1
Изобретение относится к области приборостроения, а именно к способам фотографического получения изображения при изготовлении прецизионных оптических и индуктивных линеек, шкал, датчиков и т. д.
Известен способ фотографического переноса изображения с фотошаблона на фоточувствительный слой, путем экспонирования фотошаблона и подложки с фоточувствительным слоем параллельными лучами света через щелевидную диафрагму.
Недостатком известного способа является погрешности линейных размеров вследствие, например, неточности изготовления фотошаблона или изменения размеров изображения при фотохимической обработке фоторезистра.
Произвести коррекцию размеров получаемого изображения путем внесения изменений в размеры фотошаблона бывает весьма сложно, особенно при необходимости получения высокой точности изображения и трудоемкости изготовлния фотошаблона.
Целью настояш,его изобретения является осуш,ествление коррекции изображения.
Поставленная цель достигается тем, что в процессе экспонирования изменяют угол падения лучей к экспонируемой поверхности.
Данное изменение угла падения лучей можно осуш,ествить путем одновременного перемеш,ения фотошаблона и подложки относительно диафрагмы или путем направления лучей света к экспонируемой поверхности под углом, отличающимся от прямого и регулированием величины зазора между фотошаблоном и диафрагмой в различных экспонируемых участках.
Способ заключается в следуюшем. Фотошаблон и подложку устанавливают с зазором между ними, перед фотошаблоном
помещают щелевую диафрагму, а экспонирование производят параллельными лучами света, которые пропускают через диафрагму и направляют к экспонируемой поверхности под углом падения, отличным от нуля. При
этом (в качестве одного из возможных вариантов) в процессе движения осуществляют изменение величины указанного угла.
Формула изобретения
1. Способ фотографического получения изображения путем экспонирования фотошаблона и подложки с фоточувствительным слоем параллельными лучами света через щелевую диафрагму, отличающийся тем, что, с
целью осуществления коррекции изображения, в процессе экспонирования изменяют угол падения лучей к экспонируемой поверхности.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем,
что изменение угла падения лучей производят 3 путем одновременного перемещения фотошаблона и подложки относительно диафрагмы. 3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что изменение угла падения лучей производят 5 4 путем направления лучей света к экспонируемой поверхности под утлом, отличающимся от прямого и регулированием величины зазоза между фотощаблоном и диафрагмой в различных экспонируемых участках.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Установка для получения фотографического изображения | 1977 |
|
SU669315A1 |
УСТРОЙСТВО ЭКСПОНИРОВАНИЯ ПРИ ФОРМИРОВАНИИ НАНОРАЗМЕРНЫХ СТРУКТУР И СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОРАЗМЕРНЫХ СТРУКТУР | 2010 |
|
RU2438153C1 |
Устройство для изготовления периодических структур методом лазерной интерференционной литографии с использованием лазера с перестраиваемой длиной волны | 2015 |
|
RU2629542C2 |
Способ изготовления слайдов для гобо проекторов путем химического травления | 2023 |
|
RU2804601C1 |
ФОРМИРОВАНИЕ МЕТКИ НА ДРАГОЦЕННОМ КАМНЕ ИЛИ ПРОМЫШЛЕННОМ АЛМАЗЕ | 2002 |
|
RU2285619C2 |
Способ записи оптической информации на фототермопластический носитель | 1990 |
|
SU1698872A1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПРЕЦИЗИОННОГО ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО РИСУНКА НА ЦИЛИНДРИЧЕСКУЮ ПОВЕРХНОСТЬ ОПТИЧЕСКОЙ ДЕТАЛИ И ПРИСПОСОБЛЕНИЕ ДЛЯ КОНТАКТНОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2012 |
|
RU2519872C2 |
Способ формирования линейного растра цветных кинескопов с щелевой маской | 1986 |
|
SU1743374A3 |
Способ получения распределения чувствительности по площади пикселя матричного фотоприёмника | 2022 |
|
RU2783220C1 |
УСОВЕРШЕНСТВОВАННЫЙ ГЕНЕРАТОР РИСУНКОВ | 1999 |
|
RU2232411C2 |
Авторы
Даты
1976-03-15—Публикация
1972-11-14—Подача