Стекло Советский патент 1991 года по МПК C03C3/78 

Изобретение относится к производству оптических оксидных стекол, активированных полупроводниковыми соединениями и предназначенных для использования в качестве светофильтров и элементов лазерной техники.

Целью изобретения является повышение крутизны границы поглощения и сужение переходной области при сохранении длинноволнового края поглощения в ближней инфракрасной области спектра при одновременном обеспечении нечувствительности стекла к термообработке.

Синтез стекла осуществляют путем плавления шихты, изготовленной из реактивов: кварцевого стекла, натрия углекислого, калия углекислого, кальция углекислого, полупроводникового соединения CulnSz, находящихся в мелкодисперсном состоянии, в

газопламенной печи при максимальной температуре 1450 ±10°С с выдержкой в течение 1 ч в восстановительных условиях Для создания восстановительной среды в шихту вводят уголь в количестве 2,0 мас.%. Выработку стекломассы осуществляют на холодную плиту с последующим отжигом образцов в муфельной электрической печи при 570± 5°С в течение 2 ч. Исследования спектральных характеристик проводят на образцах в виде полированных плоскопараллельных пластинок толщиной 2 мм.

В табл.1 приведены конкретные примеры составов стекла, а в табл.2 - их свойства.

Численное значение крутизны границы поглощения определяют пол формуле

К ДАгр - ioo ДАгр где Д Дгр и Д Агр - loo оптическая плотность стекол на границе пропускания и на длине волны, меньшей на 100 нм.

О 4 00 xl 00

После термообработки при 650°С и выдержке 4 ч крутизна границы поглощения стекол не изменяется.

Стекло окрашивается в процессе синтеза и не требует дополнительной термообра- ботки. Длинноволновой край полосы поглощения расположен в инфракрасной области.

Граница поглощения предлагаемого стекла представляет собой крутую линию. Длина волны, соответствующая началу области прозрачности (Лр), равна 1,1 мкм, что позволяет изготавливать из такого стекла фильтры, отрезающие излучение с длиной волны 1,1 мкм. При этом граница пропускания не изменяется в процессе отжига и термообработки (наводки), что свидетельствует о сохранении полупроводникового соединения в микрокристаллическом состоянии непосредственно в процессе варки и неизменностью его при отжиге и термообработке.

Таким образом, из представленных в табл.2 данных следует, что предлагаемое стекло по сравнению с известным обладает меньшей переходной областью на спект- ральной кривой и более крутой границей пропускания, что позволяет значительно повысить качество изготавливаемых изделий. Формула изобретения Стекло, включающее SiOa, NaaO, fcO, CulnSa, отличающееся тем, что, с целью повышения крутизны границы поглощения и сужения переходной области при сохранении длинноволнового края поглощения в ближней инфракрасной области спектра и одновременном обеспечении нечувствительности его к термообработке, оно дополнительно содержит СаО при следующем соотношении компонентов, мас.%: 5Ю272.61-74.36

NaaO10,69-16,06

К200,01-7,57

CulnS20,74-0,99

Са.08,39-8,58

Изобретение относится к производству оптических оксидных стекол, активированных полупроводниковыми соединениями и предназначенных для использования в качестве светофильтров и элементов лазерной техники. С целью повышения крутизны границы поглощения и сужения переходной области при сохранении длинноволнового края поглощения в ближней инфракрасной области спектра при одновременном обеспечении нечувствительности стекла к термообработке оно содержит, мас.% S102 72,61-74,36; Na20 10,69-16,06; КаО 0,01- 7,57; CuJnS2 0,74-0,99; СаО 8,39-8,58.Длим новолновый край поглощения стекла 1,Т мкм, крутизна границы поглощения 0,2870- 0,6294, значения оптических свойств стекла не изменяются при термообработке при 650°С в течение 4 ч. 2 табл.

Таблица

Таблица 2