Фотоп лимеризующаяся композиция Советский патент 1977 года по МПК G03C1/68 

Предлагаемая фотополимеризующая ком позиция предназначена ддя изгоТО вленкя раз личных изделий, причем может быть исполь зована как конструкционный л атериал -печа тающего слоя фотополимерных печатных форм толщиной до 1000 мкм, так и в качестве резистивного покрытия толщиной от 5 до 60 мкм, в том числе и для изготовления пле ночных фоторезисторов. Причем в кажЛОМ случае к композиции предъявляются различ ные требования, удовлетворение которых про изводится за счет варьирования соотношения компонентов. Так, например, для отлива пленочного фото резиста толщиной 20-30 мкм используется фотополимеризующаяся композиция следую щей рецептуры, вес. ч.: Смещенный полиамид, например С-6100 Растворитель, спирт этиловый350 Диаллилфталат38 Акриловая кислотаВО Бензоинформальдегидная смола (БФС)10 Метиленовый синий0,2. Для получения тонкого резистивного покрытия, толщиной 5-7 мкм, при изготовлении печатных форм глубокой печати использовали следующий состав, вес. ч.: Смешанный полиамид С-6 100 Спирт этиловый 400 Диаллилфталат 50 Акриловая кислота 60 БФС 7 Метиленовый синий 0,1 Для отлива фотополимерной пленки толщиной 600 мкм, используемой Для изготовления типоофсеточных печатных форм, используется фотополимеризующаяся композиция следующего состава, вес. ч.: Смешанный полиамид С-6100 Спирт этиловый300 Диаллилфталат30 Акриловая кислота50 БФС5 Метиленовый синий0,1 Для объективной оценки фотографических свойств проводились сенситометрические испытания фотополимерных резисТИвньтх пленок, полученных из полиамидо-акрилатных и предлагаемых составов с диаллилфталатом. Например,, п.ри сравнении характеристических кривых, снятых для фоторезистивных пленок толщиной 10 мк, изготовленных из полиамидо-акрилатных и предлагаемых составов. Коэффициент контрастности у предлагаемой ком-позиции значительно выше (1,3), чем у полиамидо-акрилатных (0,7). Кроме того, применение акриловой кислоты вместо адетилметакрилата предпочтительнее для достижения более высокой светочувствительности (акриловая кислота имеет большую скорость полимеризации), для увеличения адгезии фотополимера к подложкам (наличие карбоксильных групп), для повышения стабильности при хранении (акриловая кислота повышает совместимость олигомера с раствором полимера). Так, например, фотополимеризующийся состав с содержанием 50 вес. ч. диаллилфталата и 60 вес. ч. акриловой кислоты на 100 вес. ч. полиамида (С-6 или 548), растворенного в 350 вес. ч. этанола, не желатинизи ров алея при хранении в течение 3 месяцев, в то время как фотополимеризующиеся составы, где на 100 вес. ч. полиамида (С-6 или 548), растворенного в 333 вес. ч. этанола, приходится по 20 вес. ч. метилметакрилата, практически желатинизируется на вторые сутки после приготовления. Формула изобретения Фотополимеризующаяся композиция, включающая смешанный полиамид, этиловый пирт, акриловую кислоту, бензоинформальдегидную смолу и метиленовый синий, отлиающаяся тем, что, с целью улучщения фотографических свойств и повышения их стабильности при хранении, она дополнительо содержит Диаллилфталат при следующем оотношении компонентов, вес. ч.: Смешанный полиамид80-100 Этиловый спирт300-400 Диаллилфталат30-50 Акриловая кислота50-60 Бензоинформальдегидная смола5-10 Метиленовый синий0,1-0,2 Источники информации, принятые во вниание при экс:пертизе 1. Авторское свидетельство СССР №171580, л. С-ОЗс, 1/68, 1962.