УСТРОЙСТВО для ИСПАРЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ Советский патент 1970 года по МПК C23C14/26 

Изобретение относится к вакуумному нанесению различных материалов, в частности к устройствам для испарения материалов при вакуумном нанесении тонких пленок, покрытий и т. п.

Известны устройства для испарения материалов в вакууме, содержащие обогреваемый тигель, окруженный коаксиально расположенным цилиндрическим терморадизционным экраном. Однако использование известных устройств приводит к значительному ухудшению вакуума в камере за счет газовыделения из нагреваемых деталей.

Предложенное устройство позволяет блокировать газовыделеиие из нагреваемых деталей, тем самым не изменяя вакуума в камере. Это достигается тем, что экран выполнен в виде набора съемных цилиндров из материалов, обеспечивающих улавливание выделяющихся газов, и в верхней части снабжен диафрагмой.

На чертеже изображено предложенное устройство.

Тигель / для испаряемого материала снабжен нагревателем 2 и окружен коаксиально расположенным экраном 3, выполненным в виде набора съемных цилиндров из материалов, обеснечивающих улавливание выделяющихся газов. В верхней части расположена диафрагма .

Набор съемных цилиндров, служ.ащий для локального улавливания газов, может представлять собой, например, геттерную, геттерно-ионную, криогенную, цеолитовую или другую откачную систему.

При работе устройства набор цилиндров может быть заранее охлажден, например, в жидком азоте. Несмотря на ограниченную теплоемкость последнего эта операция целесообразна, так как основная масса газов выделяется в течение первых 2-3 мин работы испарительного устройства. После закладки испаряемого материала в тигель устанавливают предварительно охлажденныГ набор цилиндров и,

диафрагму. Далее осуществляют откачку камеры до высокого вакуума, при котором набор цилиндров сохраняет евою температуру достаточно долго. При нагреве испаряемого материала диафрагма способствует локализации

выделяющихся из нагретых деталей газов, которые сорбируются внутренней поверхностью экрана.

25Предмет изобретения

Устройство для испарения материалов в вакууме, содержащее обогреваемый тигель, окруженный коакеиально расположенным цилин30 дрическим экраном, отличающееся тем, что, с

целью блокирования газовыделения из нагреваемых деталей, экран выполнен в виде набора съемных цилиндров из материалов, обеспечивающих улавливание выделяющихся газов, и в Верхней части снабжен диафрагмой.