(54) СПОСОБ ПРОЯВЛЕНИЯ ТОЛСТОСЛОЙНЫХ ГАЛОГЕНСЕРЕБРЯНЫХ
ФОТОМАТЕРИАЛОВ
образом, имеется возможность улучшения однородности проявления по всей толщине эмульсионного слоя.
Предложенный способ может иметь широкое применение в фотохимической обработке толстослойных фотоматериалов, 110зволяет получить оптимальный режим проявления при достаточно высоком соотношении чувствительность-вуаль в зависимости от поставленной физической задачи.
Способ позволяет также улучшить однородность проявления особо толстых материалов (до 1200 мкм) без увеличения поверхностной вуали.
Таблица 1
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ХИМИКО-ФОТОГРАФИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ЯДЕРНЫХ ФОТОМАТЕРИАЛОВ | 2001 |
|
RU2192660C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ И ОБРАБОТКИ ЖЕЛАТИНОВЫХ ЙОДОБРОМОСЕРЕБРЯНБ1Х ЯДЕРНЫХ ФОТОМАТЕРИАЛОВ | 1970 |
|
SU282059A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЯДЕРНЫХ ЭМУЛЬСИЙ | 1967 |
|
SU194543A1 |
Способ получения контрастного радиографического изображения | 1970 |
|
SU333870A1 |
СПОСОБ ПРОЯВЛЕНИЯ ЯДЕРНЫХ ЭМУЛЬСИОННЬ[Х СЛОЕВ | 1967 |
|
SU197397A1 |
СПОСОБ ВЫДЕЛЕНИЯ ТВЕРДОЙ ФАЗЫ ГАЛОГЕНСЕРЕБРЯНЫХ ФОТОГРАФИЧЕСКИХ ЭМУЛЬСИЙ | 1980 |
|
SU951979A1 |
СПОСОБ ВЫДЕЛЕНИЯ ТВЕРДОЙ ФАЗЫ ГАЛОГЕНСЕРЕБРЯНЫХ ФОТОГРАФИЧЕСКИХ ЭМУЛЬСИЙ | 1989 |
|
SU1805765A1 |
Способ снятия фоновых загрузок с толстослойных ядерных эмульсий | 1972 |
|
SU447655A1 |
Способ регистрации интенсивных полей космического излучения с помощью ядерных эмульсий | 1981 |
|
SU1057905A1 |
СПОСОБ ПРОЯВЛЕНИЯ ЯДЕРНЫХ ФОТОСЛОЕВ | 1968 |
|
SU217208A1 |
Примечание. Температура допроводящего раствора 2-5° С; БР-2-400 - беспод1:ожечная релятивистская эмульсия повышенной чувствительности, 400 мкм; БР-1-400-бесподложечная релятивистская эмульсия (без красителя), толшиной 400 мкм; Р-400 - релятивистская эмульсия толщиной 400 мкм.
Формула изобретения Способ проявления толстослойных галогенсеребряных фотоматериалов пропиткой материала проявляющим раствором при 2-5° С с последующим прогреванием при 20-25° С, отличающийТаблица 2
с я тем, что, с целью улзлцпения однородности проявления по глубине, снижения поверхностной вуали, а также повышения общей чувствительности, материал после пропитки обрабатьшают в дистиллированной воде или слабокислой среде.
Авторы
Даты
1976-11-25—Публикация
1971-12-10—Подача