УСТРОЙСТВО для НАБЛЮДЕНИЯ И ИЗМЕРЕНИЯ ВЫСОТ НЕРОВНОСТЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ПО ИСКРИВЛЕНИЮ МУАРОВЫХ ПОЛОС Советский патент 1966 года по МПК G01B11/30 

Известны устройства для наблюдения и измерения высот неровностей поверхности но искривлению муаровых нолос, содержащие систему проекции растра на исследуемую поверхность н регистрирующую систему с эталонным растром.

Описываемое устройство отличается от известных тем, что для устранения штрихов растров, наложенных на изображение картины муаровых полос, его система нроекции растра и регистрирующая система установлены с возможностью синфазного возвратно-поступательного перемещения ,в направлении, перпендикулярном штрихам эталонного растра, с помощью, нанример, рычал но-кулачкового механнзма с электродвигателем.

На чертеже представлена припциниальпая схема описываемого устройства.

Лампа / накаливания освещает коллектором 2 неравномерный растр 3, который проектируется проекционным объективом 4 на исследуемую поверхность 5 под углом 45°. Благодаря наклону растра 3 к оптической оси на исследуемой поверхности получается равномерное раснределенпе штрихов (расстояние между двумя соседними штрихами равно ширине штриха растра). Объектив 6 нроектирует исследуемую поверхность вместе

со спроектированными на нее штрихами в плоскость равномерного растра 7, причем линейное увеличение объектива 6 подобрано таким образом, чтобы в плоскости растра 7 шаги обоих растров были одинаковы. Растр 7 можно разворачивать в плоскости, перпендикулярной оптической оси на угол +5°, что позволяет менять количество муаровых полос в поле зрения микроскопа от 1 до 15.

Муаровые полосы, локализованные в плоскости растра 7, перепроектируются системой 8 переноса изображения в плоскость сетки окулярного микро.метра 9. Для измерения высот неровностей от 40

до 0,1 мкм в приборе предусмотрено две пары сменных растров с расстояниями между штрихами в плоскости предмета соответственно 20 и 4 мкм.

При исследовании поверхностей с ненаправлепным расположением неровностей в микроскопе предусмотрена возможность ограничения длииы штрихов растра 3 с тем, чтобы на поверхность проектировались пе штрихи, а

точки. В наблюдательный тубус микроскопа при этом вводятся цилиндрические линзы 10, позволяющие иаблюдать муаровую картину от узкого сечения по всему полю зрення.