СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКИХ СЛОЕВ ДЛЯ МНОГОКРАТНОГО ПРОЯВЛЕНИЯ Советский патент 1967 года по МПК G03G5/08 B32B33/00 

Изобретснле относится « способу изготов-ления электрофотографичеоких слоев для многократного проявления, используемых з копиров ал ьпо-множительных аппаратах.

Известен способ изготовления электрофотографических слоев для многократного проявления путем напыления в вакууме на металлическую подложку полупроводникового слоя селена

В ал.паратах п машинах электрофотографические слои используются многократно: после перенесения с фотополупроводникового слоя проявленного изображения на бумагу остатки проявителя снимают, и электрофотографический слой готов к следующему циклу операции изготовления копии. Для осуидествления многократного проявления, (переноса и очистки электрофотографичеоюго слоя необходимо, чтобы слой обладал не только соответствующими электрическими -и .фотоэлектрическими параметрами, но и определенными физико-механическими свойствами: высокой адгезией слоя с подлоЖКОЙ, механической прочностью, гладкостью поверхности, малой адгезией проявителя со слоем и др. Для многократного проявления в настоящее время ионользуются исключительно только селеновые слои.

для MHoroKpaiiHoro проявления не могут быть примеиены, так как они не обладают выше указанными физико-механическими свойствами, а при .проя ВленИИ таких слоев частицы

проявителя проникают в лгикропоры слоя, что осложняет перенос проявленного изображения и делает невозможным очистку слоя.

Однако, электрофотографические слои с окисью цинка обладают рядом преимуществ

,перед селеповыми слоями: окись цинка сравнительно дещева, технология изготовлення слоев проста и не требует вакуумного оборудования, слоям окиси цинка возможно прИ дать светочувствительность в любой области

спектра видимого света путем спектральной сенснбилизаци1И органическими красителями, слои окиси цинка обладают более высокой р аз р ещ а юще и спо со б 11 остью.

В ряде случаев необходимо, чтобы слои

работали при повыщенной температуре. В таких условиях .происходит значительная 1кристаллизация аморфного селена, ,и слои быстро выходят из строя. Электрофотографические слои окиси цинка более стойкие к темнературным воздействиям - повышение температуры до 60-70°С существенно не влияет на качество полученного электрофотографического изображения. Найдено, что фоточувствительность электрочена депрессирующим действием связующего вещества, а их физико-механические свойства в основном обусловлены микроструктурой слоя. Поэтому способ изготовления высокочувствительных электрофотографических слоев с окисью цинка с необходимыми для многократного проявления электрическими и физико-механическими свойства ми достигается тем, что слои с окисью цинка изготовляют с минимальным количеством связующего вещества. Это приводит к уменьшению депрессирующего действия связующего на сенсибилизированный фотоэффект, и тем самым квантовый выход новышается. Однако с уменьшением количества связующего ухудшается микроструктура слоя - увеличивается количество микропор в слое, что ведет к уменьшению его электрической прочности, и слой плохо заряжается. С целью повышения электрической прочности и улучшения физико-механических параметров, синтез электрофото графических слоев на основе окисн цинкп необходимо вести так, чтобы получить слой с неравномерным распределением связующего вещества в нем и тем самым - с минимальным количеством ми;Кропор.

Способ .изготовления электрофотографическнх слоев для многократного проявления согласио изобретению заключается в том, что слой суспензии из предварительно окрашенпой окиси цинка и связующего в растворителе, не растворяющем сенсибилизатор, наносят на металлическую подложку и помещают подложку в горизонтальном положении в специальной герметической камере с некоторым парциальным давлением паров растворителя. В этих условиях происходит седиментация частиц полупроводника, а парциальное давление в камере сильно уменьшает процесс испарения. После завершения процесса седиментации, парциальное давление в камере уменьшают и слой высушивают. Этим обеспечивается неоднородное распределение частиц полупроводника по толщине слоя: в приповерхностной области больше связующего вещества, чем у подложки и, таким образом, образуется электрофотографический слой с

минимальным количеством микропор. После этого слой подвергают шлифовке.

Пример. Образцы электрофотографических слоев для многократного проявления изготовляют из окрашенной эозином (опиртовый раствор) окиси цинка 10 г, силиконовой смолы 4 г, толуола 20 мл. Суснензию диспергируют в шаровой мельнице в течение 5 час, затем цри помощи пульверизатора наносят

на дюралюминиевые шлифова1нные н известным образом обезжиренные пластнпкиС целью нолучения ровного слоя определенной толщины нанесенную суспензию выравнивают ракельным ножом. После этого пластину со слоем в горизонтальном положении помещают в герметическую камеру {в качестве ее используют вакуумный шкаф); при пагреве колбы с толуолом, соединенной с ва куумпым шкафом в камере, создается определеННое парциальное давление. Через 30- 40 мин седиментации частиц окиси цинка парциальное давление уменьшается; при посте пенном повыщении температуры до 70°С слой высушивают. Сушку при 70°С продолжают

4-5 час. С целью устранения различных микронеровностей поверхности, слой и1лифу1иг обычным методом. После шлифовки слой промывают водой и при 50-60°С высушивают в течение 1-2 час.

Пакоторые электрические, фотоэлектрические и физико-механические параметры слоен окиси цинка, изготовленных по предполагаемому изобретению, приведены в таблице. Из таблицы видно, что параметры: гладкость, предельный потенциал зарядки, светочувствительность и др. - таких слоев намного выше параметров известных слоев окиси цинка. Как видно из данных, представленных в таблице, параметры после стократного проявления изменились незначительно. Необходимо отметить, что после промывки слоя спиртом те параметры, которые в результате многократного проявления несколько ухудшились, принимают первоначальное значение.

изготовленных предлагаемым опоеооом, по своему качеству нисколько не уступают копиям, изготовленным при помощи селеновых слоев.

Предмет изобретения

Способ Изготовления электрофотографических слоев для миогократного лроявлепия путем нанесения на металлическую подложку слоя нолунроводника, отличающийся тем, что, с целью повышения светочувствительности.

улучшения электрической прочности и физико-механических свойств, в качестве полупроводникового слоя Применяют окрашенную сенсибилизатором суспензию окиси цинка и связующего, например силиконовой смолы, в растворителе, например толуоле, подложку помещают в герметическую камеру с небольшим .парциальным давлением паров растворителя и по окончании седиментации частиц полупроводника пластинку высушивают и подвергают шлифовке.