1
Предлагаемое изобретение относится к полупроводниковым приборам и может быть использовано при изготовлении и испытании полупроводниковых приборов и схем.
Известные способы испытания полупроводниковых приборов со структурой металл - диэлектрик- полупроводник, например транзисторов и интегральных схем, путем одновременного воздействия на них температурой и электрического поля не обладают простотой процесса испытания.
По предлагаемому способу с целью упрощения процесса испытания соединяют накоротко затворы прибора с остальными электродами, затем подвергают приборы воздействию температуры, величину и время выдержки которой выбирают достаточными для перераспределения заряда в диэлектрике и изменения параметров испытуемого прибора под воздействием электрического поля, вызванного контактной разностью потенциалов структуры прибора.
По предлагаемому способу испытания полупроводниковых приборов величина контактной разности потенциалов в системе металл - диэлектрик- полупроводник (МДП) зависит от природы металла и полупроводника. В частности, в системе А1 - SiOa - Si величина контактной разности потенциалов между А1 и Si достигает 0,8 эв.
Если внешним проводником соединить накоротко затвор МДП-прибора с подложкой или/и истоком или стоком и поместить прибор в среду с повышенной температурой, то при достаточно высокой температуре произойдет перераспределение заряда в диэлектрике под действием электрического поля, вызванного контактной разностью потенциалов. Согласно предлагаемому изобретению способ испытания МДП приборов заключается в том, что после измерения параметров приборов электроды приборов закорачивают и приборы помещают в среду с повыщенной температурой, величина которой достаточна
для перераспределения заряда в МДП структуре. После выдержки приборов в течение заданного промежутка времени производится повторный замер параметров приборов.
Предмет изобретения
Способ испытания полупроводниковых приборов со структурой металл - диэлектрик - полупроводник, например транзисторов и интегральных схем, путем одновременного воздействия на них температурой и электрическим полем, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса испытания, соединяют накоротко затворы прибора с остальными электро3дами, затем подвергают приборы воздействию температуры, величину и время выдержки которой выбирают достаточными для перераспределения заряда в диэлектрике и изменения 4 параметров испытуемого прибора под воздействием электрического поля, вызванного контактной разностью потенциалов структуры прибора.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ испытания полупроводниковых приборов с МДП-структурой | 1982 |
|
SU1114992A1 |
Полупроводниковый прибор | 1981 |
|
SU997581A1 |
СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ РАБОТОЙ МЕМРИСТИВНОЙ КОНДЕНСАТОРНОЙ СТРУКТУРЫ МЕТАЛЛ-ДИЭЛЕКТРИК-ПОЛУПРОВОДНИК | 2018 |
|
RU2706197C1 |
СПОСОБ ОТБРАКОВКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ | 1991 |
|
RU2010004C1 |
СПОСОБ ОТБРАКОВКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ И ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ НА ОСНОВЕ СТРУКТУР МЕТАЛЛ - ДИЭЛЕКТРИК - ПОЛУПРОВОДНИК | 1991 |
|
RU2009517C1 |
ЭЛЕКТРОННАЯ СХЕМА И/ИЛИ МИКРОЭЛЕКТРОМЕХАНИЧЕСКАЯ СИСТЕМА С РАДИАЦИОННЫМ ИСТОЧНИКОМ ПОДВИЖНЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА | 2012 |
|
RU2511614C2 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ КУЛОНОМЕТРИЧЕСКОГО ИЗМЕРЕНИЯ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ НАНОСТРУКТУР ТРАНЗИСТОРА n-МОП В ТЕХНОЛОГИЯХ КМОП/КНД | 2011 |
|
RU2456627C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МДП-ТРАНЗИСТОРОВ | 2002 |
|
RU2206142C1 |
Способ испытания стабильности интегральных схем | 1984 |
|
SU1647478A1 |
ТЕРМОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ ПОЛЕВОЙ ПРИБОР | 2009 |
|
RU2399064C1 |
Авторы
Даты
1973-01-01—Публикация