предметным столиком смонтирована на щариковых направляющих.