СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОПТИЧЕСКОЙ ДИФРАКЦИОННОЙ РЕШЕТКИ Советский патент 1973 года по МПК G02B5/18 G02B5/18 

I

Изобретение относится к оптико-механической промышленности и может быть использовано при изготовлении рельефных дифракционных решеток.

Известен способ изготовления оптической дифракционной решетки путем экспозиции фотопластины световым потоком, падаюш;им на нее через амплитудную решетку - оригинал. Этим способом получают только плоские амплитудные решетки - фотокопии оригинала.

Предложенный способ позволяет изготовить дифракционную решетку с рельефным профилем заданной формы благодаря тому, что фотопластину перемеш,ают относительно параллельных полос света, проникающего сквозь щели оригинала, по заданной траектории, при этом скорость движения и интенсивность экспонирующего света изменяют в соответствии с формой рельефа. Затем удаляют неэкспонированные участки фотослоя пластины вытягиванием и получают решетку с рельефным профилем.

Кроме того, фотопластину могут соединять с оригиналом без зазора и поворачивать относительно оси, параллельной полосам света, на такой угол, чтобы начальное и конечное положения лучей света, прошедших через

оригинал и попавших в фотослой, ограничивали заданный .профиль рельефа.

На фиг. 1 показано положение фотопластины с оригиналом относительно светового потока; на фиг. 2 - график, характеризующий изменение - скорости перемещения v фотопластины относительно полос света (s - величина перемещения); на фиг. 3 - график,

характеризующий изменение интенсивности света / в процессе перемещения фотопластины; на фиг. 4 - начальное и конечное положения фотопластины с оригиналом при их совместном повороте относительно падающего

света; на фиг. 5 - готовое изделие - фотопластина с треугольным рельефным профилем.

Фотопластину / (см. фиг. 1) поворачивают светочувствительным слоем к оригиналу 2,

Представляющему собой амплитудную решетку с прозрачными параллельными щелями 3 или интерференционными полосами.

Фотопластину устанавливают перед оригиналом, на который падает параллельный пучок света 4, с минимальным зазором, обеспечивающим свободное перемещение фотопластины поперек щелей оригинала с помощью микропривода, например .пьезоэлектрического или магнитострикционного. Ширина щелей

оригинала определяется необходимой точностью выполнения рельефного профиля.

Для изготовления рельефной решетки перемещают фотопластину по стрелке А поступательно или вращают ее относительно оси, параллельной щелям 3, изменяя ее скорость по определенному закону (см. график на фиг. 2) для получения заданного профиля почернения участков фотослоя, при этом изменяют и интенсивность экспонирующего света (см. график на фиг. 3). Неэкспонированные участки фотослоя пластины удаляют вымыванием, и после проявления получают рельефный профиль заданной формы, который может быть закреплен, например, металлизацией.

Треугольный профиль на фотопластине (см. фиг. 4) может быть получен, если ее соединяют с оригиналом, имеющим щели, без зазора и совместно поворачивают относительно оси, параллельной щелям, на такой угол, чтобы лучи света, прощедщие через щели, описали внутри фотослоя треугольники необходимой величины.

Получают почернения на фотослое треугольной формы с верщиной, лежащей у щелей.

Предмет изобретения

1.Способ изготовления оптической дифракционной рещетки путем экспозиции фотопластины световым потоком, падающим на нее через амплитудную рещетку - оригинал, отличающийся тем, что, с целью получения на изготовляемой решетке рельефного профиля заданной формы, фотопластину перемещают относительно параллельных полос света, проникающего сквозь щели оригинала, по заданной траектории, при этом скорость движения и интенсивность экспонирующего света изменяют в соответствии с формой рельефа, затем удаляют неэкспонированные участки фотослоя пластины вымыванием, получая рельефный профиль рещетки.

2.Способ по п. 1, отличающийся тем, что, с целью получения треугольного рельефного профиля, фотопластину соединяют с оригиналом без зазора и поворачивают совместно относительно оси, параллельной полосам света, на такой угол, чтобы начальное и конечное положения лучей света, прошедших через оригинал и попавших в фотослой, ограничивали заданный профиль рельефа.

риг. 4