Способ изготовления оптической дифракционной решетки Советский патент 1975 года по МПК G02B5/18 

Изобретение отиоснтся к глггпк -моха- ническон прзкад11 пеинос1н ц мо;1чет быть использован; для si.iroTonjiennsi ролье4.ИЫх дифракциоинЬХ рои:сток с juoooii (Ьормой профиля.

Известен способ изготовнс-иня оптическо дифракционной рогиоткп с релье(1)Ным профилем, основанный на зксги зишш ({-.отопластины с последующим вымьшанием псэкспонированных участков Лотослоя, в котором фотопластину перемешают по определенному закону относительно системы световых полос, проникающих па нее через menvi оригинала.

Недостаток этого способа состоит в низкой точности воспроизведеппя форкл профи/ш из-за конечной ширины оригинала н погрешностей перемещения.

. Цель и:зобретепия - восп1К};1зведение профиля рельефа с заданной точностью.

. Цель достигается аа сче;т того, что фотопластнну экспо 1ируют слеаук.ших одна за другой систек; ир.терферепцпо.ных полос, последовательные частоты когорых, соответственно т арк оникам высших

пор5:дков основной системы полос, находятся между собой в отношении целых чисел, причем началь 1ые фазы систем устанавливают в зависимости от заданного профиля peuiei ки. Кроме того, каясдую систему иптер ференцнонных полос получают на отдельных нромегкуточпых плоских фотооригинапах, через которые затем экспонируют фотоп гас- типу.

На фиг. 1 дана схема устройства пля полу 1ения интерференционных полос изменяемой пространственной частоты; на фиг. 2 изображена серия систем интерференционных полос; па фиг. 3 представлена дифракционная решетка с треугольным профилем.

Устройство (фиг. 1) содержит лазерный источник света 1, линзу 2, диафраг му 3, линзу 4, а два зеркала: полупрозрачное 5 и отражающее G. Пучки 7 и 8 света отраи аются на фотопластину 9 с фотослоем, на который экспонируются интерференционные полосы.

Л.пя изготовления оптической дифрак; ционпой реиштки с рельефным про(}зилем,

например, треугольной формы {фиг, 3) экспонируют фотодластйну 9 последова ; тельно серией интерференциошгых полос,, пространственные частоты которых сЬот- : ветственно гармоникам высших порядков (фиг. 2 б, в и г) основной системы полос фиг. 2а находятся между собой в отношеНИИ целых чисел. Частота полос зависит

от угла между пучками света 7 и 8, ко , торый устанавливают поворотом зеркал 5 , j или 8. Начальные фазы канодой систек-шг т.е. положение поцос относительно фотогшастины 9, -устанавливают в завасимости от за данного профиля решетки. Фотопластину 9 экспонируют так, чтобы суммарный светр-ВОЙ поток облучения соответствовал оптической плотности дрчернения в пределах ; линейного участка характеристической кр: вой фотослоя. Затем в процессе проявления на фотопластине удаляют неэкспонирова 1ные участки фотослоя, получая заданный профиль (фиг. 3).

С помощью устройства (фиг. 1) может быть получена серия интерференцион1ЕЫк полос (фиг. 2), каждая-на отдельных nptjмежуточных плоских фотооригипалах, через которые затем экспонируют фотоппастину 9, причем форма профиля зависит от изаимного расположения ка кдого фотооригниала относительно фотопластины 9.

4

воспроизведения форк-шт профиля определяется числом систем интерферен ционны-х полос (фиг. 2 ) в серии: чем их больше, тем выше точность.

Пр

и 3 о б р е т е н и я

д м е т

1, Способ изготовления оптической дифракциог1ной решетки с рельефным профиrteivi, основанный на экспозиции фотопласти ны с последующим вымыванием неэкспони- poBi.HHbix участков фотослоя, о т л и ч а юш и и с я тем, что, с целью воспроизведе- нпя профиля рельефа с заданной точностью, фотои.иастипз экспонируют соривй следующих одна за другОй систем пнтеиюреиционных полос, последовител11 Ш1е пространственные частоты которых, соответстьеино (арк оникам высших иори/1ков основной сис-« темы полос, находятся можду собой в отно НИН целых чисел, причем н 1чалыгые фазы систем устанавливают в заиисимэсти. от заданного прсх1)иля юшотки.