Стекло Советский патент 1991 года по МПК C03C3/78 C03C4/08 

Изобретение относится к производству оптических оксидных стекол, активированных полупроводниковыми соединениями и предназначенных для использования в качестве светофильтров и элементов лазерной техники.

Цель изобретения - повышение крутизны границы поглощения и сужение переходной области при сохранении длинноволнового края поглощения в ближней инфракрасной области спектра и одновременном обеспечении нечувствительности его к термообрабортке.

Стекло имеет следующий состав, мас.%: SI02 74,36-78,76; Na20 6,18-16,05; СаО 8.59-9,10: Li20 0.01-5,22; CulnS2 0,74 0,99.

Синтез стекла осуществляли путем плавления шихт, приготовленных из соответствующих реактивов: кварцевого песка, натрия углекислого, кальция углекислого, лития углекислого и полупроводникового соединения . находящихся в мелкодисперсном состоянии, в газопламенной

печи при максимальной температуре 1450 10°С с выдержкой в течение 1 ч в восстановительных условиях. Для создания восстановительной среды в шихту вводят уголь в количестве 2,0 мас.%. Выработку стекломассы осуществляют на холодную плиту с последующим отжигом образцов в муфельной электрической печи при температуре 570±5 С в течение 2 ч. Исследования спектрапьных характеристик проводят на образцах в виде полированных плоскопараллельных пластинок толщиной 2 мм.

В табл.1 приведены составы стекол, в табл 2 - их свойства На чертеже представлены спектральные характеристики стекол, при этом номера спектральных кривыхсоот- ветствуют номерам составов, приведенным в табл 1, состав 4 - известные стекла.

Стекло окрашивается в процессе синтеза и не требует дополнительной термообработки. Длинноволновой край полосы поглощения расположен е инфракрасной области Положение полосы поглощения у

сл

с

о сл ю со ю

данного стекла связано с наличием в конечном составе соединения CulnS2, которое не имеет температуры разложения, а температура его плавления составляет 1090°С и ширина запрещенной зоны 1.438 эВ.

Граница поглощения предлагаемого стекла представляет собой сравнительно крутую линию. Длина волны, соответствующая началу области прозрачности ( ) равна 1,1 мкм, что позволяет изготавливать из такого стекла фильтры, отрезающие излучение с длиной волны 1,1 мкм. При этом граница вропускания не изменяется в процессе отжига и термообработки (наводки), что свидетельствует о сохранении полупроводникового соединения в микрокристаллическом состоянии непосредственно в процессе варки и неизменностью его при отжиге и термообработке.

Таким образом, из анализа представленных данных следует, что предлагаемое стекло по сравнению с известным обладает меньшей переходной областью на спектральной кривой и более крутой границей пропускания, что позволяет значительно повысить качество изготавливаемых изделий. Формула изобретения Стекло,включающее SI02. Na70, CulnS2,

отличающееся тем, что, с целью повышения крутизны границы поглощения и сужения переходной области при сохранении длинноволнового края поглощения в ближней инфракрасной области спектра и одновременном обеспечении нечувствительности его к термообработке, оно дополнительно содержит СэО и Li20 при следующем соотношении компонентов, мас.%: SI02 74,36- 78,70; №зО 6,18-16,05; CulnS2 0,74-0,99;

СаО 8,59-9,10: 0.01-5,22.

Таблица 1

Изобретение относится к производству оксидных стекло, активированных полупроводниковыми соединениями и предназначенных для использования в качестве светофильтров и элементов лазерной техники. Изобретение позволяет повысить крутизну границы поглощения и сузить переходную область при сохранении длинноволнового края поглощения в ближней инфракрасной области спектра и одновременном обеспечении нечувствительности его к термообработке. Стекло имеет следующий состав, мас.% SI02 74,36-78,76; Na20 6,18-16,05; СаО 8,59-9,10; Li20 0,01-5,22; CulnS2 0,74-0,99. Длина волны, соответствующая началу области прозрачности, составляет 1,1 кмк, что позволяет из такого стекла изготавливать фильтры, отрезающие излучение с длиной волны 1,1 мкм. 1 ил., 2 та б л

Таблица 2

0,7 0,9 1,1

№

1,5 1,7 1,9 Л,мкн