Отрезающий фильтр Советский патент 1991 года по МПК G01B5/28 

Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к интерфе- ренциальным оптическим покрытиям, и может найти применение в оптических и оптоэлектронных приборах, например спектрофотометрах, микроскопах,квантовых генераторах, передающих камерах цветного телевидения и т.п.

Целью изобретения является упрощение конструкции фильтров с границей рабочей области на уровне пропускания Т 0,1, соответствующей длине волны AOJ 800 - 810 нм.

На чертеже изображена спектральная зависимость энергетического коэффициента пропускания Т от длины волны Я(при нормальном падении излучения кривая 1, при угле падения, равном 30° кривая 2) экспериментального образца фильтра для Ар 1000 нм.

Пример. Отрезающий фильтр содержит подложку из кварцевого стекла с показателем переломления пп 1,46 и размером 500x30x10. Оптические толщины слоев ин- терференциального покрытия, считая от подложки, равны 250, 4500, 130 и 170 нм.

Фильтр изготовлен на установке А 1100Q выпускаемой фирмой Лейбольд Хе- раус, ФРГ.

Покрытие наносилось без применения системы коррегирующих масок. При этом разброс между центром детали и краем составил 2 - 4 нм по положению фронта спектральной характеристики и не более 2 - 3% по интегральному энергетическому коэффициенту пропускания.

Покрытие наносилось при следующих условиях: Скорость нанесения слоя теллу- рида кадмия 8-10 А/с; ТПОдл. во время нанесения слоя теллурида кадмия составляет + (170-200)°С.

При Тподл. + 170°С происходит снижение механической прочности фильтра, при Тподл. + 200°С уменьшается энергетический

сл

с

Os

4 Ю Ю ГО О

коэффициент пропускания в рабочей области спектра.

Отрезающий фильтр имеет следующие характеристики: механическая прочность, выдерживает протирание эфиром; термическая прочность, выдерживает прогрев до + 200°С; химическая стойкость, выдерживает пребывание в жидком азоте в течение 15 мин; средний энергетический коэффициент пропускания в рабочей области спектра Т 90%; средний уровень фона в зоне подавления ),1%

Формула изобретения Отрезающий фильтр, состоящий из прозрачной в рабочей области спектра подложки и расположенного на ней интерференционного покрытия, выполненного из

чередующихся слоев тугоплавких окислов и селективно поглощающего материала, отличающийся тем, что, с целью упрощения конструкции фильтров с границей рабочей области на уровне пропускания Т 0,1, соответствующей длине волны Ао,1 - 800 - 810 нм, первый и третий слои, считая от подложки, выполнены из диоксида гафния и имеют оптическую толщину

(0,125 Ар + 110) нм и (0,28 Яр - 110) нм соответственно, второй слой выполнен из теллурида и кадмия имеет оптическую толщину 4,25 нм, а четвертый слой выполнен из диоксида кремния и имеет оптическую толщину (0,36 Ар - 233) нм, где Ар - рабочая длина волны фильтра в нм.

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может найти применение в оптических и оптоэлектронных приборах. Изобретение позволяет упростить конструкцию фильтров с границей рабочей области на уровне пропускания Т 0,1, соответствующей длине волны Ао,1 800- 810 нм. Фильтр выполнен из прозрачной в рабочей области спектра подложки и расположенного нэ ней интерференционного покрытия, состоящего из четырех слоев. Первый и третий слои, считая от подложки, выполнены из диоксида гафния и имеют оптическую толщину 4,25 нм, а четвертый слой выполнен из диоксида кремния и имеет оптическую толщину (0,36 Яр-233) нм, где Ар- рабочая длина волны фильтра в нм. 1 ил.

wо

900

1000 1100 1200 4 м