Способ изготовления контактных растров Советский патент 1990 года по МПК G03F5/16 

Изобретение относится к полиграфии, в частности к фоторепродукционным растровым процессам.

Цель изобретения - повышение качества контактных растров за счет получения с заданных градационных характеристик, интервала оптических плотностей и улучшения их оптико-фотографических свойств.

Формирование скрытого изображения элементов контактного растра на фотоматериале осуществляют последовательным поэлементным экспонированием. Для 1-го скана устанавливают два параметра; Кос, - коэффициент усиления цепи обратной связи, определяющий интенсивность сканирующего луча и tjKcni время экспонирования.

Интервал оптических плотностей контактного растра определяют

h

Yt3Kcn-, представляющей собой суммарную экспозицию, задаваемую в процессе экспонирования суммой сканов

§1 t-эксп л Ј;ксгм+Ј}кспЗ +..a+t3KCnn, ()

TZ

t эк си 1 / t зкс-п 1 I « о Г t эксл п

Градационную характеристику контактного растра определяют вкладом каждого скана Е , -К ос; t Эксп , в суммарную экспозицию Н.

ttW) Ј к

1 ос i t3Kcn i

ел

Јъ (X)

где DK - интегральная оптическая

плотность фотометрируемого участка контактного растра- матрицы;

D,,M - оптическая плотность экспонируемого участка фотоматериала;

К; - i-ая интенсивность экспонируемого участка Фотоматериn ала с коэффициентом усилениячисло сканов.

Способ осуществляют следующим образом.

Формула изобретения

Способ изготовления контактных растров, включающий экспонирование фотоматериала через контактный растр- матрицу, его химико-фотографическую обработку и сушку, отличающийся тем, что, с целью повышения качества контактных растров за

Изобретение относится к способам изготовления контактных растров. Целью изобретения является повышение качества контактных растров за счет получения заданных градационных характеристик интервала оптических плотностей и улучшения их оптико-фотографических свойств. Фотоматериал экспонируют сканирующим световым пятном через контактную растр-матрицу поэлементно суммой сканов. Каждый элемент фотометрируют и по цепи обратной связи модулируют сигналом коррекции сканирующее пятно. Время экспонирования и интенсивность сканирующего пятна различны для каждого скана. Затем проводят химико-фотографическую обработку, сушку экспонированного фотоматериала и получают контактный растр.

Фотоматериал экспонируют сканирую- . счет получения заданных градационных

щим световым пятном через .контактный растр матрицу поэлементно суммой ска- мов, затем каждый элемент фотометри- руют и по цепи обратной связи модулируют сигнадрм коррекции сканирующее пятно. Время экспонирования и интенсивность сканирующего пятна, различные для каждого скана„ Проводят химико-фотографическую обработку и сушку фкспонироваиного фотоматериала и получают контактный растр.

t5

20

характеристик, интервала оптических плотностей и улучшения оптико-фотографических свойств, фотоматериал экспонируют сканирующим световым пятном поэлементно суммой сканов, при этом каждый элемент фотометриру- ют и по цепи обратной связи модулируют сигналом коррекции сканирующее пятно, причем время экспонирования и интенсивность сканирующего пятна различны для каждого ска на.

Редактор А.Мотыль

Составитель Е.Позняк Техред Л.Олийнык

Заказ 141

Тираж 372

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат Патент, г.Ужгород, ул.Гагарина, 101

характеристик, интервала оптических плотностей и улучшения оптико-фотографических свойств, фотоматериал экспонируют сканирующим световым пятном поэлементно суммой сканов, при этом каждый элемент фотометриру- ют и по цепи обратной связи модулируют сигналом коррекции сканирующее пятно, причем время экспонирования и интенсивность сканирующего пятна различны для каждого ска на.

Корректор Т.Малец

Подписное