Способ изготовления заготовки фотошаблона Советский патент 1993 года по МПК G03F7/26 

Изобретение относится к тонкопленочным оптическим системам с высокой разрешающей способностью, которые могут быть использованы для улучшения адгезии фоторезистивного или термопластического слоя к поверхности жестких подложек при изготовлении тонкопленочных оптических систем, голографических решеток, фотошаблонов с микронным разрешением и других оптических элементов,

Целью изобретения является повышение адгезионной прочности и тиражестой- кости, упрощение технологического процесса при сохранении разрешающей способности.

Поставленная цель достигается тем, что адгеэионный слой толщиной 0,1-0,25 мкм выполнен из полимерной композиции при

следующем соотношении компонентов, мас.%:

Лак криогенностойкий 10-20 Тетрахлорэтан80-90 Для проверки заявляемого состава ад- гезионного слоя, были приготовлены пять смесей ингредиентов, три из которых показали оптимальные результаты (см.таблицу), В качестве связующего адгезио1-;ного слоя использовали криогенностойкий лак марки Л КС ТУ ЫУ 0,028.082, в качестве растворителя -тетрахлорэтан технический ТУ 6-01-875-74. . П р и м е р 1. Брали 20% лака (вязкость по вискозиметру 133-4-18-23с) добавляли 80%-тетрахлорэтана, предварительно перегнанного, тщательно перемешивали и отфильтровывали. Приготовленным раствором поливали стеклянную подложку

00

м ел

4

и ставили в центре вращающегося диска центрифуги и накрывали колпаком (скоро- сть вращения 1000 об/мин в течение 1 мин). Стеклянную подложку с полученным тонким слоем ( 0,25 мкм) помещали в предварительно нагретый до 80-300°С сушильный шкаф, доводили t до 1бО°С, выдерживали 20-30 мин и наносили регистрирующий слой. Адгезионная прочность изготовленной изложенным способом заготовки фотошаблона составляла 100 г.

П р и м е р 2. По примеру 1 брали 10% лака и 90% тетрахлорэтана. Толщина адге- зионного слоя 0,10 мкм. Адгезионная прочность составляла 110 г.

Пример 3. По примеру 1 брали 15% лака и 85 % тетрахлорэтана. Толщина адгези- онного слоя 0,15 мкм. Адгезионная прочность 130г.

П р и м е р 4, По примеру 1 брали 5% лака и 95% тетрахлорэтана. Толщина адге- зионного слоя 0,1 мкм. Адгезионная прочность 50 г.

П р и м е р 5. По примеру 1, брали 25% лака и 75% тетрахлорэтана. Толщина адге- зионного слоя 0,1 мкм. Адгезионная прочность 70%.

П р и м е р б. По прототипу.

В таблице представлены сравнительные данные по параметрам фотошаблонов, изготовленных из предложенных заготовок и известного. Уход в сторону превышения или снижения оптимального соотношения предложенных компонентов приводит к ухудшению таких основных параметров, как адгезионная прочность и тиражестойкость.

Предлагаемый состав тонкого адгези- Онного слоя (0,1-0,25 мкм)между подложкой

0

5

0

5

0

5

и регистрирующим слоем взамен существующих адгезионных слоев имеет высокую ад- гезионную прочность и тиражестойкость при простой технологии и сохранении разрешающей способности. Диапазон рабочих температур такого адгезионного слоя от - 196°С до +150°С, а стойкость к растворителям: например, спиртобензиновая смесь 1:1 в течение 24 ч не растворяет пленку.

Композиция рекомендуется при изготовлении тонкопленочных оптических систем - голографических решеток, жестких оптических дисков и других оптических элементов.

Использование полимерного адгезионного слоя уменьшает стоимость изготовления фотошаблона за счет сокращения технологических операций и вторичного использования стеклянной пластины. Формула изобретения Способ изготовления заготовки фотошаблона, включающий последовательное нанесение на стеклянную подложку адгезионного и регистрирующего слоев и их сушку, о т л и ч а ющййся тем, что, с целью повышения адгезионной прочности и тира- жестойкости фотошаблона, при нанесении адгезионного слоя используют полимерную композицию, содержащую эмульсионный полиакрилат, эпоксидную смолу, полиизо- цианат и тетрахлорэтан при следующих соотношениях компонентов, мас.%:

Эмульсионный полиакрилат 0,5-1,0

Эпоксидная смола0,2-0,4

Полиизоцианат0,02-0,04

Тетрахлорэтан98,56-99,28

причем толщина его составляет 0,1-0,25

мкм.

Использование: изобретение относится к тонкопленочным оптическим системам с высокой разрешающей способностью, которые могут быть использованы для улучшения адгезии фоторезистивного, регистрирующего или термопластического слоя к поверхности жестких подложек при изготовлении тонкопленочных оптических систем, голографических решеток, фотошаблонов с микронным разрешением и других оптических систем (элементов). Сущность изобретения: заготовка фотошаблона, содержащая стеклянную подложку с последовательно расположенными на ней адгезионным и регистрирующими слоями, .согласно изобретению содержит адгезион- ный слой толщиной 0,1-0,25 мкм и выполнен- ный из полимерной композиции, содержащей, мас;%: полиакрилат эмульсионный 0,5-1,0, эпоксидную смолу 0,2-0,4, по- лиизоцианат 0,02-0,04, тетрахлорэтан 98,56-99,28. 1 табл.