УСТАНОВКА ДЛЯ УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ОБЛУЧЕНИЯ ГИДРОЛИЗНЫХ СРЕД Советский патент 1974 года по МПК C12M1/42 

1

Изобретение относится к области мккробиолот,и.и, а к установка.м для ультраф.иолетового облучения гидроЛ|И31Ных сред.

Известна установка для ультрафиолетового облучан.ия гидролизных сред, выполненная в виде камеры лоткового типа, снабженной излучателям.и, а также подводящими .и отводяпд.ими ком.мун.икация.ми, (расположен.ными по торцам камеры.

С целью удаления из среды фурфурола и повышения в результате этого качества, облученной |0реды IB предлагаемой устанодке камера дополнительно снабжена пористыми трубками, уста1новл1енными в поперечиом направлении к потоку жидкости.

Пористые трубки выполнены из керамического материала.

Па фиг. 1 изображена предлагаемая установка, вид сбоку; на фиг. 2 - то же, в плане; на фиг. 3 - то же, раарез по А-А на фиг. 2.

Установка для ультрафиолетового облучения гидролизных сред выполнена в виде камеры 1 лоткового типа, снабженной излучателями 2, а также подводящими .и отводящими каммунижащиями 3 и 4, расположенными по торцам камеры 1.

Камера дополнительно снабжена пористыми трубками 5, установленными в поперечном направлении к оотаку жидкости. Пористые трубки выполнены из керамического материала и

служат для .подачи сжатого воздуха, обеспечивающего аэрацию среды с целью обогащения ее кислородом, а также для перемещ.ивания среды при перемещ.ении ее по камере 1. Количество и тип .излучателей 2 определяется производительностью установки и подсчитывается из расчета подачи дозы облучения не менее 10,8-10 вт-сек/м спектрального состава 250-300 ЕМ с коэфф.ициентс м спектральной чувствительности К

(нм) 250 260 270 280 290 300 k0,5 0,6 0,8 1 0,9 0,2

Толщина слоя облучаемой гидролизной среды не должна превыщать 15 мм. Излучатели 2

прикрываются отражателем 6 таким образом,

чтобы их токоподводящие части находились

снаружи.

Устано1вка .может быть снабжена дозиметрическим устройствОМ, сипнализирующиМ от изменения дозы облучения для автоматического подключения резервных излучателей 2.

При облучении гидролизных дрожжевых сред улучшается доброкачественность питательного субстрата, т. е. снижается содержание фурфурола в среде на 30-50% по сравнению с его содержанием в среде до облучения. Благодаря это:му было достигнуто значителыное повышение выхода биома ссы по Сравн ению с тр ол е м.

Предмет изобретения

1. УстанОВка для ультрафиолетового облучения гидрол.изных 1Оред, выполненная в .виде ;камеры лоткового тйпа, снабженной излучателя ми, а та:кже 1Подводящи.М|И « отводящими коммуникациями, расположенными по торцам камеры, отличающаяся тем, что, с целью

удалеция из среды фурфурола и ловышелия в результате этого качества облучениой среды, камера дололнителыно снабжена пористыми трубка ми, устано1вленными в лоперечном направлении к потоку жидкости.

2. У Ста:но.В(Ка ло п. 1, отличающаяся тем, что пористые трубки выполнены из .керамического .материала.

г ±1 , I/

.

fuz.3

75 Сжатый 6osdyx

IA / / /

U

Ф иг.. 2