Изобретение относится к оптическому приборостроению.
Целью изобретения является повышение производительности контроля в процессе обработки в серийном производстве.
На чертеже представлена принципиальная схема устройства, которое содержит патрон 1 с закрепленным на нем гильзой 2 с прикрепленной на смоле обрабатываемой асферической линзой 3, которая обращена к гильзе предварительно обработанной асферической поверхностью, являющейся ее базой. Линзы 4 компенсатора закреплены в полой части патрона так, чтобы в полученной оптической системе была исправлена волновая аберрация, а также обеспечивался
автоколлимационный ход лучей Кроме того устройство содержит анализатор 5
Устройство работает следующим образом.
Оно устанавливается на обрабатывающем станке на котором производится обработка асферической поверхности После обработки от нее отводится режущий инструмент и со стороны обработанной поверхности линзы 3 к устройству подводится анализатор 5 В качестве анализатора испо ть- зуется осветительная (рабочая) эталонная и регистрирующая ветви интерферометра Оптические элементы 3 и 4, закрепленные в патроне, являются рабочей ветвью полученного интерферометра типа Тваймз на-Гри- на Сравнивая волновой фронт выходящий
о о
а о
из рабочей ветви, с эталонным фронтом, определяют разность хода лучей интерференционной картины, которую наблюдают визуально или регистрируют на фотоприемнике, и по анализу интерференционной картины судят о качестве обработки асферической поверхности. В случае необходимости обработку целиком или по зонам можно продолжить после отвода анализатора из зоны действия обрабатывающего инструмента.
Формула изобретения Устройство контроля формы асферической поверхности линзы в процессе ее об0
работки, включающее точечный источник излучения, установленный перед контролируемой асферической линзой, компенсатор с зеркальной поверхностью и анализатор волнового фронта, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности контроля, контролируемая линза закреплена в гильзе, жестко соединенной с патроном, установленным в шпинделе обрабатывающего станка, причем компенсатор установлен за контролируемой линзой в полой части патрона, а оптические оси контролируемой линзы и компенсатора совмещены с осью вращения патрона.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ИНТЕРФЕРОМЕТР ДЛЯ КОНТРОЛЯ ФОРМЫ РАЗНОПРОФИЛЬНЫХ ПОВЕРХНОСТЕЙ КРУПНОГАБАРИТНЫХ ОПТИЧЕСКИХ ДЕТАЛЕЙ | 2017 |
|
RU2663547C1 |
Интерферометр для контроля формы вогнутых оптических поверхностей вращения | 1990 |
|
SU1768965A1 |
ИНТЕРФЕРОМЕТР ДЛЯ КОНТРОЛЯ ФОРМЫ ВЫПУКЛЫХ ГИПЕРБОЛИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ | 2017 |
|
RU2649240C1 |
ИНТЕРФЕРОМЕТР ДЛЯ КОНТРОЛЯ КАЧЕСТВА ОПТИЧЕСКИХ | 1973 |
|
SU373519A1 |
Интерферометр для контроля формы оптических поверхностей | 1980 |
|
SU996857A1 |
Интерферометр для контроля выпуклых поверхностей линз большого диаметра | 1979 |
|
SU890067A1 |
ИНТЕРФЕРОМЕТР С ФУНКЦИЕЙ ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНЫХ ИЗМЕРЕНИЙ | 2020 |
|
RU2744847C1 |
ИНТЕРФЕРОМЕТР ДЛЯ КОНТРОЛЯ ФОРМЫ ВЫПУКЛЫХ, ВОГНУТЫХ СФЕРИЧЕСКИХ И ПЛОСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ КРУПНОГАБАРИТНЫХ ОПТИЧЕСКИХ ДЕТАЛЕЙ | 2004 |
|
RU2255307C1 |
Интерферометр для контроля вогнутых асферических поверхностей | 1990 |
|
SU1728650A1 |
Интерферометр для контроля формы поверхностей оптических деталей | 1980 |
|
SU987378A1 |
Изобретение относится к оптическому приборостроению и предназначено для контроля формы асферических поверхностей линз в процессе их обработки. Целью изобретения является повышение производительности контроля в процессе обработки в условиях серийного производства. Устройство содержит контролируемую асферическую линзу 3, компенсатор 4, обеспечивающий автоколлимационный ход лучей после отражения от зеркальной поверхности, и анализатор 5, содержащий осветительную, эталонную и регистрирующие ветви интерферометра. Контролируемая асферическая линза закреплена в гильзе, жестко соединенной с патроном, установленным в шпинделе обрабатывающего станка. Компенсатор установлен в полой части патрона, а оптические оси контролируемой линзы и компенсатора совмещены с осью вращения патрона. Контроль формы поверхности заключается в анализе интерференционной картины, получаемой в результате интерференции эталонного и рабочего волновых фронтов. Рабочий волновой фронт формируется после прохождения излучения дважды через оптические элементы, закрепленные в патроне. 1 ил.
П-,
Технология оптических деталей | |||
/Ред | |||
М.Н.Семибратов, М., 1985, с | |||
Способ приготовления кирпичей для футеровки печей, служащих для получения сернистого натрия из серно-натриевой соли | 1921 |
|
SU154A1 |
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Авторы
Даты
1991-07-07—Публикация
1988-05-06—Подача