Способ контроля формы отражающей поверхности зеркальных отражателей Советский патент 1990 года по МПК G01B11/24 G01B9/21 

Изобретение относится к оптическому приборостроению, а более конкретно к оптическим измерениям на основе спекл-интерферометрии.

Цель изобретения - повышение точности контроля.

На чертеже представлена одна из возможных схем устройства, позволяющая реализовать предлагаемый способ.

Устройство включает когерентный источник 1 света, затвор 2, конденсор 3, диффузный рассеиватель 4, светоделитель 5, контролируемый зеркальный отражатель 6 с механизмом 7 его перемещения, фотопластинку 8.

Способ осуществляется следующим образом,

Когерентное излучение от источника 1, пройдя конденсор 3, при открытом затворе 2 освещает диффузный рассеиватель 4. Диффузное излучение, отразившись от светоделителя 5 и зеркального отражателя 6, поступает на фотопластинку 8 и регистрируется на ней за время первой экспозиции. Перед второй экспозицией зеркальный отражатель 6 с помощью механизма 7 его перемещения смещается в плоскости, проходящей через его вершину и параллельной плоскости фотопластинки 8,

ел ел

со оо со

мл пслнчину а Перед третьей экспо- (ицней зеркальный отражатель 6 сме- 1лаетс я на величину а симметрично относительно сяоего первоначального положения и так далее, причем перед каждой последующей экспозицией величина перемещения кратна величине а.

При восстановлении записи проявленную фотопластинку освещают плос- кой когерентной волной от источника, используемого при записи, и в фокальной плоскости линзы, установленной за фотопластинкой, получают картину периодически чередующихся узких ин- терференционных полос. По результатам измерения периода повторения ДХ определяется радиус кривизны сферического зеркала R 2аДХ1/(flf ), где 1 - расстояние от плоскости, проходящей че- рез вершину отражателя 6, до плоскости фотопластинки 8; 1- длина волны используемого источника света; f - фокусное расстояние используемой линзы.

Нарушение эквидистантности интерференционных полос характеризует отклонение поверхности от сферической формы или волновые аберрации сферических зеркал. Точность измерения определяется точностью определения центра интерференционных полос и возрастает с увеличением числа экспозиций „ Общее число экспозиций выбирают нечетным, длительность первой экспозиции выбирают из равенства экспозиции обратной величине светочувствительности фотопластинки, а последующие проводят циклами, включающими две экспозиции, после размещения отражателя перед каждой экспозицией в симметричньк относительно первоначального положениях, при этом величины смещений отражателя последовательно увеличивают от никла к циклу на значение,равное первоначальному смеж щению, а длительность каждой экспозиции в цикле выбирают равной

N -1

„

-т j - N- л.

N- LC

С

М-1

- длительность 1-й экспозиции; - общее число экспозиций; - порядковый номер цикла экспозиций;

- число сочетаний из N-1 по --- - m и из N-1 по --- соответственно.

Формула изобретения

1.Способ контроля формы отражающей поверхности зеркальных отражателей, включающий освещение отражателя диффузионно-рассеянным излучением, последовательную экспозицию фотопластинки излучением, отраженным от зеркального отражателя при различных его положениях, отличающий- с я тем, что, с целью повышения точности контроля, используют когерентный источник излучения и экспозиции, начиная с второй, производят циклами при смещении отражателя в положении, симметричные относительно первоначального, и в плоскости, параллельной плоскости фотопластинки, при этом величину смещений отражателя последовательно от цикла к циклу увеличивают .

2.Способ по п. 1, отличающийся тем, что длительность каждой экспозиции в цикле выбирают равной

N-

с-г--

л NH / СШ Т V

С

N-

N m

общее число экспозиций; порядковый номер цикла экспозиций;

-

V, и

С

N-

где

- число сочетаний из N-1 по

N-1 м . N-1

- m и из N-1 по --22

соответственно j

С0 - длительность первой экспозиции.

Изобретение относится к оптическому приборостроению, конкретно к оптическим измерениям на основе спекл-интерферометрии. Цель изобретения - повышение точности контроля. Способ включает экспонирование фотопластинки диффузным излучением, образованным при пропускании когерентного излучения через рассеиватель, и последующее отражение его от зеркального отражателя, местоположение которого от экспозиции к экспозиции изменяют путем смещения отражателя параллельно фотопластинке. Проводят нечетное число экспозиций, причем длительность первой экспозиции выбирают из равенства экспозиции обратной величине светочувствительности фотопластинки, а последующие экспозиции проводят циклами, включающими две экспозиции, после размещения отражателя перед каждой экспозицией в симметричных относительно первоначального положениях, при этом величины смещений отражателя последовательно увеличивают от цикла к циклу на значение, равное первоначальному смещению, а длительность каждой экспозиции в цикле определяют из математического выражения. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.