Изобретение от1 оснтея к электроразрядным источиикам газообразной плазмы.
Известны еверхвысокочастотные плазмотроны, в которых .плазма образуется в диэлектрической разрядной трубке, -пронизываюн ей волновод. Их недостатком является малое время (Пребывания обрабатываемого веи1,ества к плазме.
Предлагаемый плазмотрон отличается тем. что он содержит дву1 источника питания, схсма включения которых предусматривает их ноперемеиную работу. Иеточники питания но.мсоединены с помощью направленных ответвителей к торцам отрезка волновода, внутри которого вдоль его оси размещена разрядная трубка. Длин:а отрезка волновода равна луги, проходимому плазменным образованием зл период работы одного источника литания.
Благодаря этому в плазматроне увеличено время пребывания обрабатываемого вещества в ллазме.
На чертеже лредставлен предлатаемый плазматрол. Он состоит из двух источников литания /, налример, магнетронов, отрезка волновода 2, к которому источники литання / лодсоединены с ломои1,ью натравленных ответвитеяей 3. Виутри в.олновода 2 расположела диэлектрическая разрядная трубка 4, концы которой выведены из |вол:новода через занредельные окна 5.
Включается система охлаждения н нодачи нлазмообразующего газа, а затем нсточник интання /. В разрядной трубке 4 одним из известных способов поджигается электрический разряд. После вывода л.тазмотрона н:; заданньп режим :в нлазмообразунии газ iioдают обрабатываемое вещ.;т1.о .в nicic газа, , ра.створсв или аэрозо.Ю.
П р е д мет изо б р с т е н и я
Сверхвысокочастотный плазмотрон, со держани1Й источники питания, отрезок волновода н диэлектрическую разрядную трубку, отличающийся тем, что, с целью увеличен 1я времени пребывания iB зоне электрнческого разряда обрабатываемых веществ, вводимых в разрядную трубку, он содержит два источника питания, схема включения которых предусматривает их поперемеиную работу, нрнче 1 источникн питания подсоединены с помощью налравленных ответвителе к тopцa i отрезка волновода, внутри которого вдоль его оси размещена разрядная трубка и длнна которого равна нутн, ироходимому плазменным образованием за нериод работы одного нсточника литания.
.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СВЧ-ПЛАЗМОТРОН | 2019 |
|
RU2718715C1 |
Свч-плазмотрон для спектрального анализа | 1971 |
|
SU449288A1 |
СВЧ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР | 2004 |
|
RU2270536C9 |
Сверхвысокочастотный плазматрон | 1978 |
|
SU868845A1 |
СВЧ-ПЛАЗМОТРОН ДЛЯ ОБРАБОТКИ ДИСПЕРСНЫХ МАТЕРИАЛОВ | 1989 |
|
RU1618261C |
ПЛАЗМЕННЫЙ КОНВЕРТОР ГАЗООБРАЗНОГО И ЖИДКОГО УГЛЕВОДОРОДНОГО СЫРЬЯ И ТОПЛИВ В СИНТЕЗ-ГАЗ НА ОСНОВЕ МИКРОВОЛНОВОГО РАЗРЯДА | 2006 |
|
RU2318722C2 |
СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1999 |
|
RU2171554C2 |
ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ЕМКОСТНЫЙ ПЛАЗМОТРОН | 1993 |
|
RU2027324C1 |
СВЧ-ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР | 1999 |
|
RU2149521C1 |
СПОСОБ ОЧИСТКИ, ДЕСТРУКЦИИ И КОНВЕРСИИ ГАЗА | 2011 |
|
RU2486719C1 |
Авторы
Даты
1970-01-01—Публикация