СПОСОБ УДАЛЕНИЯ НЕОСВЕЩЕННЫХ УЧАСТКОВ ЭКСПОНИРОВАННОГО ФОТОПОЛИМЕРНОГО СЛОЯ Советский патент 1972 года по МПК G03F7/26 

,1

Изобретение относится к технологии изготовления фотополимерных печатных форм высокой, типоофсетной, флексографической, трафаретной и глубокой печати и может быть использовано в полиграфической промышленности и других отраслях народного хозяйства.

Известен способ удаления неосвещенных участков экспонированного полимерного слоя на основе смешанных полиамидов вымыванием неосвещенных участков слоя спирто-водным раствором роданида аммония.

Однако известный раствор взаимодействует с аягезиоино-тротиюоореольным подслоем, .вызывая неустойчивость, например, печатающих элементов, приводит к повышенному набуханию печатающих элементов в растворителе.

Цель изобретения - разработка такого способа удаления фотополимерного слоя, который бы обеснечил высокие репродукционно-графические и печатно-технические свойства фотополимерных печатных форм.

Эта цель достигается тем, что неэкспонированные участки фотополимерного слоя на основе смешанных -полиамидов вымывают спиртовыми или спирто-водными растворами азотнокислого цинка.

Пример. Фогополимеризующуюся пласти ну иЗГотовляют из 1КОМ1Пози1цийследующего состава, вес. ч.:

Полиамидная смола (25%-ный раствор в 75%-ном этиловом спирте)100 Акриловая кислота45-60 Диметакрилатэтпленгликоль20-30 Бензоин0,5-1,5 Бензофенон0,5-1,5 Метиленовый синий0,01-0,15 Гидрохинон0,01-0,015

В качестве полиам идяой смолы используют смещанные синтетические гетероцепные смолы (например, из Е-капролактама и АГ-соли, Е-капролактама, АГ-соли и СГ-соли в различном соотношении полиамидообразующих смол типа 54,54/10,54,8 С-6 и других),а также их метилолпроизводные (например, клей ПФЭ 2/10) и модификаты (например, клейМПФ-1).

Фотополимерную копию получают путем экспонирования фотополимеризующейся пластины под .монтажом негативов ртутно-кварцевыми лампами в пневматической копировальHofi раме с пленочным (полиэтиленовым) покрытием. Время экспонирования 10--20 мин.

ни

го или однопроцессного травле в или микроцинковых сплавов, растворителе:

Этиловый гидролизный спирт

(96%-ный) Цинк азотнокислый

Скорость растворения неосвещенных участков фотополимерных копий зависит от вйда полиамидной смолы, температуры раствора, типа машины для растворения и составляет 3, мкм/мин иопольаоЕаиии фютооолимерной пластины из смолы С-6 и упомянутого

30подогретого до температуры

раствора, 35°С.

Предмет изобретения

Способ удаления неосвещенных участков экспонированного фотополимерпого слоя на основе смешанных полиамидов вымыванием неосвещенных участков, отличающийся тем, что, с целью обеспечения высоких репродукционных и печагных свойств фотополимерных печатных форм, ьымывание производят спиртовыми или спирто-водными растворами азотнокислого цинка.